JPS5861109A - 共重合体の製造方法 - Google Patents
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- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 title claims abstract description 44
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 39
- -1 vinylbenzyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 abstract description 15
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 9
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000003973 paint Substances 0.000 abstract description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 abstract 2
- KXQZOCKWLKXEBU-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-ethenyl-1-methylcyclohexa-2,4-dien-1-yl)methoxymethyl]-3,5,8-trioxabicyclo[2.2.2]octane Chemical compound O1CC(CO2)COC12COCC1(C)CC=C(C=C)C=C1 KXQZOCKWLKXEBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 abstract 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 11
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 10
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 5
- 230000009102 absorption Effects 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 4
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 4
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 3
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 3
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RBGUKBSLNOTVCD-UHFFFAOYSA-N 1-methylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C RBGUKBSLNOTVCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 1-penten-3-one Chemical compound CCC(=O)C=C JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2,2'-azo-bis-isobutyronitrile Substances N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N Diphenyl disulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SSC1=CC=CC=C1 GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000012053 oil suspension Substances 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloroethene Chemical group ClC(Cl)=C LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAYTZRYEBVHVLE-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxol-2-one Chemical compound O=C1OC=CO1 VAYTZRYEBVHVLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNSNJGRCQCDRDM-UHFFFAOYSA-N 1-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl YNSNJGRCQCDRDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFZHODLXYNDBSM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 YFZHODLXYNDBSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMWVYCCGCQPJEA-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(tert-butylperoxy)-2,5-dimethylhexane Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)CCC(C)(C)OOC(C)(C)C DMWVYCCGCQPJEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical class FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-(4-propan-2-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSMGLVDZZMBWQB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 BSMGLVDZZMBWQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCPOKPFKMYZWBC-UHFFFAOYSA-N 2-octoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCCCCCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 QCPOKPFKMYZWBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 3-methylfuran-2,5-dione Chemical compound CC1=CC(=O)OC1=O AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBZMQWPBAUBAPO-UHFFFAOYSA-N 4-ethenyl-n,n-diethylaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(C=C)C=C1 CBZMQWPBAUBAPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNTUCKQYWGHZPK-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylbenzonitrile Chemical compound C=CC1=CC=C(C#N)C=C1 SNTUCKQYWGHZPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- LYJHVEDILOKZCG-UHFFFAOYSA-N Allyl benzoate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 LYJHVEDILOKZCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N Di-Et ester-Fumaric acid Natural products CCOC(=O)C=CC(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N Diethyl maleate Chemical compound CCOC(=O)\C=C/C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100028139 Oxytocin receptor Human genes 0.000 description 1
