JPS5858546A - 製版用感光性マスク材料 - Google Patents
製版用感光性マスク材料Info
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- JPS5858546A JPS5858546A JP56156961A JP15696181A JPS5858546A JP S5858546 A JPS5858546 A JP S5858546A JP 56156961 A JP56156961 A JP 56156961A JP 15696181 A JP15696181 A JP 15696181A JP S5858546 A JPS5858546 A JP S5858546A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は画1象形成材料に関し、特に印刷!8!版に用
いる感光性マスク材料に関する。
いる感光性マスク材料に関する。
従来より画像を網点でなくベタで印刷する場合、版画を
製版するために使用されるマスク版を、書現すべき画1
遼をいわゆるくくり腺で囲んで構成し7た原稿(以下〈
くり線原楠と称す)を基にして感光性材料に写真処理を
施こして作成する方法かりる。すなわちネカテイブまた
はポジティブのくくり線原禍を感光性材料の遮光性の感
光性マスクノーに焼付け、欠いて試マスクI−に応じて
視検もしくは現像とエツチングの処理を竹なうと、第1
図(イ)に示すように感光性材料1の透明フィルム2上
には原稿3のくくり載4に相当する溝5の形成された感
光性マスク層のレリーフ画像6が形成される。
製版するために使用されるマスク版を、書現すべき画1
遼をいわゆるくくり腺で囲んで構成し7た原稿(以下〈
くり線原楠と称す)を基にして感光性材料に写真処理を
施こして作成する方法かりる。すなわちネカテイブまた
はポジティブのくくり線原禍を感光性材料の遮光性の感
光性マスクノーに焼付け、欠いて試マスクI−に応じて
視検もしくは現像とエツチングの処理を竹なうと、第1
図(イ)に示すように感光性材料1の透明フィルム2上
には原稿3のくくり載4に相当する溝5の形成された感
光性マスク層のレリーフ画像6が形成される。
次い′で第1図(ロ)に示すように透明フィルム2から
レーリーフ画像6をマスクする部分i′を残して針、ナ
イフなどで剥取ると必要な11!1111が遮光性を有
しない凹部7として形成されたマスク版8が得られる。
レーリーフ画像6をマスクする部分i′を残して針、ナ
イフなどで剥取ると必要な11!1111が遮光性を有
しない凹部7として形成されたマスク版8が得られる。
そしてこうして得られたマスク販8に基づいて同様な写
真処理を施こして版lの製版が行なわれる。
真処理を施こして版lの製版が行なわれる。
ところで多色印刷をする場合、通常各色のマスク版は置
版ネガ原イA;り・ら傅られたレリーフ111111を
その色に応じた選択的剥取りによって作成されており、
金脈ネガ原稿にはある色のマスク版に不必要な他の色の
マスク版のくくり勝が含まれている。
版ネガ原イA;り・ら傅られたレリーフ111111を
その色に応じた選択的剥取りによって作成されており、
金脈ネガ原稿にはある色のマスク版に不必要な他の色の
マスク版のくくり勝が含まれている。
このくくり瞼に対応して感光性マスクl−に形成される
溝のところでは光を遮光しないので、選択的@取りによ
って各色のマスク版を作成するにあたす、つ診正液と呼
ばれる高い遮光性を有する頌布畝をll!]I揮上に壁
布、乾燥して不必安なくくり巌に相当する溝を埋め隠蔽
、消去しておく必要がある。
溝のところでは光を遮光しないので、選択的@取りによ
って各色のマスク版を作成するにあたす、つ診正液と呼
ばれる高い遮光性を有する頌布畝をll!]I揮上に壁
布、乾燥して不必安なくくり巌に相当する溝を埋め隠蔽
、消去しておく必要がある。
このことは周囲をくくり線で囲まず線そのもので描く文
字等についても同じでるる。
字等についても同じでるる。
また異なる色をぴったりと突き合せる印刷においても、
くくり稼に相当する溝の部分をどちらか一方の色になる
ようにしなければならす、他方の色のマスク版は芙き合
せる部分の画像全lに修正液を塗布、乾燥して溝を隠蔽
、消去して力・ら@取り作成する必要がある。
くくり稼に相当する溝の部分をどちらか一方の色になる
ようにしなければならす、他方の色のマスク版は芙き合
せる部分の画像全lに修正液を塗布、乾燥して溝を隠蔽
、消去して力・ら@取り作成する必要がある。
この様な目的に使用される修正液には、有愼俗剤浴液型
と水f6液型のものがるる。有機溶剤浴散型は、引火性
や臭気の点で取扱上注意を璧する。
と水f6液型のものがるる。有機溶剤浴散型は、引火性
や臭気の点で取扱上注意を璧する。
また水溶液型も乾燥が非常に遅く作業上能率が恋いなど
の欠点を有する。
の欠点を有する。
史に、修正液の塗布には平らな広い場次と均一に塗布す
る技術が必要であり、製版の作東工程上改良の要求され
