JPS5840311A - スピロオルソエステル基を有する改質共重合体 - Google Patents
スピロオルソエステル基を有する改質共重合体Info
- Publication number
- JPS5840311A JPS5840311A JP13831081A JP13831081A JPS5840311A JP S5840311 A JPS5840311 A JP S5840311A JP 13831081 A JP13831081 A JP 13831081A JP 13831081 A JP13831081 A JP 13831081A JP S5840311 A JPS5840311 A JP S5840311A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copolymer
- monomer unit
- ethylenically unsaturated
- acid
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 title claims abstract description 56
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 35
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 5
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 7
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 claims description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 claims description 3
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 claims description 3
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 claims description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 claims description 3
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 claims description 2
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 abstract description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 22
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 21
- RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N undecane Chemical compound CCCCCCCCCCC RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 16
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 14
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 13
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 13
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 13
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 12
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 12
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- -1 lactone compound Chemical class 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 9
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 7
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 6
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 6
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 4
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- 238000011403 purification operation Methods 0.000 description 4
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RBGUKBSLNOTVCD-UHFFFAOYSA-N 1-methylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C RBGUKBSLNOTVCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 1-penten-3-one Chemical compound CCC(=O)C=C JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N Diphenyl disulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SSC1=CC=CC=C1 GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 2