- 101710103206 Oxytocin receptor Proteins 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium peroxydisulfate Substances [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)OOS([O-])=O VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001448 anilines Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N butyronitrile Chemical compound CCCC#N KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940114081 cinnamate Drugs 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical class OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000006298 dechlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000004989 dicarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- VKNUORWMCINMRB-UHFFFAOYSA-N diethyl malate Chemical compound CCOC(=O)CC(O)C(=O)OCC VKNUORWMCINMRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000012990 dithiocarbamate Substances 0.000 description 1
- 150000004659 dithiocarbamates Chemical class 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 238000010556 emulsion polymerization method Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- WGXGKXTZIQFQFO-CMDGGOBGSA-N ethenyl (e)-3-phenylprop-2-enoate Chemical compound C=COC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WGXGKXTZIQFQFO-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical class OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Chemical class OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M pent-4-enoate Chemical compound [O-]C(=O)CCC=C HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical compound C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000010558 suspension polymerization method Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M trans-cinnamate Chemical compound [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000007964 xanthones Chemical class 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はエチレン性不飽和化合物からなる共電体の製造
法に関し、さらKくわしくはビニルベンジル基を有する
ビシクロオルソエステル化合物とエチレン性不飽和化合
物との共重合体の製造法に関するものである。
法に関し、さらKくわしくはビニルベンジル基を有する
ビシクロオルソエステル化合物とエチレン性不飽和化合
物との共重合体の製造法に関するものである。
一般に、エチレン性不飽和化合物等の単量体が単独重合
及び共重合時にかな抄大きい体積収縮を起すことは周知
であり、例えばエチレン、アクリロニトリル、メタクリ
ル酸メチル及びスチレンの重合時の体積収縮率はそれぞ
れ66.0慢、31.0チ、21.2%及び14.5チ
である。
及び共重合時にかな抄大きい体積収縮を起すことは周知
であり、例えばエチレン、アクリロニトリル、メタクリ
ル酸メチル及びスチレンの重合時の体積収縮率はそれぞ
れ66.0慢、31.0チ、21.2%及び14.5チ
である。
重合時の体積収縮が大きいと、例えば成形材料として使
用した場合に寸法精度がでないとか、注型材料として使
用した場合には鋳込み品に収縮による歪がかかるとか、
型との接着力の低下や隙間が生じるなどの問題がある。
用した場合に寸法精度がでないとか、注型材料として使
用した場合には鋳込み品に収縮による歪がかかるとか、
型との接着力の低下や隙間が生じるなどの問題がある。
また、塗料として使用した場合、内部歪による塗板との
密着性の低下やそりの原因になり、接着剤として使用し
た場合にも、内部歪による接着力の低下やそり、変形な
どの使用上の問題を生ずる。
密着性の低下やそりの原因になり、接着剤として使用し
た場合にも、内部歪による接着力の低下やそり、変形な
どの使用上の問題を生ずる。
更に、通常の架橋性重合体が架橋硬化する際に収縮する
ことも公知である。エポキシ樹脂はエポキシ基の開環に
よる架橋硬化時における収縮率が小さいために、塗料、
接着剤、寸法精度を要する成形品、鋳込み品等として広
く利用されて−る。エポキシ樹脂の収縮率は架橋剤の種
類、硬化時間及び温度により多少異なるが、1〜数−程
度である(高分子、27巻2月号。
ことも公知である。エポキシ樹脂はエポキシ基の開環に
よる架橋硬化時における収縮率が小さいために、塗料、
接着剤、寸法精度を要する成形品、鋳込み品等として広
く利用されて−る。エポキシ樹脂の収縮率は架橋剤の種
類、硬化時間及び温度により多少異なるが、1〜数−程
度である(高分子、27巻2月号。
1978年、第108〜111頁参照)。
単量体の重合時又は重合体の架橋時に実質的に収縮しな
いか望ましくは膨張を伴なう物質は、歪のない複合材料
、接着剤、注型材料等精巧な機器の製作材料として現在
きわめて重要視され、探究されている。
いか望ましくは膨張を伴なう物質は、歪のない複合材料
、接着剤、注型材料等精巧な機器の製作材料として現在
きわめて重要視され、探究されている。
本発明者らは、エチレン性不飽和化合物に関する新規共
重合体について鋭意研究を重ねた結果、ビニルベンジル
基を有するビシクロオルソエステル化合物がきわめて好
ましい共単量体であることを知った。
重合体について鋭意研究を重ねた結果、ビニルベンジル
基を有するビシクロオルソエステル化合物がきわめて好
ましい共単量体であることを知った。
本発明の目的は、ビニルベンジル基を有するビシクロオ
ルソエステル化合物とエチレン性不飽和化合物とからな