る部分でめった。
る技術が必要であり、製版の作東工程上改良の要求され
る部分でめった。
本発明はかかる仮米の難点に為みなされたもので、その
%似とするところは透明フィルム支持体上に合鴨薄膜層
を形成して該博m+*により遮5Y:、性を持たせると
ともに、■博腺層の上に形成する感光性マスク層を強靭
な皮1漠性を有しかつ金属薄j膜層と強固な接着力を有
するものとし、ネガティブなレリーフ画像を剥離したと
き一緒に下の金槁博膜僧を同形に剥離させて必要な画1
家を形成し、くくり稼および文字等を描いた線に対応す
る金属薄yr−は透明フィルム上に常に残存するように
した点にある。
%似とするところは透明フィルム支持体上に合鴨薄膜層
を形成して該博m+*により遮5Y:、性を持たせると
ともに、■博腺層の上に形成する感光性マスク層を強靭
な皮1漠性を有しかつ金属薄j膜層と強固な接着力を有
するものとし、ネガティブなレリーフ画像を剥離したと
き一緒に下の金槁博膜僧を同形に剥離させて必要な画1
家を形成し、くくり稼および文字等を描いた線に対応す
る金属薄yr−は透明フィルム上に常に残存するように
した点にある。
以下本発明の詳細な説明する、
本発明の感光性マスク材料は、第2図に示すように透明
フィルムの支持体9上に金属薄膜層1゜を形成し、該薄
膜1−10の上にこれと強固に接着しかつ強靭な皮膜性
を有する感光性マスク層11を形成して構成される。
フィルムの支持体9上に金属薄膜層1゜を形成し、該薄
膜1−10の上にこれと強固に接着しかつ強靭な皮膜性
を有する感光性マスク層11を形成して構成される。
本発明で1史用する支持体9としては、平滑な次面を崩
し、かつその上に金属薄膜を設けることができるフィル
ム形成性熱可塑性菌分子化合物のフィルムが用いられる
。例えばポリエステル、ポリ ゛カーボネート、ポリア
ミド、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン
、ポリメチルメタアクリレートおよびこれらの共ポ合体
、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ク
ロビルセルロースおよび混合セルロースエステルが挙ケ
ら几る。このうち寸法安定性に漫れた二軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートフィルムは特に好1しI/)。
し、かつその上に金属薄膜を設けることができるフィル
ム形成性熱可塑性菌分子化合物のフィルムが用いられる
。例えばポリエステル、ポリ ゛カーボネート、ポリア
ミド、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン
、ポリメチルメタアクリレートおよびこれらの共ポ合体
、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ク
ロビルセルロースおよび混合セルロースエステルが挙ケ
ら几る。このうち寸法安定性に漫れた二軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートフィルムは特に好1しI/)。
金M博j換層10を形成する金緘は、各棟の成膜手段に
よって薄膜を形成できるものならばどれでも使用できる
。金椙薄膜層の厚さは、少なくとも50μあることづ;
好ましい。これ以下では、4光効果に乏しい。膜厚の上
限に関しては1000μ以下が好ましい。これ以上では
、金m腺の皮膜性が強くなり、本発明に従って、部分的
に争J離した場合、画像の解像力が悪化する。
よって薄膜を形成できるものならばどれでも使用できる
。金椙薄膜層の厚さは、少なくとも50μあることづ;
好ましい。これ以下では、4光効果に乏しい。膜厚の上
限に関しては1000μ以下が好ましい。これ以上では
、金m腺の皮膜性が強くなり、本発明に従って、部分的
に争J離した場合、画像の解像力が悪化する。
成膜手段としては、気化法、スパッタリング法などの真
空蒸着法、無′wL解メッキ法、またはこれらとさらに
電解メッキ法とを組合ぜた方法が採用される。
空蒸着法、無′wL解メッキ法、またはこれらとさらに
電解メッキ法とを組合ぜた方法が採用される。
典空盛着呵龍な谷狸金編としては、アルミ、=ラム、亜
鉛、m、金、ニッケル、綱、クロムコバルト、鉄などが
あり、更に各棟合金も、スパッタリング法により魚屑可
能である。無電解メッキは、任意公知方法により、銅、
ニッケル、コバルト、金、パラージウム、徽、ニッケル
ーコバル) 合Q 7’l”用いられる。
鉛、m、金、ニッケル、綱、クロムコバルト、鉄などが
あり、更に各棟合金も、スパッタリング法により魚屑可
能である。無電解メッキは、任意公知方法により、銅、
ニッケル、コバルト、金、パラージウム、徽、ニッケル
ーコバル) 合Q 7’l”用いられる。
−ffに、使用可能な合端の範囲が広いこと、処理が準
線かつ尚速であることなどから真空蒸着法が秀れている
。
線かつ尚速であることなどから真空蒸着法が秀れている
。