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- NKJOXAZJBOMXID-UHFFFAOYSA-N 1,1'-Oxybisoctane Chemical compound CCCCCCCCOCCCCCCCC NKJOXAZJBOMXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloroethene Chemical group ClC(Cl)=C LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAYTZRYEBVHVLE-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxol-2-one Chemical compound O=C1OC=CO1 VAYTZRYEBVHVLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRZHXNCATOYMJH-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-ethenylbenzene Chemical compound ClCC1=CC=C(C=C)C=C1 ZRZHXNCATOYMJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFZHODLXYNDBSM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 YFZHODLXYNDBSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCVOGSZTONGSQY-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trichloroanisole Chemical compound COC1=C(Cl)C=C(Cl)C=C1Cl WCVOGSZTONGSQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCFYCLRCIJDYQD-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-5-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=C(C=C)N=C1 LCFYCLRCIJDYQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WROUWQQRXUBECT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylacrylic acid Chemical compound CCC(=C)C(O)=O WROUWQQRXUBECT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPSJHQMIVNJLNN-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 4-nitrobenzoate Chemical group CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 NPSJHQMIVNJLNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHUUPUMBZGWODW-UHFFFAOYSA-N 3,6-dihydro-1,2-dioxine Chemical compound C1OOCC=C1 JHUUPUMBZGWODW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNTUCKQYWGHZPK-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylbenzonitrile Chemical compound C=CC1=CC=C(C#N)C=C1 SNTUCKQYWGHZPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYJHVEDILOKZCG-UHFFFAOYSA-N Allyl benzoate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 LYJHVEDILOKZCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001534961 Calicium Species 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000632511 Daviesia arborea Species 0.000 description 1
- 244000182067 Fraxinus ornus Species 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000233805 Phoenix Species 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium peroxydisulfate Substances [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)OOS([O-])=O VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940114081 cinnamate Drugs 0.000 description 1