る下式〔■〕で示される新規共重合体の製造法を提供す
ることにあり、本発明方法により製造される共重合体は
その保有するビシクロオルソエステル基の開環によ抄架
橋可能であって、架橋時に収縮をほとんど起さないかま
たは僅かに膨張するという優れた特性を有する。
ルソエステル化合物とエチレン性不飽和化合物とからな
る下式〔■〕で示される新規共重合体の製造法を提供す
ることにあり、本発明方法により製造される共重合体は
その保有するビシクロオルソエステル基の開環によ抄架
橋可能であって、架橋時に収縮をほとんど起さないかま
たは僅かに膨張するという優れた特性を有する。
(式中、Aは少くとも1種のエチレン性不飽和化合物か
ら構成される単量体単位を表わし、Rは低級アルキル基
例えばメチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基等
を表わし、X及びyは各構成単位のモル分率を表わす。
ら構成される単量体単位を表わし、Rは低級アルキル基
例えばメチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基等
を表わし、X及びyは各構成単位のモル分率を表わす。
以下同じ。)本発明方法において共重合されるべき一方
の単量体は、ビニルベンジル基を有する下式(II)で
示されるビシクロオルソエステル化合物である0 上記の式(II)の化合物は、下式〔■〕で示される1
−アルキル−4−ヒドロキジメチルータタートリオキシ
サビシクロ(2,2,2)オクタン−*たは該化合物か
ら誘導される下式(IT)のナトリウムアルコキシドと
クロルメチルスチレンの反応によ抄製造される。
の単量体は、ビニルベンジル基を有する下式(II)で
示されるビシクロオルソエステル化合物である0 上記の式(II)の化合物は、下式〔■〕で示される1
−アルキル−4−ヒドロキジメチルータタートリオキシ
サビシクロ(2,2,2)オクタン−*たは該化合物か
ら誘導される下式(IT)のナトリウムアルコキシドと
クロルメチルスチレンの反応によ抄製造される。
に記載されているものであり、ペンタエリスリトールと
次式のトリアルキルオルソアシレートとの脱アルコール
反応によって製造される。
次式のトリアルキルオルソアシレートとの脱アルコール
反応によって製造される。
R−C(OH2)。
(R’はアルキル基である。)
ま九上記の式(IV)のナトリウムアルコキシドは式(
1)7) 1−アルキル−4−ヒドロキシメチル−2
,6,7−ドリオキサビシクロ(2,2,2)オクタン
を例えばテトラヒドロフラン溶媒中で水素化ナトリウム
と反応させることにより得られる0 前記式[1)のビニルベンジル基を有する化合物は一般
に、クロルメチルスチレンに下記の反応に従って式[I
V)のビシクロオルソエステル化合物を作用させる脱塩
化ナトリウム反応により製造できる。
1)7) 1−アルキル−4−ヒドロキシメチル−2
,6,7−ドリオキサビシクロ(2,2,2)オクタン
を例えばテトラヒドロフラン溶媒中で水素化ナトリウム
と反応させることにより得られる0 前記式[1)のビニルベンジル基を有する化合物は一般
に、クロルメチルスチレンに下記の反応に従って式[I
V)のビシクロオルソエステル化合物を作用させる脱塩
化ナトリウム反応により製造できる。
上記の反応は適当な有機溶剤、例えばテトラヒドロフラ
ン、ジメチルスルホキシド又は通常N、 N−ジメチル
ホルムア2ド(DMF)中で約20〜100℃の温度に
おいて実施できる。
ン、ジメチルスルホキシド又は通常N、 N−ジメチル
ホルムア2ド(DMF)中で約20〜100℃の温度に
おいて実施できる。
上記反応液からの式〔[〕の化合物の分離取得は、生成
した塩化す) リウム等をp過又は遠心分離によ咬除き
、ν液を再結晶又は重合防止剤下 の存在昶減圧蒸留するか、または脱溶剤後場化メチレン
、トルエン等の溶媒に溶解し、水洗を行ない有機層を脱
水乾燥後、溶媒を留去し、残渣を再結晶又は重合防止剤
存在下減圧蒸留して行なめうる。
した塩化す) リウム等をp過又は遠心分離によ咬除き
、ν液を再結晶又は重合防止剤下 の存在昶減圧蒸留するか、または脱溶剤後場化メチレン
、トルエン等の溶媒に溶解し、水洗を行ない有機層を脱
水乾燥後、溶媒を留去し、残渣を再結晶又は重合防止剤
存在下減圧蒸留して行なめうる。
本発明方法において共重合され、前記式[1)における
単量体単位Aを構成すべき他方の単量体はエチレン性不
飽和化合物であり、ビニル系単量体との共重合性を有す
るもののいずれをも使用することができる。その具体例
としては下記の化合物が挙げられる。
単量体単位Aを構成すべき他方の単量体はエチレン性不
飽和化合物であり、ビニル系単量体との共重合性を有す
るもののいずれをも使用することができる。その具体例
としては下記の化合物が挙げられる。
アクリル酸及びメタクリル酸のエステル、例えばメチル
、エチル、プロピル、ブチル、ベンジル、フェニル、シ
クロヘキシル、フェノキシエチル、アセトキシエチル、
ヒドロキシエチル、2−エチルヘキシル等の各エステル
;スチレン及び置換スチレン、例えばジビニルベンゼン
o−9m−又はp−クロルスチレン、m−又tipミル
−クロルメチルスチレン−メチルスチレン、p−メトキ
シスチレン、p−ジエチルアミノスチレ/、p−シアノ
スチレン、p−ニトロスチレン、α−7セトキシスチレ
ン等;エチレン、1,2−ジクロルエチレン、イソブチ
レン、ブタジェン、インプレン、クロロプレン;塩化ビ
ニル、酢酸ビニル、塩化ビニリデン、塩化アリル、酢酸
アリル;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル
;エチルビニルケトン、ビニレンカーボネート、イ゛ソ
プロビルビニルヶトン;N−ビニルピロリドン、2−ビ
ニルピリジン、5−メチル−2−ビニルヒリシン、;ア
クリロニトリルもメタシクロニトリル;ケイ皮酸ビニル
、ケイ皮酸ニドカル:安息香酸ビニル、安息香酸アリル
:並びに不飽和カルボン酸無水物及びそのエステル誘導
体、例えばマレイン酸無水物、イタコン酸無水物、シト
ラコン酸無水物、マレイン酸ジエチル、7マ一ル酸ジエ
チル等〇上記した中で本発明方法において使用され得る
好ましいエチレン性不飽和化合物は、次式:%式% (式中、Rは水素又はアルキル基であり、Rは8 −CN、 −COOR、−0COR7エ=hl、4イf
f。
、エチル、プロピル、ブチル、ベンジル、フェニル、シ
クロヘキシル、フェノキシエチル、アセトキシエチル、
ヒドロキシエチル、2−エチルヘキシル等の各エステル
;スチレン及び置換スチレン、例えばジビニルベンゼン
o−9m−又はp−クロルスチレン、m−又tipミル
−クロルメチルスチレン−メチルスチレン、p−メトキ
シスチレン、p−ジエチルアミノスチレ/、p−シアノ
スチレン、p−ニトロスチレン、α−7セトキシスチレ
ン等;エチレン、1,2−ジクロルエチレン、イソブチ
レン、ブタジェン、インプレン、クロロプレン;塩化ビ
ニル、酢酸ビニル、塩化ビニリデン、塩化アリル、酢酸
アリル;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル
;エチルビニルケトン、ビニレンカーボネート、イ゛ソ
プロビルビニルヶトン;N−ビニルピロリドン、2−ビ
ニルピリジン、5−メチル−2−ビニルヒリシン、;ア
クリロニトリルもメタシクロニトリル;ケイ皮酸ビニル
、ケイ皮酸ニドカル:安息香酸ビニル、安息香酸アリル
:並びに不飽和カルボン酸無水物及びそのエステル誘導
体、例えばマレイン酸無水物、イタコン酸無水物、シト
ラコン酸無水物、マレイン酸ジエチル、7マ一ル酸ジエ
チル等〇上記した中で本発明方法において使用され得る
好ましいエチレン性不飽和化合物は、次式:%式% (式中、Rは水素又はアルキル基であり、Rは8 −CN、 −COOR、−0COR7エ=hl、4イf
f。
S 4゜
置換基としてアルキル、ハロゲン又は)・ロアルキルを
有するフェニル基であや、またRμ置換又は非置換のア
ルキル基、シクロアルキル基、アリール基であり、R4
はアルキル基である)で示される化合物並びにマレイン
酸、イタコン酸及びシトラコン酸の無水物及びそれらの
エステル誘導体から選んだ化合物である。
有するフェニル基であや、またRμ置換又は非置換のア
ルキル基、シクロアルキル基、アリール基であり、R4
はアルキル基である)で示される化合物並びにマレイン
酸、イタコン酸及びシトラコン酸の無水物及びそれらの
エステル誘導体から選んだ化合物である。