金)f4薄膜と支持体との接着力を!跨に変化させる目
的で、支持体上に表面処理な設すこともできる。
的で、支持体上に表面処理な設すこともできる。
表面処理法としては、コロナ放電処理、アルカリエッチ
処理、更に、谷橿有磯、無愼物買を2μを限度として塗
布するなどの公知jBL術が利用できる。
処理、更に、谷橿有磯、無愼物買を2μを限度として塗
布するなどの公知jBL術が利用できる。
感光性マスク層11は写真処理を社てネガティブレリー
フi[!111#!に形成後剥離するので、良好なフィ
ルム形成性及び適当なフィルムf1度を有することが必
要でめる。また、#l能により下の金嬌博課も同時に支
持体より取り去るために、金M4博腺と強固な1妾着力
を有することが必要でめる。
フi[!111#!に形成後剥離するので、良好なフィ
ルム形成性及び適当なフィルムf1度を有することが必
要でめる。また、#l能により下の金嬌博課も同時に支
持体より取り去るために、金M4博腺と強固な1妾着力
を有することが必要でめる。
感光性マスク層はバインダー用尚分子化合物および感光
剤刀・らなる感′yt、a組成物)−一層で形成しても
良く、皮膜性を有する高分子化合物層を下1−に感光性
組成物層を上層に積層した21−構造にしても良い。
剤刀・らなる感′yt、a組成物)−一層で形成しても
良く、皮膜性を有する高分子化合物層を下1−に感光性
組成物層を上層に積層した21−構造にしても良い。
この場合、感光性マスクj―を2虐構造にしたものでは
、感光剤としての機能と剥離のための皮膜の深能とを分
離できるので、感光性組成@r−−盾のように剥離性と
感度低下防止を考慮する必要がなくなる。
、感光剤としての機能と剥離のための皮膜の深能とを分
離できるので、感光性組成@r−−盾のように剥離性と
感度低下防止を考慮する必要がなくなる。
感光性組成物としてはネガ型、ポジ型の両者を用いるこ
と≠;できるC ネガ型の感光性組成物に用いられる感光剤としては、4
−ジアゾジフェニルアミン愼ハ塩とホルムアルデヒドと
の縮合物、4−ジアゾジフェニルアミン塩化亜鉛塩とホ
ルムアルデヒドとの締付物。
と≠;できるC ネガ型の感光性組成物に用いられる感光剤としては、4
−ジアゾジフェニルアミン愼ハ塩とホルムアルデヒドと
の縮合物、4−ジアゾジフェニルアミン塩化亜鉛塩とホ
ルムアルデヒドとの締付物。
4−ジアゾジフェニルアミン四弗化硼酸塩とホルムアル
デヒドとの締合物、4−ジアゾジフェニルアミンeドデ
シルベンゼンスルホンF1[のホルムアルデヒド紬合物
があるC感光性マスク層を感光性組成物−盾で形成する
ときは)(イングー用高分子化合物に対する感光剤の言
有瀘は3〜50% であり、望ましくは5〜30%であ
る。
デヒドとの締合物、4−ジアゾジフェニルアミンeドデ
シルベンゼンスルホンF1[のホルムアルデヒド紬合物
があるC感光性マスク層を感光性組成物−盾で形成する
ときは)(イングー用高分子化合物に対する感光剤の言
有瀘は3〜50% であり、望ましくは5〜30%であ
る。
ネガ型の感光性組成物に用いられるバイングー用高分子
化合物としては、ポリビニルアルマール、ボ、リアクリ
ルアミド、ポリビニルピロリドン、ボリビニルメククリ
レートとマレイン酸共重合体、アルコール可鹸性ポリア
ミド、アクリルアミドとダイ゛アセトンアクリルアミド
の共重合体、部分ケン化酢酸ビニルがおる。これらの尚
分子化合物は単独でも2橿以上を組合せても用いること
ができる。
化合物としては、ポリビニルアルマール、ボ、リアクリ
ルアミド、ポリビニルピロリドン、ボリビニルメククリ
レートとマレイン酸共重合体、アルコール可鹸性ポリア
ミド、アクリルアミドとダイ゛アセトンアクリルアミド
の共重合体、部分ケン化酢酸ビニルがおる。これらの尚
分子化合物は単独でも2橿以上を組合せても用いること
ができる。
ポジ型の感光性組成物の感光剤としては、オルソキノン
ジアジド化合物がある。この場合、感光性マスクJ−を
感光性組成物−盾で形成するときは、バイングー用高分
子化合物に対する感光剤の含竹鼠は5〜50%であり、
望1しくけ10〜30%で必る、 ポジ型の感光性組成物のバインダー川面分子化
゛汁物としては、アルカリ可溶法アクリル共亜合体、ポ
リビニル−3−メトキシ−4−ヒドロキシベンザール、
ポリビニルホルマール、ホリピニルノテラール、ポリ酢
酸ビニルがるり、これらの尚分子化合物は単独でも2橿
以上を組合せても用いることができる。
ジアジド化合物がある。この場合、感光性マスクJ−を
感光性組成物−盾で形成するときは、バイングー用高分
子化合物に対する感光剤の含竹鼠は5〜50%であり、
望1しくけ10〜30%で必る、 ポジ型の感光性組成物のバインダー川面分子化
゛汁物としては、アルカリ可溶法アクリル共亜合体、ポ
リビニル−3−メトキシ−4−ヒドロキシベンザール、
ポリビニルホルマール、ホリピニルノテラール、ポリ酢
酸ビニルがるり、これらの尚分子化合物は単独でも2橿
以上を組合せても用いることができる。
2層構造の感光性マスク層における皮膜(1!!には、