- 239000010960 cold rolled steel Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012990 dithiocarbamate Substances 0.000 description 1
- 150000004659 dithiocarbamates Chemical class 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- WGXGKXTZIQFQFO-CMDGGOBGSA-N ethenyl (e)-3-phenylprop-2-enoate Chemical compound C=COC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WGXGKXTZIQFQFO-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 210000003734 kidney Anatomy 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012054 meals Nutrition 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 125000005394 methallyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002092 orthoester group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M pent-4-enoate Chemical compound [O-]C(=O)CCC=C HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical compound C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVDYEFQVZNBPPH-UHFFFAOYSA-N pentane-2,3,4-trione Chemical group CC(=O)C(=O)C(C)=O MVDYEFQVZNBPPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001577 simple distillation Methods 0.000 description 1
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 1
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011345 viscous material Substances 0.000 description 1
- 150000007964 xanthones Chemical class 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はエチレン性不飽和化合物の改質共重合体に関す
る。
る。
一般に、エチレン性不飽和化合物等の単量体が単独重合
及び共重合時Kかな炒大きい体積収縮を起すことけ周知
であり1例えばエチレン、アクリロニトリル、メタクリ
ル酸メチル及びスチレンの重合時の体積収縮率はそれぞ
れ660%、5tO%、212%及び14.5%である
。
及び共重合時Kかな炒大きい体積収縮を起すことけ周知
であり1例えばエチレン、アクリロニトリル、メタクリ
ル酸メチル及びスチレンの重合時の体積収縮率はそれぞ
れ660%、5tO%、212%及び14.5%である
。
重合時の体積収縮が大きいと1例えば成形材料として使
用また場合に寸法精度がでないとか、注型材料として利
用した場合には鋳込み品に収縮による歪がかかるとか、
型との接着力の低下や隙間が生じるなどの問題がある。
用また場合に寸法精度がでないとか、注型材料として利
用した場合には鋳込み品に収縮による歪がかかるとか、
型との接着力の低下や隙間が生じるなどの問題がある。
また、塗料として使用した場合、内部歪による塗板との
密着性の低下やそりの原因になり、接着剤として使用し
た場合にも、内部歪による接着力の低下やそり、便形な
どの使用上の問題を生ずる・ 更に、通常の架橋性重合体が架橋硬化する際に収縮する
こと屯公知である。エポキシ樹脂はエポキシ基の開11
による架橋硬化時における収縮率が小さい走めに、−科
、m着剤1寸法精度を要する成形品、鋳込み品等として
広く利用されている・。
密着性の低下やそりの原因になり、接着剤として使用し
た場合にも、内部歪による接着力の低下やそり、便形な
どの使用上の問題を生ずる・ 更に、通常の架橋性重合体が架橋硬化する際に収縮する
こと屯公知である。エポキシ樹脂はエポキシ基の開11
による架橋硬化時における収縮率が小さい走めに、−科
、m着剤1寸法精度を要する成形品、鋳込み品等として
広く利用されている・。
エポキシ樹脂の収縮率は架橋剤の種類、硬化時間及び温
度により多少異なるが、1〜数%11!度である(高分
子、27巻2月号、1978年、嬉108〜111買参
照)。
度により多少異なるが、1〜数%11!度である(高分
子、27巻2月号、1978年、嬉108〜111買参
照)。
単量体の重合時又は重合体の架橋時に実質的に収縮しな
いか望ましくは膨張を伴なう物質は、歪のない複合材料
、接着赳、注型材料等精巧な機器の製作材料として現在
きわめて重要視され、探究されている。