本発明方法における式〔■〕の化合物とエチレン性不飽
和化合物との共重合は、通常のラジカル重合手段、例え
ば紫外線、赤外線、熱・・・・又はマイクロ波により行
なうことができる。
和化合物との共重合は、通常のラジカル重合手段、例え
ば紫外線、赤外線、熱・・・・又はマイクロ波により行
なうことができる。
紫外線ラジ・カル重合では、通常光開始剤が用いられる
。好適に利用できる光開始剤としては、ア丸トフエノン
、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、
2,2−ジェトキシアセトフェノン、4′−イソプロピ
ル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、2
−ヒトルキシー2−メチルプロピオフェノン、4. 4
’−ヒス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンゾフ
ェノン、メチル−(0−ベンソイル)−ベンゾエート、
1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(0−エ
トキシカルボニル)−オキシム、1−フェニル−1,2
−プロパンジオン−2−(0−ベンゾイル)−オキシム
、ベンツイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ヘ
ンジインインブチルエーテル、ベンゾインオクチルエー
テル、ベンジル又はジアセチル等のカルボニル化合物;
メチルアントラキノン、クロロアントラキノン、クロロ
チオキサントン、2−メチルチオキサントン又は2−1
l−プロピルチオキサントン等のアントラキノン又はキ
サントン誘導体ニジフェニルスルフィド、ジフェニルジ
スルフィド又はジチオカーバメート等の硫黄化合物;d
−クロロメチルナフタレン、アントラセン等がある。
。好適に利用できる光開始剤としては、ア丸トフエノン
、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、
2,2−ジェトキシアセトフェノン、4′−イソプロピ
ル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、2
−ヒトルキシー2−メチルプロピオフェノン、4. 4
’−ヒス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンゾフ
ェノン、メチル−(0−ベンソイル)−ベンゾエート、
1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(0−エ
トキシカルボニル)−オキシム、1−フェニル−1,2
−プロパンジオン−2−(0−ベンゾイル)−オキシム
、ベンツイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ヘ
ンジインインブチルエーテル、ベンゾインオクチルエー
テル、ベンジル又はジアセチル等のカルボニル化合物;
メチルアントラキノン、クロロアントラキノン、クロロ
チオキサントン、2−メチルチオキサントン又は2−1
l−プロピルチオキサントン等のアントラキノン又はキ
サントン誘導体ニジフェニルスルフィド、ジフェニルジ
スルフィド又はジチオカーバメート等の硫黄化合物;d
−クロロメチルナフタレン、アントラセン等がある。
赤外線、熱、マイクロ波による重合に際しては、分解に
よってラジカルを生成し得るものであればいずれのラジ
カル開始剤の使用も可能である。例えば、ジーtert
−ブチルパーオキ7ド、2,5−ジメチル−2,5−ジ
(tert −ブチルパーオキシ)ヘキサン、tert
−ブチルアゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物;
過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等の過酸塩が使用
できる0 触媒を用いる場合その使用量は、一般に単量体の合計量
に基づき0.01〜10wt%、好ましくは0.1〜5
wtチの範囲である0ラジ力ル重合は、紫外線あるい
は電離性放射線の照射による場合は常温でも進むが、そ
の他の場合は、加温ないし加熱の状態で円滑に進行する
0 重合方式としては、塊状、溶液、懸濁及び乳化重合のい
ずれも採用できるが、通常塊状又は溶液重合方式が好都
合である。溶剤を用いる場合、例えばジオキサン等のエ
ーテル類、シフ四ヘキサン等の脂環式炭化水素、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素、ジクロルエチレン等
のハロゲン化アルカン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトy等のケトン類及びメチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ等のセロソルブ類が一般に使用される。
よってラジカルを生成し得るものであればいずれのラジ
カル開始剤の使用も可能である。例えば、ジーtert
−ブチルパーオキ7ド、2,5−ジメチル−2,5−ジ
(tert −ブチルパーオキシ)ヘキサン、tert
−ブチルアゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物;
過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等の過酸塩が使用
できる0 触媒を用いる場合その使用量は、一般に単量体の合計量
に基づき0.01〜10wt%、好ましくは0.1〜5
wtチの範囲である0ラジ力ル重合は、紫外線あるい
は電離性放射線の照射による場合は常温でも進むが、そ
の他の場合は、加温ないし加熱の状態で円滑に進行する
0 重合方式としては、塊状、溶液、懸濁及び乳化重合のい
ずれも採用できるが、通常塊状又は溶液重合方式が好都
合である。溶剤を用いる場合、例えばジオキサン等のエ
ーテル類、シフ四ヘキサン等の脂環式炭化水素、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素、ジクロルエチレン等
のハロゲン化アルカン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトy等のケトン類及びメチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ等のセロソルブ類が一般に使用される。
かくして本発明によ抄製造された共重合体は、これを例
えば塩化メチレン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド
等の生成共重合体が可溶である溶剤中に溶解した溶液を
、例えばn−ヘキサン、メタノール等の沈殿用溶剤中に
撹拌下滴加して共重合体を沈殿させる操作を何回か反復
することによって分離精製できる。
えば塩化メチレン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド
等の生成共重合体が可溶である溶剤中に溶解した溶液を
、例えばn−ヘキサン、メタノール等の沈殿用溶剤中に
撹拌下滴加して共重合体を沈殿させる操作を何回か反復
することによって分離精製できる。
本発明による共重合体にあっては、そのビシクロオルソ
エステル基 従って開環重合反応を起こし、架橋重合体となる。この
架橋は通常カチオン重合触媒を用いて開始される。この
目的に使用されるカチオン重合触媒としては、例えばB
F、 、 ’FeC1,、5nCt、 。
エステル基 従って開環重合反応を起こし、架橋重合体となる。この
架橋は通常カチオン重合触媒を用いて開始される。この
目的に使用されるカチオン重合触媒としては、例えばB
F、 、 ’FeC1,、5nCt、 。
5bct、 、 5bFs、 ’J’ict、 すどo
A/ イスH:EF、(Et、 。
A/ イスH:EF、(Et、 。
駅−アニリンコンプレックス等のごときルイス酸と0.
S、Nなどを有する化合物との配位化合物;ルイス酸の
オキソニウム塩、ジアゾニウム塩、カルボニウム塩、)
・ロゲン化合物、混合ハロゲン化合物または過ノ・ロゲ
ン酸誘導体などかあげられる。
S、Nなどを有する化合物との配位化合物;ルイス酸の
オキソニウム塩、ジアゾニウム塩、カルボニウム塩、)
・ロゲン化合物、混合ハロゲン化合物または過ノ・ロゲ
ン酸誘導体などかあげられる。
触媒の使用量は一般の架橋すべき共重合体に基づき0.