先に掲げた感光性組成物層の形成に用l/)るノくイン
グー用高分子化合物の他に、これに使用でさ−ない5虫
靭な高分子1ヒ合′471J ’lも用いることができ
る。、ψ13とし、では、カプロラクタム、ヘキサメチ
レンジアミレアジペートと4,4′−ジアミノジシクロ
ヘキシルメタンアジペートの共1合体、各種ポリアミド
のへ一メチロール誘導体などアルコールロ」@筏ポリア
ミドがめる。
先に掲げた感光性組成物層の形成に用l/)るノくイン
グー用高分子化合物の他に、これに使用でさ−ない5虫
靭な高分子1ヒ合′471J ’lも用いることができ
る。、ψ13とし、では、カプロラクタム、ヘキサメチ
レンジアミレアジペートと4,4′−ジアミノジシクロ
ヘキシルメタンアジペートの共1合体、各種ポリアミド
のへ一メチロール誘導体などアルコールロ」@筏ポリア
ミドがめる。
感光性組成物1−中には、その感光機構に思郵書を及ぼ
さない(収り、染料または調料を添加することができる
。本発明においては金槁薄腺膚により遮光性を持た亡て
いるので遮光性付与のためには不安であるが、このdj
j加によって1ffll像の状態の雑誌を容易にし、符
にレリーフ画揮の端部がシャープに仕上がったかとかの
雉認を容易にすることができ、る、 次にかかる感光性マスク材料を用いた製版用マスク版の
作成について述べる。
さない(収り、染料または調料を添加することができる
。本発明においては金槁薄腺膚により遮光性を持た亡て
いるので遮光性付与のためには不安であるが、このdj
j加によって1ffll像の状態の雑誌を容易にし、符
にレリーフ画揮の端部がシャープに仕上がったかとかの
雉認を容易にすることができ、る、 次にかかる感光性マスク材料を用いた製版用マスク版の
作成について述べる。
透明フィルム9上に金M博腺層1u、感光性マス、り盾
11が11次形成された感光性マスク材料12(第2図
参照)に、第3図ピ)に示すようにネガティブ又はポジ
ティブのくくり#i!原横13を1ねて活性光線を4光
し、現像すると、感光性マスク層11のタイプに応じて
路光部分又は木嬉光郵分が浴出し、例えば図のように原
種13のくくり趣14に相当するところが溝15になっ
たネガティブなレリーフ1117像16が形成される、
この場合、感光性マスク層11が高分子化合物の皮膜増
と感光・注組成vlJ盾の21−からなるときは感光性
組成物層の現像の他に高分子化合物の皮膜111のエツ
チング処理な費すル、 次いで第3図(ロ)のようにマ、スクする部分16′を
残し、てレリーフI[!ll揮1bを剥取ると、下の金
属薄膜層10も一層にレリーフ画1″!Jと同形に剥取
られ、必安なll1I像が凹s1Cとし工形成されたマ
スク販1Bが侍られる: ここで原稿13のくくり[14に対応する釜鴨博腺層の
部分15′は、その上にレリーフl[!il揮1tiが
ないので剥離されず透明フイルムリ上に残り。
11が11次形成された感光性マスク材料12(第2図
参照)に、第3図ピ)に示すようにネガティブ又はポジ
ティブのくくり#i!原横13を1ねて活性光線を4光
し、現像すると、感光性マスク層11のタイプに応じて
路光部分又は木嬉光郵分が浴出し、例えば図のように原
種13のくくり趣14に相当するところが溝15になっ
たネガティブなレリーフ1117像16が形成される、
この場合、感光性マスク層11が高分子化合物の皮膜増
と感光・注組成vlJ盾の21−からなるときは感光性
組成物層の現像の他に高分子化合物の皮膜111のエツ
チング処理な費すル、 次いで第3図(ロ)のようにマ、スクする部分16′を
残し、てレリーフI[!ll揮1bを剥取ると、下の金
属薄膜層10も一層にレリーフ画1″!Jと同形に剥取
られ、必安なll1I像が凹s1Cとし工形成されたマ
スク販1Bが侍られる: ここで原稿13のくくり[14に対応する釜鴨博腺層の
部分15′は、その上にレリーフl[!il揮1tiが
ないので剥離されず透明フイルムリ上に残り。
油性元機を照射し7たときく−<リーに相当する部分は
遮光される。原稿13のくくり?fM14には他の色の
マスク版を作成するために使用されるも、のが言まれて
いるが、子属薄膜゛層と【7て残存し、ているため便米
行なっていた1−圧液による隠敵、消去の作業が不安と
なるCまた従来の感光性材料からFl−yA桶を用いて
他の色のマスク版を作成すると該マスク版ではくくり―
に相当する部分は溝に形成され遮光1.7ないようにな
つ又いるので、これと上−記のように作成L−たマスク
版とを組脅せることにより、異なる色をぴったり突き合
せて印刷できる版面を製版できる。
遮光される。原稿13のくくり?fM14には他の色の
マスク版を作成するために使用されるも、のが言まれて
いるが、子属薄膜゛層と【7て残存し、ているため便米
行なっていた1−圧液による隠敵、消去の作業が不安と
なるCまた従来の感光性材料からFl−yA桶を用いて
他の色のマスク版を作成すると該マスク版ではくくり―
に相当する部分は溝に形成され遮光1.7ないようにな
つ又いるので、これと上−記のように作成L−たマスク