いか望ましくは膨張を伴なう物質は、歪のない複合材料
、接着赳、注型材料等精巧な機器の製作材料として現在
きわめて重要視され、探究されている。
本発明者等はかかる非収縮性の重合体を開発する九めに
鋭意研究を重ねぇ結果、従来公知のエチレン性不飽和化
合物に、%定の2−(メタ)アリロキシメチル−スピロ
オルソエステル化合物をラジカル共重合させることによ
って、該エチレン性不飽和化合物にスピルオルソエステ
ル基を導入すると、得られる共重合体は該オルンエステ
ル基の開@による架橋時に実質的に収縮を起さないこと
を知見して本発明を完成するに至った。
鋭意研究を重ねぇ結果、従来公知のエチレン性不飽和化
合物に、%定の2−(メタ)アリロキシメチル−スピロ
オルソエステル化合物をラジカル共重合させることによ
って、該エチレン性不飽和化合物にスピルオルソエステ
ル基を導入すると、得られる共重合体は該オルンエステ
ル基の開@による架橋時に実質的に収縮を起さないこと
を知見して本発明を完成するに至った。
なお本明細書において、(メタ)アリルとはアリルまた
はメタリルを、(メタ)アリロキシとはアリロキシまた
はメタリロキシを意味するものとする。
はメタリルを、(メタ)アリロキシとはアリロキシまた
はメタリロキシを意味するものとする。
本発明によって提供される前記式(I)の構造単位か゛
らなる共重合体は、1種又は2種以上のエチレン性不飽
和単量体と1次式[1)で示される化合物(以下化合物
(1)という)の少なくとも1種とのラジカル共重合に
よって製造する仁とができる。
らなる共重合体は、1種又は2種以上のエチレン性不飽
和単量体と1次式[1)で示される化合物(以下化合物
(1)という)の少なくとも1種とのラジカル共重合に
よって製造する仁とができる。
(1)
(こ\てnは3〜5の整数を、Rは水素原子又はメチル
基をそれぞれ表わす・) 本発明者等は先に化合物(1)を見出し、それがカチオ
ン−環重合するのみならずラジカル重合することを知得
して、化合物(1) Kついて特許出願しているが、そ
の明細書に記載されているようK。
基をそれぞれ表わす・) 本発明者等は先に化合物(1)を見出し、それがカチオ
ン−環重合するのみならずラジカル重合することを知得
して、化合物(1) Kついて特許出願しているが、そ
の明細書に記載されているようK。
化合物〔1〕はV−ブチ■ラクトン、δ−パレ四プラク
トンよび1−カプロラクトンから選ばれるラクトン姻と
(メタ)アリルグリシジルエーテルとの付加反応によっ
て製造することができる・この反応式を示すと以下のご
とくなる。
トンよび1−カプロラクトンから選ばれるラクトン姻と
(メタ)アリルグリシジルエーテルとの付加反応によっ
て製造することができる・この反応式を示すと以下のご
とくなる。
(上式において、Rは水素原子またはメチル基であり、
jFi&4’tたは5の整数である。以下同じ0)化合
物(1)の製造KIIしては、(メタ)アリルグリシジ
ルエーテルとラクトン類を1例えば塩化メチレジやテト
ラヒドロフラン等のごとき溶剤中で、酸例えばBL −
Fj bOh 8nO1* s T tOj* @pe
als * l’−トルエンスルホン酸、硫酸などの
ごとき酸を触媒として反応させることが望ましい。
jFi&4’tたは5の整数である。以下同じ0)化合
物(1)の製造KIIしては、(メタ)アリルグリシジ
ルエーテルとラクトン類を1例えば塩化メチレジやテト
ラヒドロフラン等のごとき溶剤中で、酸例えばBL −
Fj bOh 8nO1* s T tOj* @pe
als * l’−トルエンスルホン酸、硫酸などの
ごとき酸を触媒として反応させることが望ましい。
反応温度は特に制限はないが、一般に(1)〜6[Fで
行う。
行う。
また、(メタ)アリルグリシジルエーテル/ラクトンの
モル比、触媒濃度、及び溶媒使用tK関しても*に制w
&ハないが、一般に社(メタ)アリルグリシジルエーテ
ル/ラクトンのモル比腸α3〜t5.触媒濃度α1〜5
wt%(対仕込ラクトン重量比)、溶媒使用量α5〜
20(対仕込ラクトン重量比)で行う。
モル比、触媒濃度、及び溶媒使用tK関しても*に制w
&ハないが、一般に社(メタ)アリルグリシジルエーテ
ル/ラクトンのモル比腸α3〜t5.触媒濃度α1〜5
wt%(対仕込ラクトン重量比)、溶媒使用量α5〜
20(対仕込ラクトン重量比)で行う。
反応の進行程度は反応液を例えばガスクロマトグラフま
たは液体クロマトグラフで分析することによって容易に
知ることができる。
たは液体クロマトグラフで分析することによって容易に
知ることができる。
しながら、これにアルカリ水溶液例えば水酸化ナトリウ
ム水溶液を添加し、攪拌混合後水層と有機層に分別する
。
ム水溶液を添加し、攪拌混合後水層と有機層に分別する
。
有機“層中の未反応ラクトン化合物がほり零になるまで
上記操作を繰り返した後有機層を10%NjOz水溶液
で洗浄する・次に硫瞭iグネシウムにより有機層を脱水
した後、fず常圧蒸留によ秒低沸点物を除去し、−渣を
威圧蒸留することにより化合物(I)が散得される。
上記操作を繰り返した後有機層を10%NjOz水溶液
で洗浄する・次に硫瞭iグネシウムにより有機層を脱水
した後、fず常圧蒸留によ秒低沸点物を除去し、−渣を
威圧蒸留することにより化合物(I)が散得される。
上記化合物〔1〕とのラジカル共重合によって式(DK
おける単量体単位人を誘導し得るエチレン性不飽和化合
物としては、ビニル系単量体とラジカル共重合し得る公
知の化合物のほとんどすべてが使用でき、その具体例と
しては下記の化合物が挙げられる。
おける単量体単位人を誘導し得るエチレン性不飽和化合
物としては、ビニル系単量体とラジカル共重合し得る公
知の化合物のほとんどすべてが使用でき、その具体例と
しては下記の化合物が挙げられる。
アクリル酸及びメタクリル酸のエステル、例えばアクリ
ル酸及びメタクリル酸のメチル、エチル。
ル酸及びメタクリル酸のメチル、エチル。