001〜10wt−の範囲が好適である0重合源度に関
する制限は特にないが、通常常温〜200℃で行なわれ
る。
001〜10wt−の範囲が好適である0重合源度に関
する制限は特にないが、通常常温〜200℃で行なわれ
る。
また、架橋は電子線、紫外線等の放射線の照射によって
も行なうことができる。紫外線照射の場合には、カチオ
ン重合触媒として、例えばfH仁N−PF 、 #−
N””N−BF などの芳香族ジアゾ5番 ニウム塩;5−4−s・BF−等の芳香族ノ10ニウム
番 CH。
も行なうことができる。紫外線照射の場合には、カチオ
ン重合触媒として、例えばfH仁N−PF 、 #−
N””N−BF などの芳香族ジアゾ5番 ニウム塩;5−4−s・BF−等の芳香族ノ10ニウム
番 CH。
等の周期律表第N′a族元素の芳香族オニウム塩;等の
周期律表第VIa族元素の芳香族オニウム塩;素のジカ
ルボニル錯化合物が使用され得る。触媒の使用量は、一
般に架橋すべき共重合体に対して0.001〜10wt
%の範囲が好適である。
周期律表第VIa族元素の芳香族オニウム塩;素のジカ
ルボニル錯化合物が使用され得る。触媒の使用量は、一
般に架橋すべき共重合体に対して0.001〜10wt
%の範囲が好適である。
エチレン性不飽和単量体として前述の如き酸無水物を用
いた場合には、得られた共重合体は少量の水を存在させ
るだけで架橋できる0本発明の製法による共重合体にお
いて、式([1)のビシクロオルソエステル化合物から
誘導される単量体単位が、共重合体中に1モルチ程度存
在すれば、上記したように架橋時の体積収縮が実質的に
改良され得るので、前記式〔1〕における単量体単位の
モル比y/(x+y)がL/100〜9100の範囲と
なる任意の割合で、エチレン性不飽和化合物と式〔■〕
のビシクロオルソニスデル化合物を共重合させることが
望ましい。しかしながら、ビシクロオルソエステル巣位
を50モルチより多く存在させてもコスト高になるは下 かりか耐水性の低昶につながるので、 y/(x+y )比は約3/100〜5Q/100の範
囲がさらに望ましい。
いた場合には、得られた共重合体は少量の水を存在させ
るだけで架橋できる0本発明の製法による共重合体にお
いて、式([1)のビシクロオルソエステル化合物から
誘導される単量体単位が、共重合体中に1モルチ程度存
在すれば、上記したように架橋時の体積収縮が実質的に
改良され得るので、前記式〔1〕における単量体単位の
モル比y/(x+y)がL/100〜9100の範囲と
なる任意の割合で、エチレン性不飽和化合物と式〔■〕
のビシクロオルソニスデル化合物を共重合させることが
望ましい。しかしながら、ビシクロオルソエステル巣位
を50モルチより多く存在させてもコスト高になるは下 かりか耐水性の低昶につながるので、 y/(x+y )比は約3/100〜5Q/100の範
囲がさらに望ましい。
本発明方法によって製造された共重合体は、分子中に体
積膨張性のビシクロオルソエステル基を有するため、架
橋硬化時に実質的に体積の膨張を伴なうという特性を示
し、また架橋により耐熱性、耐溶剤性等の物性が改良さ
れる。かくして、本発明による共重合体は前述した体積
収縮に伴なう欠点が解消され、ボイドを生じない密着性
の良い塗料、内部歪を生じない接着剤、寸法精度が要求
される複合材や注型材等の製造にきわめて有用である。
積膨張性のビシクロオルソエステル基を有するため、架
橋硬化時に実質的に体積の膨張を伴なうという特性を示
し、また架橋により耐熱性、耐溶剤性等の物性が改良さ
れる。かくして、本発明による共重合体は前述した体積
収縮に伴なう欠点が解消され、ボイドを生じない密着性
の良い塗料、内部歪を生じない接着剤、寸法精度が要求
される複合材や注型材等の製造にきわめて有用である。
例えば、本発明の共重合体を適当な溶剤に溶解して基体
面に塗布し、形成された塗膜を適当な架橋手段により硬
化させて優れた塗膜を得ることができ、また金型中に注
入後に架橋させて改良された成形品を得ることができる
。
面に塗布し、形成された塗膜を適当な架橋手段により硬
化させて優れた塗膜を得ることができ、また金型中に注
入後に架橋させて改良された成形品を得ることができる
。
次に、参考例及び実施例によって本発明を更に説明する
。
。
以下の参考例および実施例において化合物及び重合物の
比重は次の方法によ抄測定したものである。
比重は次の方法によ抄測定したものである。
測定法人・・・・・・密度勾配管法B型直読式比重測定
装置(柴山科学器械製作所)を使用し、炭酸カリウム水
溶液で作成した密度勾配管に、試料をそのまま、あるい
は赤外吸収スペクトル測定用錠剤成形器で成形した後、
炭酸カリウム水溶液中で脱気後投入し測定。
装置(柴山科学器械製作所)を使用し、炭酸カリウム水
溶液で作成した密度勾配管に、試料をそのまま、あるい
は赤外吸収スペクトル測定用錠剤成形器で成形した後、
炭酸カリウム水溶液中で脱気後投入し測定。
測定法B・・・・・・空気比較式比重計 930形〔ベ
ックマン・ジャパン(鉛製〕を用いて測定0また、重合
物の平均分子量は液体クロマトグラフ分析(HLC分析
と略記する)からポリスチレン換算重量平均分子量とし
て計算した。
ックマン・ジャパン(鉛製〕を用いて測定0また、重合
物の平均分子量は液体クロマトグラフ分析(HLC分析
と略記する)からポリスチレン換算重量平均分子量とし
て計算した。
その測定条件は次の通りである。
装置;東洋曹達工業(鉛製 HLC−801Aカラム:
TSKゲル−GMH2本 溶離液;テトラヒドロフラン 流速;1ml/分 参考例1゜ 1−メチル−4−ビニルベンジルオキシメチル−2,6
,7−)リオキサビシクロ(2,2,2)オクタンの製
造; 撹拌器、コンデンサー、窒素ガス吹込口及び滴下ロート
を備えた四つロフラスコに、水素化ナトリウム(オイル
サスインジョン、純度50%)10.56g(0,22
モル)をとり、n−ヘキサンでオイルを洗浄した後、脱
水したテトラヒドロフラン100mtを加え、フラスコ
を氷水で冷却し、攪拌下に窒素ガスを流しながら、1−
メチル−4−ヒドロキシメチル−2,6,7−トリオキ
サビシフ1=t(2,2,2)オクタン32.0I(α
20モル)を少しづつ添加した。
TSKゲル−GMH2本 溶離液;テトラヒドロフラン 流速;1ml/分 参考例1゜ 1−メチル−4−ビニルベンジルオキシメチル−2,6
,7−)リオキサビシクロ(2,2,2)オクタンの製