版とを組脅せることにより、異なる色をぴったり突き合
せて印刷できる版面を製版できる。
次に本発明を実施例に基づき更に詳述する。
実施9131
平均産金1j17LlOの完全ケ/化ポリビニルアルコ
ール10y及び4−ジアゾジフェニルアミン雲酸塩とホ
ルムアルデヒドとの帷8物0.5gを、丞89.5iJ
に溶解し、固型分含有慮10.5%の感光性組成vlJ
浴赦を調製した。
ール10y及び4−ジアゾジフェニルアミン雲酸塩とホ
ルムアルデヒドとの帷8物0.5gを、丞89.5iJ
に溶解し、固型分含有慮10.5%の感光性組成vlJ
浴赦を調製した。
また厚さ100μのポリエチレンテレフタレートフィル
ムの片面に、アルミニウムな^空amして膜厚100μ
のアルミニウム薄膜層を形成し友。
ムの片面に、アルミニウムな^空amして膜厚100μ
のアルミニウム薄膜層を形成し友。
次にアルミニウム薄膜層上に前記の感光仕組ぼ゛物浴敵
を、乾燥後の膜厚が10μとなるような菫で、ワイヤー
バーを用いて塗布後90°Cで3分間乾燥して感光性マ
スク層を形成し、1ll111!形成材料ケ得た。
を、乾燥後の膜厚が10μとなるような菫で、ワイヤー
バーを用いて塗布後90°Cで3分間乾燥して感光性マ
スク層を形成し、1ll111!形成材料ケ得た。
この感光性マスク層上にホジのくくり一原種を@看させ
、1m離れた21J高圧水嬶灯から50′If!p間光
を照射し、た。このフィルムな充水・にて現像すると、
アルミニウム薄膜I−上に原稿に思爽なネガのレリーフ
I[!Il圀が侍られたに のL/ IJ−)I[!ll塚を針等で選択的に剥離す
ることにより、アルミニウムー#腺1曽は剥離(7たレ
リー 〕I[!Ll像のところが一栢に同形に剥がさ
れ他の部分が残存された還元性の向いマスク版ができた
□この方法により作成した各色のマスク版は、全面に1
4正液を慮佑する必資もなく、直ちに製版に使用でき作
業工程を軽減させることができた。
、1m離れた21J高圧水嬶灯から50′If!p間光
を照射し、た。このフィルムな充水・にて現像すると、
アルミニウム薄膜I−上に原稿に思爽なネガのレリーフ
I[!Il圀が侍られたに のL/ IJ−)I[!ll塚を針等で選択的に剥離す
ることにより、アルミニウムー#腺1曽は剥離(7たレ
リー 〕I[!Ll像のところが一栢に同形に剥がさ
れ他の部分が残存された還元性の向いマスク版ができた
□この方法により作成した各色のマスク版は、全面に1
4正液を慮佑する必資もなく、直ちに製版に使用でき作
業工程を軽減させることができた。
実施例2
平均重合度700のアクリルアミド−ダイア七トンアク
リルアミド共亜合体(共重合比6 : 4 )10g1
4−ジアゾジフェニルアミン塩化唾鉛堪とホルムアルデ
ヒドとの紬金物0,7.9を水89.:l+6に溶解し
、固型分含有jl 10.7%の感光性組成物浴敵をy
4整した。
リルアミド共亜合体(共重合比6 : 4 )10g1
4−ジアゾジフェニルアミン塩化唾鉛堪とホルムアルデ
ヒドとの紬金物0,7.9を水89.:l+6に溶解し
、固型分含有jl 10.7%の感光性組成物浴敵をy
4整した。
1ft厚さ100μのポリエチレンテレフタレートフィ
ルムの片面に、銅をスパッタリング伝により7 Azゴ
ンガス圧5XIO−、’ torr テ:J −f
イ/f L、膜厚100μの銅薄膜層を形成しfc0銅
薄膜上に前日己の感光性組成v!J浴欣を、乾燥後の膜
厚かlOμとなるような菫で、ワイヤーノ(−を用いて
塗布体90℃で3分間乾珠して一渾形成材料を併たに f?ll!l1112形成材料を、笑m例1に使って路
光。
ルムの片面に、銅をスパッタリング伝により7 Azゴ
ンガス圧5XIO−、’ torr テ:J −f
イ/f L、膜厚100μの銅薄膜層を形成しfc0銅
薄膜上に前日己の感光性組成v!J浴欣を、乾燥後の膜
厚かlOμとなるような菫で、ワイヤーノ(−を用いて
塗布体90℃で3分間乾珠して一渾形成材料を併たに f?ll!l1112形成材料を、笑m例1に使って路
光。
机渾すると鋼博腺上に原種に忠実なネガのし+7−)画
像が侍られた。
像が侍られた。
レリーフ1III像を部分的に剥離したマスク版は修正
の必要本なく直ちに製版に使用できた。
の必要本なく直ちに製版に使用できた。
0″7° 9ホルマ一ル分8
1%、′アセデート分9〜13、アルコール分5〜6,
5obのポリビニルホルマール凋脂10g及び、1.2
−ナフトキノン−ジアジド(2) −4−スルフォン賊
のノボラックエステル3gを1.2−ジクロルエタン8
7gに、#解し、感光性組成vlJ俗液とした。
1%、′アセデート分9〜13、アルコール分5〜6,
5obのポリビニルホルマール凋脂10g及び、1.2
−ナフトキノン−ジアジド(2) −4−スルフォン賊
のノボラックエステル3gを1.2−ジクロルエタン8
7gに、#解し、感光性組成vlJ俗液とした。
また厚さ100μのポリエチレンテレフタレートフィル
ムの片面にアルミニウムを真空魚倉し、腺犀iooμの
アルミニウム薄膜層を形成・したC ゛アルミニウム薄