プロピル、ブチル、ベンジル、フェニル、シクロヘキシ
ル、フェノキシエチル、アセトキシエチル。
ル、フェノキシエチル、アセトキシエチル。
ヒドロキシエチル、2−エチルヘキシル エステル部署
スチレン及びスチレン誘導体1例えばジビニルベン(ン
、0−1…−又1dp−クロルスチレンsm−又dp−
pロルメチルスチレン、−一メチルスチレン、p−メト
キシスチレン、 p−シメチルア2ノスチレン、p−シ
アノスチレン、p−ニトロスチレン、−一アセトキシス
チレン等;エチレン%1.2−ジクロルエチレン、イソ
ブチレン、ブタジェン、イソプレン、クロロプレン菖塩
化ビニル、酢酸ビニル、塩化ビニリデン、塩化アリル、
酢酸アリル審エチルビニルケトン、ビニレンカーボネー
ト、インプロピルビニルケトン;N−ビニルピロリドン
、2−ビニルヒリシン、5−メチルー2−ビニルピリジ
ン;アクリロニトリル。
スチレン及びスチレン誘導体1例えばジビニルベン(ン
、0−1…−又1dp−クロルスチレンsm−又dp−
pロルメチルスチレン、−一メチルスチレン、p−メト
キシスチレン、 p−シメチルア2ノスチレン、p−シ
アノスチレン、p−ニトロスチレン、−一アセトキシス
チレン等;エチレン%1.2−ジクロルエチレン、イソ
ブチレン、ブタジェン、イソプレン、クロロプレン菖塩
化ビニル、酢酸ビニル、塩化ビニリデン、塩化アリル、
酢酸アリル審エチルビニルケトン、ビニレンカーボネー
ト、インプロピルビニルケトン;N−ビニルピロリドン
、2−ビニルヒリシン、5−メチルー2−ビニルピリジ
ン;アクリロニトリル。
メタクリロニトリル;ケイ皮酸ビニル、ケイ皮酸ニトリ
ル;安息香酸ビニル、安息香酸アリル;並。
ル;安息香酸ビニル、安息香酸アリル;並。
びに不飽和カルボン酸の無水物及びエステル、例えばマ
レイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等の無水物及びエ
ステル及び7マル酸のエステル。
レイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等の無水物及びエ
ステル及び7マル酸のエステル。
使用され得る好ましいエチレン性不飽和化合物は1次式
; %式% (式中、8、紘水素又祉アルキル基であり、R1は−O
N、 −000R,、−000,R,、フェニルあるい
は置換基としてアルキル、^四ゲン又はハロアルキルを
有するフェニル基であり、R・は置換又は非置換のアル
キル、シフ四アルキ蔦又はアリール基であ゛す、R4は
アルキル基である)で示される化合物並びにマレイン酸
、イタコン酸及びシトラコン酸の無水物及びエステル及
びフマル酸のエステルから選んだ化合物である。
; %式% (式中、8、紘水素又祉アルキル基であり、R1は−O
N、 −000R,、−000,R,、フェニルあるい
は置換基としてアルキル、^四ゲン又はハロアルキルを
有するフェニル基であり、R・は置換又は非置換のアル
キル、シフ四アルキ蔦又はアリール基であ゛す、R4は
アルキル基である)で示される化合物並びにマレイン酸
、イタコン酸及びシトラコン酸の無水物及びエステル及
びフマル酸のエステルから選んだ化合物である。
化合物[1)とエチレン性不飽和化合物とのラジカル共
重合は1通常のラジカル重合手段、例えば紫外線、赤外
線、熱、電子線又はマイクロ波〈より行なうことができ
る。なお、無水マレイン酸等は化合物(1)と無触媒で
ラジカル共重合して目的の共重合体を与え得る。
重合は1通常のラジカル重合手段、例えば紫外線、赤外
線、熱、電子線又はマイクロ波〈より行なうことができ
る。なお、無水マレイン酸等は化合物(1)と無触媒で
ラジカル共重合して目的の共重合体を与え得る。
紫外線ラジカル重合では1通常光開始剤が用いられる・
好適に利用できる光開始剤としては、ア竜ドフエノン、
2.2−ジメトキシ−2−フエエルア竜トフエノン、2
.2−ジエトキシア竜トフェノン、4′−インプロピル
−2−ヒドロキシ−2−メチルプレビオフェノン、2−
ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、4..4’
−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンゾフェ
ノン。
好適に利用できる光開始剤としては、ア竜ドフエノン、
2.2−ジメトキシ−2−フエエルア竜トフエノン、2
.2−ジエトキシア竜トフェノン、4′−インプロピル
−2−ヒドロキシ−2−メチルプレビオフェノン、2−
ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、4..4’
−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンゾフェ
ノン。
メチル−(0−ベンゾイル)−ベンゾエート、1−フェ
ニル−1,2−プロパンジオン−2−(。
ニル−1,2−プロパンジオン−2−(。
−エトキシカルボニル)−オキシム、1−7エ二ルー1
.2−プロパンジオン−2−(0−ベンゾイル)−オキ
シム、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンツ
インエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル
、ベンゾインイソブチルエーテル、ペンツインオクチル
エーテル、ベンジル又はジアセチル勢のカルボニル化合
物;メチルアントラキノン、クロ四アントラキノン、ク
ロμチオキナントン、2−メチルチオキサントン又は2
−i−プロピルチオキサントン勢のアントラキノン又は
キサントン誘導体;ジフェニルスルフィド、ジフェニル
ジスルフィド又はジチオカーバメート等の硫黄化合物1
g−クロロメチルナフタレン、アントラセン等がある◎ 赤外線、熱、!イク四波による重合に際しては、分解に
よってラジカルを生成し得るものであれば。
.2−プロパンジオン−2−(0−ベンゾイル)−オキ