造; 撹拌器、コンデンサー、窒素ガス吹込口及び滴下ロート
を備えた四つロフラスコに、水素化ナトリウム(オイル
サスインジョン、純度50%)10.56g(0,22
モル)をとり、n−ヘキサンでオイルを洗浄した後、脱
水したテトラヒドロフラン100mtを加え、フラスコ
を氷水で冷却し、攪拌下に窒素ガスを流しながら、1−
メチル−4−ヒドロキシメチル−2,6,7−トリオキ
サビシフ1=t(2,2,2)オクタン32.0I(α
20モル)を少しづつ添加した。
次に30℃に昇温し3時間攪拌をつづけた後、脱水した
N、N−ジメチル本ルムアξドロ081を加工、クロル
メチルスチレン(ロー−体60 / P一体40モル比
混合物>56611(L124モル)を約50分かけて
滴下し、さらに4時間反応させた後、−夜装置した。次
に遠心分離により沈でん物を除き、その上澄み液の脱溶
剤を行なった。
N、N−ジメチル本ルムアξドロ081を加工、クロル
メチルスチレン(ロー−体60 / P一体40モル比
混合物>56611(L124モル)を約50分かけて
滴下し、さらに4時間反応させた後、−夜装置した。次
に遠心分離により沈でん物を除き、その上澄み液の脱溶
剤を行なった。
その残分にトルエン200−を加え、蒸留水20017
で6回洗浄した。トルエン層に無水硫酸マグネシウムを
加え脱水した後説トルエンを行ない5B、911の残渣
を得た。さらにα17諺Hgに減圧し、浴温を100℃
に昇温し、未反応クロルメチルスチレンを留去し、生成
物33.09を敗得した。つぎの分離条件下に分電用液
体クロマトグラフィな用いて、反応生成物から1−メチ
ル−4−ビニルベンジルオキシメチル−2,47−)リ
オキサビシクロ(2,2,2)オクタンを分取した。
で6回洗浄した。トルエン層に無水硫酸マグネシウムを
加え脱水した後説トルエンを行ない5B、911の残渣
を得た。さらにα17諺Hgに減圧し、浴温を100℃
に昇温し、未反応クロルメチルスチレンを留去し、生成
物33.09を敗得した。つぎの分離条件下に分電用液
体クロマトグラフィな用いて、反応生成物から1−メチ
ル−4−ビニルベンジルオキシメチル−2,47−)リ
オキサビシクロ(2,2,2)オクタンを分取した。
分離条件:
装置:東洋曹達工業@製HLC−807ty 5 A
: T8にゲルG−、5000HG+G−2000HG
溶離液;クロロホルム 流速;4ax分 化合物の物性値は下記のとおりである。
: T8にゲルG−、5000HG+G−2000HG
溶離液;クロロホルム 流速;4ax分 化合物の物性値は下記のとおりである。
0融点;66〜70℃
Q比重: 1.165 (25℃) (測定法B)OI
R: 1625cm−’(C=C)1120ax−’、
1040−’ (C−0−む)855CII” ONMB(CDCj、中) ’ (ppm ) ; 145 (5Hp s、 −C
H5)119 (2H,s、 0−CH,−C)4.0
2 (6H,s、C−CH,−0)4.45 (2H,
s、φ−CH,) 5、.2〜&? (5H,CH,−CH−)7.0〜7
.4 (4H,1−H) 参考例2 1−エチル−4−ビニルベンジルオキシメチル−2,6
,7−ドリオキサビシクロ(2,2,2’)オクタyの
製造; 参考例1と同様な装置K、水素化ナトリウム(オイルサ
スペンション、純度5od)IQ、56II(α22モ
ル)をとり、n−へキサンでオイルを洗浄した後、脱水
したテトラヒドロ7ラン100−を加え、フラスコを氷
水で冷却し、攪拌下、窒素ガスを流しなから1−エチル
−4−ヒドロキシメチル−2,47−)リオキサビシク
ロ(2,2,21オクタン55.2F(0,20モル)
を少しづつ加えた。
R: 1625cm−’(C=C)1120ax−’、
1040−’ (C−0−む)855CII” ONMB(CDCj、中) ’ (ppm ) ; 145 (5Hp s、 −C
H5)119 (2H,s、 0−CH,−C)4.0
2 (6H,s、C−CH,−0)4.45 (2H,
s、φ−CH,) 5、.2〜&? (5H,CH,−CH−)7.0〜7
.4 (4H,1−H) 参考例2 1−エチル−4−ビニルベンジルオキシメチル−2,6
,7−ドリオキサビシクロ(2,2,2’)オクタyの
製造; 参考例1と同様な装置K、水素化ナトリウム(オイルサ
スペンション、純度5od)IQ、56II(α22モ
ル)をとり、n−へキサンでオイルを洗浄した後、脱水
したテトラヒドロ7ラン100−を加え、フラスコを氷
水で冷却し、攪拌下、窒素ガスを流しなから1−エチル
−4−ヒドロキシメチル−2,47−)リオキサビシク
ロ(2,2,21オクタン55.2F(0,20モル)
を少しづつ加えた。
次に50℃に昇温し3時間反応させた後、脱水したN、
N−ジメチルホルムアミド60−を加工、クロルメチル
スチレン(m一体60/p一体40モル比混合物>51
b61(α24モル) 1を約30分かけて滴
下し、さらに4時間反応させた後、−夜装置した。次に
遠心分離により、なった。
N−ジメチルホルムアミド60−を加工、クロルメチル
スチレン(m一体60/p一体40モル比混合物>51
b61(α24モル) 1を約30分かけて滴
下し、さらに4時間反応させた後、−夜装置した。次に
遠心分離により、なった。
その残渣にトルエン100−を加え、蒸留水100dで
5@洗浄した。トルエン層に無水硫酸マグネシウムを加
え脱水後説トルエンを行ない生成物45.9Fを得た。
5@洗浄した。トルエン層に無水硫酸マグネシウムを加
え脱水後説トルエンを行ない生成物45.9Fを得た。
参考例1と同様に分権液体クロマトグラフィテ分取を行
ない1−エチル−4−ビニルベンジルオキシメチル−2
,47−)リオキナビシクロ1:2.2.21オクタン
を得た。
ない1−エチル−4−ビニルベンジルオキシメチル−2
,47−)リオキナビシクロ1:2.2.21オクタン
を得た。
その物性値は下記の通りである。
0融点;58〜61℃
O比重: 1.156 (25℃) (測定法B)OT
R: 1425傷 (CH,=CH−)1150m″″
’、 1055tx+ (C−0−C)955es−
’ ONMR(CDCj、中) a (pPm> : 0.96 (5H,t、 −C)
l、 )t 71 (2H,gt C−CM、 )′!
h、20 (2H,s、 0−CI、−C)4.02
(6H,s、φ−CH,) 4・46(2H,s、φ−CHt ) 5.2〜5.9 (5H,CH,=CH−)71〜7.