膜上に、前記の感光性組成′@疹叡を、乾燥後の膜厚が
5μとなるふうな首で、ワイヤーバーを用いて塗布後9
0℃で3分間乾沫して、@像形成材料を得た、 感光性マスク層上にネガのくくり−yA41i1を密層
場せ、実施例10元源にて50抄間繕尤した。
ムの片面にアルミニウムを真空魚倉し、腺犀iooμの
アルミニウム薄膜層を形成・したC ゛アルミニウム薄
膜上に、前記の感光性組成′@疹叡を、乾燥後の膜厚が
5μとなるふうな首で、ワイヤーバーを用いて塗布後9
0℃で3分間乾沫して、@像形成材料を得た、 感光性マスク層上にネガのくくり−yA41i1を密層
場せ、実施例10元源にて50抄間繕尤した。
仄いてサルチル酸ナトリウム3UO!I%水ハ化すトリ
ウム 10gを水700 mgに浴解させて堝像欣を調
歪し、前記繕光倫フィルムを凍漬して約5号間現11k
し71ヒ1、 水洗、乾燥して得られたフィルムには、アルミ薄朕上に
、原稿に忠実なネガ@渾が形成さ扛ており、実施辺31
.2と同殊に修正液による処理をすることなく選択的に
剥離して、そのままマス、り處として製版に供すること
ができた。
ウム 10gを水700 mgに浴解させて堝像欣を調
歪し、前記繕光倫フィルムを凍漬して約5号間現11k
し71ヒ1、 水洗、乾燥して得られたフィルムには、アルミ薄朕上に
、原稿に忠実なネガ@渾が形成さ扛ており、実施辺31
.2と同殊に修正液による処理をすることなく選択的に
剥離して、そのままマス、り處として製版に供すること
ができた。
実力中41ンリ4
カプロラクタム、ヘキサトチレンジアミンアジペート及
び4.4′−ジアミノジシクロヘキシルメタンアジペー
トの共重合体(BASF社よりtJi、’l’)tAM
ID−tc として市販)の10%のメタノール溶液
を調製した。
び4.4′−ジアミノジシクロヘキシルメタンアジペー
トの共重合体(BASF社よりtJi、’l’)tAM
ID−tc として市販)の10%のメタノール溶液
を調製した。
アルミニウムを100μ真窒蒸層した100μのポリエ
ステルフィルムのアルミの上に上記の欲を堕布乾煉して
10μの塗膜とした。
ステルフィルムのアルミの上に上記の欲を堕布乾煉して
10μの塗膜とした。
更にこの上にナフトキノン(1,2)ジアジド(,2)
−5−スルホンばソーダのノボラックレジンエステル
の20%のメチルエチルケトン、ドルオール(1: 1
)齢液を3μの乾燥層膜となるよう塗布した。
−5−スルホンばソーダのノボラックレジンエステル
の20%のメチルエチルケトン、ドルオール(1: 1
)齢液を3μの乾燥層膜となるよう塗布した。
このフィルムを原稿と合わせ索外婦露光彼、カセイソー
ダのアルカリ水浴准で現1家した。
ダのアルカリ水浴准で現1家した。
、更に感光面上をP−クロル女息合酸の中amの20%
水浴液でこするとアルミ増土にレリーフ画揮ができた。
水浴液でこするとアルミ増土にレリーフ画揮ができた。
このレリーフ111111をナイフ等で、持ち上げ@離
すると、レリーフ下部のアルミ膚も剥離して、マスク版
ができ、修正液による処理を施すことなくそのまま製版
に供することができた。
すると、レリーフ下部のアルミ膚も剥離して、マスク版
ができ、修正液による処理を施すことなくそのまま製版
に供することができた。
以上の実施例からも明らかなように本発明の製版用感光
性マスク材料は、透明フィルム支持棒の上に金属薄膜層
を形成し、該博膜層の上にこれと強固に接着しかつ皮膜
性を有する感光性マスクJ−を形成して構成され、写真
処理によって形成された感光性マスク層のレリーフ11
!1111を選択的に剥離することによって一緒に金属
薄膜層を剥離したレリーフ11111家と同形に剥取り
、原稿のくくり巌に対〕 応する金)/I4傳腺膚の部分は透明フィルム上に残存
させて遮光性を有するようにしているので、6色のマス
ク)収を作成するにあたり修正液による11!、敵、消
去の作業が年女となり、製版の作条能力が者しく向上す
る。
性マスク材料は、透明フィルム支持棒の上に金属薄膜層
を形成し、該博膜層の上にこれと強固に接着しかつ皮膜
性を有する感光性マスクJ−を形成して構成され、写真
処理によって形成された感光性マスク層のレリーフ11
!1111を選択的に剥離することによって一緒に金属
薄膜層を剥離したレリーフ11111家と同形に剥取り
、原稿のくくり巌に対〕 応する金)/I4傳腺膚の部分は透明フィルム上に残存
させて遮光性を有するようにしているので、6色のマス
ク)収を作成するにあたり修正液による11!、敵、消
去の作業が年女となり、製版の作条能力が者しく向上す
る。
第1図(イ)、(ロ)は従来の製版用マスク材料におけ
るネガティブなレリーフ画隊を選択的に剥離して、マス
ク版を作成するところを説明するための断面図、第2図
は本発明の製版用マスク材料を示す断面図、第3図(イ
ラ、(ロ)は本発明の製版用マスク材料におりるマスク
版を作成するところを説明するための断■図である。 9・・・・・・透明フィルム 10・・・金属薄膜層 11・・・感光性マスク!曽 代理人 弁理士 守 谷 −選 第 2 図 弗 3 図