シム、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンツ
インエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル
、ベンゾインイソブチルエーテル、ペンツインオクチル
エーテル、ベンジル又はジアセチル勢のカルボニル化合
物;メチルアントラキノン、クロ四アントラキノン、ク
ロμチオキナントン、2−メチルチオキサントン又は2
−i−プロピルチオキサントン勢のアントラキノン又は
キサントン誘導体;ジフェニルスルフィド、ジフェニル
ジスルフィド又はジチオカーバメート等の硫黄化合物1
g−クロロメチルナフタレン、アントラセン等がある◎ 赤外線、熱、!イク四波による重合に際しては、分解に
よってラジカルを生成し得るものであれば。
いずれのラジカル開始剤の使用も可能である0例えば、
ジーtert−ブチルパーオキシド、2.5−ジメチル
−2′、5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサ
ン、tert −ブチルハイドロパーオキシド、 t
ert −ブチルパーオキシベンゾエート等の有機過酸
化物I2,2″−アゾビスイソブチロ= ) 13ル等
のアゾ化合物;過硫酸アンモニウム。
ジーtert−ブチルパーオキシド、2.5−ジメチル
−2′、5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサ
ン、tert −ブチルハイドロパーオキシド、 t
ert −ブチルパーオキシベンゾエート等の有機過酸
化物I2,2″−アゾビスイソブチロ= ) 13ル等
のアゾ化合物;過硫酸アンモニウム。
1硫酸カリク五等の過酸塩が使用できる。
又、電子線などの電離性放射線による重合は通常無触媒
系で行なわれる〇 触媒を用いる場合その使用量は、一般に単量体の合計量
に基づき101〜10wt%、好ましくは11〜5wt
%の範囲である。
系で行なわれる〇 触媒を用いる場合その使用量は、一般に単量体の合計量
に基づき101〜10wt%、好ましくは11〜5wt
%の範囲である。
ラジカル重合は、紫外線あるいは電離性放射線の照射に
よる場合は常温でも進むが、その他の場合は、加温ない
し加熱状態で円滑に進行する・重合方式としては、塊状
、溶液、Jl濁及び乳化 。
よる場合は常温でも進むが、その他の場合は、加温ない
し加熱状態で円滑に進行する・重合方式としては、塊状
、溶液、Jl濁及び乳化 。
重合のいずれも採用できるが1通常塊状又は溶液重合方
式が好都°合である@溶剤を用いる場合1例えばジオキ
サン等のエーテル類、シクロヘキサン等の脂環式膨化水
素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ジクpル
エチレン等のハロゲン化アルカン、メチルエチルケトン
、メチルイソブチルケトン等のケトン類及びメチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ等のセロンルプ類が一般に使
用される。
式が好都°合である@溶剤を用いる場合1例えばジオキ
サン等のエーテル類、シクロヘキサン等の脂環式膨化水
素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ジクpル
エチレン等のハロゲン化アルカン、メチルエチルケトン
、メチルイソブチルケトン等のケトン類及びメチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ等のセロンルプ類が一般に使
用される。
生成された共重合体は、これを例えば塩化メチレン、ジ
オ中サン、ジメチルホルムア建ド等の生成重合体が可溶
である溶剤中に溶解した溶液を。
オ中サン、ジメチルホルムア建ド等の生成重合体が可溶
である溶剤中に溶解した溶液を。
例えばn−へキサン、メタノール等の沈殿用溶剤中に攪
拌下滴加して共重合体を沈殿させる操作を何回か反復す
ることKよって分離精製できる。
拌下滴加して共重合体を沈殿させる操作を何回か反復す
ることKよって分離精製できる。
本発明の改質共重合体において、化合物(11から誘導
される単量体単位は、共重合体中に1モル%程度存在す
れば架橋時の体積収縮が実質的に改良され得るので1本
発明共重合体を示す前記式CI)における単量体単位の
モル分率を表わすX及びYは、Y/(X+Y)がj/1
00〜?9/100の範囲となる任意の割合であり得る
@しかしながら、ビシクロオルソエステル単位を50モ
ル%より多く存在させても、コスト高になるばかりか耐
水性の低下につながるので、Y/(X+Y)比は約5/
100〜50/100の範囲が好ましい・ 本発明の共重合体は分子中に体積膨張性のスピロオルソ
エステル基を有するため、架橋硬化時に実質的に体積変
化がないという特性を示し、また架橋によや耐熱性、耐
溶剤性等の物性が改良される・かくして1本発明の共重
合体は前述した体積収縮に伴なう欠点が解消され、ボイ
ドを生じない書着性の良い塗料、内部歪を生じない接着
剤、寸法精度が要求される複合材や注型材等の製造にき
わめて有用である。例えば1本発明の共重合体を適嶋な
溶剤に溶解して基体面に塗布し、形成された塗膜を適当
な架橋手段により硬化させて優れた塗膜を得ることがで
き、′tた金型中に注入後に架橋させて改良された成形
品を得ることができる・本発明の共重合体はカチオン重
合機構に従って架橋を起し、スピロオルソエステル基 (式中、nけ3〜5の整数を表わす)の開環重合反応に
より架橋重合体となる0この架iui通常カチオン重合
触媒を用いて開始される。この目的に使用されるカチオ
ン重合触媒としては、例えばBFs 、 FeO& 、
8nOza 、 8bOzm、 8bFs 、 ’r
io/、など(F)jkイス酸I nrs/gb−nr
s−アニリンコンプレックス等のごときルイス酸と0.