5(4H,φ−H) 実施例1 テ得た化合物(1−メチル−4−ビニルベンジルオキシ
メチル−2,6,7−)リオキサビシクロ1: 2.2
.21オクタン)tllF(4ミリモル)、t4−ジオ
キサン2〇−及びAIBN(アゾビスインブチロニトリ
ル)α0591をガラス封管中に装入し、75℃におい
て24時間重合させた。
R: 1425傷 (CH,=CH−)1150m″″
’、 1055tx+ (C−0−C)955es−
’ ONMR(CDCj、中) a (pPm> : 0.96 (5H,t、 −C)
l、 )t 71 (2H,gt C−CM、 )′!
h、20 (2H,s、 0−CI、−C)4.02
(6H,s、φ−CH,) 4・46(2H,s、φ−CHt ) 5.2〜5.9 (5H,CH,=CH−)71〜7.
5(4H,φ−H) 実施例1 テ得た化合物(1−メチル−4−ビニルベンジルオキシ
メチル−2,6,7−)リオキサビシクロ1: 2.2
.21オクタン)tllF(4ミリモル)、t4−ジオ
キサン2〇−及びAIBN(アゾビスインブチロニトリ
ル)α0591をガラス封管中に装入し、75℃におい
て24時間重合させた。
得られた溶液をn−へキサン中へ攪拌しながら滴下して
重合物を沈澱させた。この沈澱物をr遇し、沈澱物をT
IP(テトラヒドロフラン)K溶解し、溶液なn−ヘキ
サン中に攪拌しながら滴下して、重合物を沈澱させた。
重合物を沈澱させた。この沈澱物をr遇し、沈澱物をT
IP(テトラヒドロフラン)K溶解し、溶液なn−ヘキ
サン中に攪拌しながら滴下して、重合物を沈澱させた。
このTHF’−n−ヘキサンによる溶解沈澱精製を再度
繰返して、白色粉末状の共重合体0.85Fを得た。
繰返して、白色粉末状の共重合体0.85Fを得た。
この共重合体の比重は25℃においてt145であった
。なお共重合体の比重は測定法人により求めた(以下の
実施例も同じ)。
。なお共重合体の比重は測定法人により求めた(以下の
実施例も同じ)。
またHLC分析により求めた重量平均分子量は約25,
000であった。
000であった。
この共重合体の組成比は、NMR(核磁気共鳴スペクト
ル)分析により、δ工&ロ〜12ppm (φ−H)お
よびJ = 11〜2.4 ppm(−CH,−CH−
、−CH,)のピーク積分値から求めた。
ル)分析により、δ工&ロ〜12ppm (φ−H)お
よびJ = 11〜2.4 ppm(−CH,−CH−
、−CH,)のピーク積分値から求めた。
またIR(赤外吸収スペクトル)分析により1
1120cszw1050傷 (C−0−C)、 85
7傷−1の特性吸収が認められた。
7傷−1の特性吸収が認められた。
この共重合体の構造は次式により表わされる。
上式において、コニ=−であり、またQ1+7 10
0 はつぎの基を表わす。
0 はつぎの基を表わす。
実施例2
酢酸ビニルα691(Bミリモル)、参考例1で得た化
合物(1−メチル−4−ビニルベンジルオキシメチル−
2,47−)リオキナビシクロ(2,2,2)オクタン
)111fI(4ミリモル)、t4−ジオキサン2〇−
及びAIBNα0591を用い、実施例1と同様に重合
及び沈澱精製をして、白色粉末状の共重合体α59II
を得た。
合物(1−メチル−4−ビニルベンジルオキシメチル−
2,47−)リオキナビシクロ(2,2,2)オクタン
)111fI(4ミリモル)、t4−ジオキサン2〇−
及びAIBNα0591を用い、実施例1と同様に重合
及び沈澱精製をして、白色粉末状の共重合体α59II
を得た。
この共重合体の比重は25℃において1209であった
。
。
またHLC分析により求めた平均分子量は約51.00
0であった。
0であった。
この共重合体の組成比はNMR分析により、δ= 4.
8〜5.5 ppm (−CH−)及ヒa=6.o ”
”7、5 ppm (φ−H)のピーク積分値から求め
た。
8〜5.5 ppm (−CH−)及ヒa=6.o ”
”7、5 ppm (φ−H)のピーク積分値から求め
た。
またIR分析により、1730at−’、 1240c
m−’(エステル)、1120cm 、1050cs
t−’(C−0−C)、856aIl の特性吸収が
認められた。
m−’(エステル)、1120cm 、1050cs
t−’(C−0−C)、856aIl の特性吸収が
認められた。
この共重合体の構造は次式により表わされる。
さH3
上式において上〜1免であり、またQは実x+7 10
0 施例1におけるものと同じ基を表わす。
0 施例1におけるものと同じ基を表わす。
実施例3
メチルメタクリレートα807(8ミリモル)参考例2
で得た化合物(1−エチル−4−ビニルベンジルオキシ
メチル−2,47−ドリオキサビシクロ(2,2,21
オクタン)116g(4ミリモル)、t4−ジオキサン
20m17及びAIBN(1055Mを用い、実施例1
と同様に重合及び沈澱精製をして、白色粉末状の共重合
体α651を得た。
で得た化合物(1−エチル−4−ビニルベンジルオキシ
メチル−2,47−ドリオキサビシクロ(2,2,21
オクタン)116g(4ミリモル)、t4−ジオキサン
20m17及びAIBN(1055Mを用い、実施例1
と同様に重合及び沈澱精製をして、白色粉末状の共重合
体α651を得た。
この共重合体の比重は25セにおいてt204であり、
HLC分析により求めた重量平均分子量は約48,00
0であった。
HLC分析により求めた重量平均分子量は約48,00
0であった。
また共重合体の組成はNMR分析により、a−64〜7
.2ppm(φ−H)及びδ=g2.7〜り積分値から
求めた。
.2ppm(φ−H)及びδ=g2.7〜り積分値から
求めた。
またIR分析により1750m (エステル)、11
25cm−11055m−’ (C−0−C)、 94
5cIK−1の特性吸収が認められた。
25cm−11055m−’ (C−0−C)、 94
5cIK−1の特性吸収が認められた。
との共重合体の構造は次式により表わされる。
CH。
上式において−Y−=52 であり1.またqはx+
7 100 にH,−U 実施例4 アクリロニトリルα421(8ミリモル)、参考例2で
得た化合物(1−エチル−4−ビニルベンジルオキシメ
チル−2,47−ドリオキサビシクoc2,2,21オ
クタ/)1161(4ミリモル)、t4−ジオキサン2
〇−及びAIBNQ、0591を用い、実施例1と同様
に重含及び沈澱精製をして、淡黄色粉末状の共重合体Q
、65Iを得た。
7 100 にH,−U 実施例4 アクリロニトリルα421(8ミリモル)、参考例2で
得た化合物(1−エチル−4−ビニルベンジルオキシメ
チル−2,47−ドリオキサビシクoc2,2,21オ
クタ/)1161(4ミリモル)、t4−ジオキサン2
〇−及びAIBNQ、0591を用い、実施例1と同様
に重含及び沈澱精製をして、淡黄色粉末状の共重合体Q
、65Iを得た。
この共重合体の比重は25℃においてt191であり、
HLC分析により求めた重量平均分子量は5へ000で
あった。
HLC分析により求めた重量平均分子量は5へ000で
あった。
また共重合体の組成は元素分析により求めた。
またTR分析により、2210611にトリル)、10
50CIL−’ (C−0−C)、940at−1の特