るネガティブなレリーフ画隊を選択的に剥離して、マス
ク版を作成するところを説明するための断面図、第2図
は本発明の製版用マスク材料を示す断面図、第3図(イ
ラ、(ロ)は本発明の製版用マスク材料におりるマスク
版を作成するところを説明するための断■図である。 9・・・・・・透明フィルム 10・・・金属薄膜層 11・・・感光性マスク!曽 代理人 弁理士 守 谷 −選 第 2 図 弗 3 図
Claims (1)
- 透明フィルムを支持体としてこれに金@7専)良1−を
形成し、該#膜層の上にこれと強固に接層しかつ皮膜性
を有する感光性マスク層を形成したことを%徴とする製
版用感光性マスクi才科。
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| JP56156961A JPS5858546A (ja) | 1981-10-02 | 1981-10-02 | 製版用感光性マスク材料 |
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|---|---|---|---|---|
| JPS59187340A (ja) * | 1983-08-01 | 1984-10-24 | Kimoto & Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPS6043660A (ja) * | 1983-08-19 | 1985-03-08 | Kimoto & Co Ltd | フオトマスキングフイルム |
| JP2019502143A (ja) * | 2016-01-27 | 2019-01-24 | エルジー・ケム・リミテッド | フィルムマスク、その製造方法、これを用いたパターンの形成方法およびこれを用いて形成されたパターン |
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Families Citing this family (6)
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|---|---|---|---|---|
| GB2132789A (en) * | 1982-11-24 | 1984-07-11 | Western Electric Co | Method of pattern generation |
| US5108868A (en) * | 1988-10-21 | 1992-04-28 | Hoechst Celanese Corporation | Negative working, peel developable, single sheet color proofing method |
| US5518857A (en) * | 1991-03-28 | 1996-05-21 | Aicello Chemical Co., Ltd. | Image-carrying mask photo-sensitive laminate film for use in making an image carry mask |
| EP0702806B1 (en) * | 1994-04-12 | 1999-03-03 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of photolithographically metallizing at least the inside of holes arranged in accordance with a pattern in a plate of an electrically insulating material |
| US5993945A (en) * | 1996-05-30 | 1999-11-30 | International Business Machines Corporation | Process for high resolution photoimageable dielectric |
| US6022670A (en) * | 1997-05-08 | 2000-02-08 | International Business Machines Corporation | Process for high resolution photoimageable dielectric |
Family Cites Families (21)
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|---|---|---|---|---|
| US3067034A (en) * | 1957-01-22 | 1962-12-04 | Clifford P Chapman | Photographic method for producing silhouette images |