8.Nなどを有する化合物との配位化合物六ルイス酸の
オキソニウム塩。
される単量体単位は、共重合体中に1モル%程度存在す
れば架橋時の体積収縮が実質的に改良され得るので1本
発明共重合体を示す前記式CI)における単量体単位の
モル分率を表わすX及びYは、Y/(X+Y)がj/1
00〜?9/100の範囲となる任意の割合であり得る
@しかしながら、ビシクロオルソエステル単位を50モ
ル%より多く存在させても、コスト高になるばかりか耐
水性の低下につながるので、Y/(X+Y)比は約5/
100〜50/100の範囲が好ましい・ 本発明の共重合体は分子中に体積膨張性のスピロオルソ
エステル基を有するため、架橋硬化時に実質的に体積変
化がないという特性を示し、また架橋によや耐熱性、耐
溶剤性等の物性が改良される・かくして1本発明の共重
合体は前述した体積収縮に伴なう欠点が解消され、ボイ
ドを生じない書着性の良い塗料、内部歪を生じない接着
剤、寸法精度が要求される複合材や注型材等の製造にき
わめて有用である。例えば1本発明の共重合体を適嶋な
溶剤に溶解して基体面に塗布し、形成された塗膜を適当
な架橋手段により硬化させて優れた塗膜を得ることがで
き、′tた金型中に注入後に架橋させて改良された成形
品を得ることができる・本発明の共重合体はカチオン重
合機構に従って架橋を起し、スピロオルソエステル基 (式中、nけ3〜5の整数を表わす)の開環重合反応に
より架橋重合体となる0この架iui通常カチオン重合
触媒を用いて開始される。この目的に使用されるカチオ
ン重合触媒としては、例えばBFs 、 FeO& 、
8nOza 、 8bOzm、 8bFs 、 ’r
io/、など(F)jkイス酸I nrs/gb−nr
s−アニリンコンプレックス等のごときルイス酸と0.
8.Nなどを有する化合物との配位化合物六ルイス酸の
オキソニウム塩。
ジアゾニクム塩、カルボニウム塩、ハロゲン化合物、混
合ハロゲン化合物または過へロゲン酸誘導体などがあげ
られる〇 触媒の使用量は一般に架橋すべき共重合体に基づきα0
01〜10wt%の範囲が好適である0重合温度に関す
る制限は!にないが1通常常温〜200℃で行なわれる
句 tた架橋は電子線、紫外線等の放射−の照射によっても
行なうことができる0紫外線照射の場合十 − ム塩蕃φ−1−φ・BF、等の芳香族/10ニウム塩蓚
0H,0 龜−1−一一 φ−N−OH,−0−φ・BP、 等の周期律表第Va
族元素の周期律表第VIa族元素の芳香族オニウム塩が
使用され得る・ 触媒の使用量れ一般KJIIiすべき共重合体に基づき
α001〜10vrt%の範囲が好適である・以下の実
施例においで生成共重合体の比重は次の方法により測定
した。試料をジクロロエタンなどの溶剤に溶解し、その
溶液を基体に塗布し、室温で徐々に溶剤を蒸発させた後
減圧乾燥して共重合体の薄膜とした◎密度勾配管法B型
直貌式比重測定装置(柴山科学器械製作所)を使用し、
炭酸カリウム水溶液で作成した密度勾配管に、炭酸カリ
ウム水溶液中で脱気し良上記薄膜の小片を投入して測定
した・ また生成共重合体の平均分子量は高速液体クロマトグラ
フ(HLO)分析からポリスチレン換算重量平均分子量
として計算し友。その測定条件は次の通りである。
合ハロゲン化合物または過へロゲン酸誘導体などがあげ
られる〇 触媒の使用量は一般に架橋すべき共重合体に基づきα0
01〜10wt%の範囲が好適である0重合温度に関す
る制限は!にないが1通常常温〜200℃で行なわれる
句 tた架橋は電子線、紫外線等の放射−の照射によっても
行なうことができる0紫外線照射の場合十 − ム塩蕃φ−1−φ・BF、等の芳香族/10ニウム塩蓚