性吸収が認められた。
50CIL−’ (C−0−C)、940at−1の特
性吸収が認められた。
この共重合体の構造は次式により表わされる。
参考例3〜6(共重合体の架橋)
実施例1〜4で得た共重合体を約20倍の11−ジクロ
ルエタンに溶解し、この溶液(カチオン重合触媒として
BF’、01Ct、を共重合体に対して約1 wtlG
の重合で加え、60℃で20時間反応させて架橋した重
合体を得た。この架橋重合体の比重を測定法人で測定し
、架橋による体積変化を次式により計算した。
ルエタンに溶解し、この溶液(カチオン重合触媒として
BF’、01Ct、を共重合体に対して約1 wtlG
の重合で加え、60℃で20時間反応させて架橋した重
合体を得た。この架橋重合体の比重を測定法人で測定し
、架橋による体積変化を次式により計算した。
上記において、架橋による体積変化率(−が正の値は体
積膨張率(−を表わし、負の値は体積収縮率−)を表わ
す。
積膨張率(−を表わし、負の値は体積収縮率−)を表わ
す。
上表から明らかなとおり、本発明の方法により製造され
たビシクロオルソヱス、デル基を有する共重合体は、架
橋時に体積収縮が非常に小さいか、あるいは逆に体積膨
張を示すといへ、顕著な特長を具備している。
たビシクロオルソヱス、デル基を有する共重合体は、架
橋時に体積収縮が非常に小さいか、あるいは逆に体積膨
張を示すといへ、顕著な特長を具備している。
第1図は実施例1で得た化合物の、また第2図は実施例
4で得た化合物の、各赤外吸収スペクトル図である。 特許出願人の名称 東亜合成化学工業株式会社 手続補正書 昭和56年12月ダ 日 特許庁長官 島 1)春 樹 殿 1、事件の表示 昭和56年特許願第160095号 2、発明の名称 共重合体の製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都港区西新橋1丁目14番1号4、補正の
対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 5゜補正の内容 (1)明細書第11頁下から3〜2行目に[あるいは電
離性放射線]とあるを削除する。 (2)明細書第11頁2行目に r ca−N=N −PF’;−1とあるをfl−N=
N−PF’;]と4mする。 (3)明細書第21頁下から2行目に (2H,r+ c−Ct−)とあるを(2H,q、C
−C山)と補正する。 以上 手続補正書 昭和57年8り//日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 1、事件の表示 昭和56年特許顧第16 (1095号2、発明の名称 共重合体の製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都港区西新橋1丁目14111号4、補正
の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 5、補正の内容 (1)明細書第15頁下から7行と6行の間に次の文を
加入する。 「本発明における共重合体は、ラジカル重合によってエ
チレン性不飽和化合物を重合して得られる通常の共重合
体と同様の分子Ct有しており、具体的には1.000
〜1千万の重量平均分子蓋f:有する。」 以上
4で得た化合物の、各赤外吸収スペクトル図である。 特許出願人の名称 東亜合成化学工業株式会社 手続補正書 昭和56年12月ダ 日 特許庁長官 島 1)春 樹 殿 1、事件の表示 昭和56年特許願第160095号 2、発明の名称 共重合体の製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都港区西新橋1丁目14番1号4、補正の
対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 5゜補正の内容 (1)明細書第11頁下から3〜2行目に[あるいは電
離性放射線]とあるを削除する。 (2)明細書第11頁2行目に r ca−N=N −PF’;−1とあるをfl−N=
N−PF’;]と4mする。 (3)明細書第21頁下から2行目に (2H,r+ c−Ct−)とあるを(2H,q、C
−C山)と補正する。 以上 手続補正書 昭和57年8り//日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 1、事件の表示 昭和56年特許顧第16 (1095号2、発明の名称 共重合体の製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都港区西新橋1丁目14111号4、補正
の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 5、補正の内容 (1)明細書第15頁下から7行と6行の間に次の文を
加入する。 「本発明における共重合体は、ラジカル重合によってエ
チレン性不飽和化合物を重合して得られる通常の共重合
体と同様の分子Ct有しており、具体的には1.000
〜1千万の重量平均分子蓋f:有する。」 以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記一般式で表わされるビニルベンジル基ヲ有スる
ビシクロオルソエステル化合物とエチレン性不飽和化合
物を共重合させることを特徴とする、ビシクロオルソエ
ステル基を有する共重合体の製造方法。 (式中、Rは低級アルキル基を表わす0 )
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16009581A JPS5861109A (ja) | 1981-10-09 | 1981-10-09 | 共重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16009581A JPS5861109A (ja) | 1981-10-09 | 1981-10-09 | 共重合体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5861109A true JPS5861109A (ja) | 1983-04-12 |
| JPH0129806B2 JPH0129806B2 (ja) | 1989-06-14 |
Family
ID=15707740
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16009581A Granted JPS5861109A (ja) | 1981-10-09 | 1981-10-09 | 共重合体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5861109A (ja) |
-
1981
- 1981-10-09 JP JP16009581A patent/JPS5861109A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0129806B2 (ja) | 1989-06-14 |
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