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| GB1441982A (en) * | 1973-01-18 | 1976-07-07 | Autotype Co Ltd | Dry transfer sheets |
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| JPS5821257B2 (ja) * | 1974-04-25 | 1983-04-28 | 富士写真フイルム株式会社 | キンゾクガゾウケイセイザイリヨウ |
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| US4205989A (en) * | 1976-04-14 | 1980-06-03 | Kimoto & Co., Ltd. | Dry system image producing element |
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| GB1581435A (en) * | 1976-05-07 | 1980-12-17 | Letraset International Ltd | Production of dry transfer materials |
| JPS6020735B2 (ja) * | 1976-06-28 | 1985-05-23 | 富士写真フイルム株式会社 | 剥離現像可能な感光材料を用いる画像形成方法 |
| US4271257A (en) * | 1976-09-20 | 1981-06-02 | Energy Conversion Devices, Inc. | Imaging film of bismuth or bismuth alloy |
| GB2026185B (en) * | 1978-05-10 | 1982-12-15 | Letraset International Ltd | Manufacture of transfer materials |
| GB2020837A (en) * | 1978-05-11 | 1979-11-21 | Polychrome Corp | Multi-layered Image Forming Construction Having a Release Layer |
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| JPS55164647U (ja) * | 1979-05-11 | 1980-11-26 | ||
| DE3032134A1 (de) * | 1979-08-28 | 1981-03-19 | Fuji Photo Film Co. Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa | Lichtempfindliches bildausbildungsmaterial |
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-
1984
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Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59187340A (ja) * | 1983-08-01 | 1984-10-24 | Kimoto & Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPS6043660A (ja) * | 1983-08-19 | 1985-03-08 | Kimoto & Co Ltd | フオトマスキングフイルム |
| JP2019502143A (ja) * | 2016-01-27 | 2019-01-24 | エルジー・ケム・リミテッド | フィルムマスク、その製造方法、これを用いたパターンの形成方法およびこれを用いて形成されたパターン |
| US10969677B2 (en) | 2016-01-27 | 2021-04-06 | Lg Chem, Ltd. | Film mask, method for manufacturing same, and method for forming pattern using film mask |
| US10969686B2 (en) | 2016-01-27 | 2021-04-06 | Lg Chem, Ltd. | Film mask, method for manufacturing same, and method for forming pattern using film mask and pattern formed thereby |
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