0H,0 龜−1−一一 φ−N−OH,−0−φ・BP、 等の周期律表第Va
族元素の周期律表第VIa族元素の芳香族オニウム塩が
使用され得る・ 触媒の使用量れ一般KJIIiすべき共重合体に基づき
α001〜10vrt%の範囲が好適である・以下の実
施例においで生成共重合体の比重は次の方法により測定
した。試料をジクロロエタンなどの溶剤に溶解し、その
溶液を基体に塗布し、室温で徐々に溶剤を蒸発させた後
減圧乾燥して共重合体の薄膜とした◎密度勾配管法B型
直貌式比重測定装置(柴山科学器械製作所)を使用し、
炭酸カリウム水溶液で作成した密度勾配管に、炭酸カリ
ウム水溶液中で脱気し良上記薄膜の小片を投入して測定
した・ また生成共重合体の平均分子量は高速液体クロマトグラ
フ(HLO)分析からポリスチレン換算重量平均分子量
として計算し友。その測定条件は次の通りである。
装 置;東洋曹達工業物製 HLO−801Aカラムj
T8にゲル−〇MH2本 溶離液蟇テトラヒドロフラン 流速1147分 次に本発明を化合物〔1〕の合成例、実施例及び参考例
により更に説明する。
T8にゲル−〇MH2本 溶離液蟇テトラヒドロフラン 流速1147分 次に本発明を化合物〔1〕の合成例、実施例及び参考例
により更に説明する。
化合物(1)の合成例1
攪拌機・コンデンサー・温度計及び滴下ロートを備え九
4つ目11フラスコに、−一カプロラクトン180F(
158モル)及び塩化メチレン300−を仕込み、缶液
を攪拌しながら氷水で5υに冷却し死後、 BP、・g
tt05−を添加した・アリルグリシジルエーテル15
01及び塩化メチレン150−を滴下ロートに仕込み、
釜液を攪拌しながら約2時間かけて、上記アリルグリシ
ジルエーテル混合液を滴下した〇なお滴下中Fi≦液温
度を10℃以下に保持した〇 その後室温で5時間攪拌した後、トリエチルア々ン10
−を加え触媒を中和した0 次に未反応−一カプ四ラクトンを除去するため反応液を
氷水で冷却し、10%NaG(水溶液200m1を徐々
に加え、添加完了後30分間攪拌を継続した後、アルカ
リ水溶液層と有機層とを分離し良。分離した有機層に上
記10%NaOH水溶液による洗浄操作を更に2Iil
繰秒返した後、有機層を10%N暑Ol水溶@5001
11=鳳で洗浄し九〇有機層は硫酸!グネシウムで脱水
した後、常圧単蒸冑により溶媒を除去した。次に減圧蒸
留して沸点98℃/α8−HP において2−アリロキ
シメチル−1,44−)リオキサスビロ(4,S)ウン
デカン117F(収率:!19%)を得九〇その物性値
は下記の通秒である◎ 比重:1070(25℃) 肩折率ニジ■t467 沸点:98℃/(L8111wlHf IR(赤外吸収スペクトル) −−−−−(図7参照)
: j 645m−” (−OH−OH,)psscs
+a−” 、 1 o7ow−’ 、 113Qam−
’(0−0−0) NMR(核磁気共鳴スペクトル)(ODOh中)・・・
・・(図8参照) # (ppm) : 5.0〜&O(3H,0HI−O
H−)&2〜45 (9H,−0−OHr−x 4 、
−0H−0−)V 14〜t9(6HipH1か) 化合物(1’lの合成例2 攪拌機・コンデンサー・温度針及び滴下ロートを備えた
4つ口11フラスコに%r−ブチロラクトン150F(
1742モル)及び塩化メチレン300m1を仕込み、
墨液を攪拌しながら氷水で5℃に冷却した後、BF・・
Btρ 5−息を添加した0アリルグリシジルエーテル
165を及び塩化メチレン150m1を滴下ロー)1c
仕込み、薔液を攪拌しながら約2時間かけて上記アリル
グリシジルエーテル混合液を滴下し良@なお滴下中は氷
水で冷却し薔液温度を10″0以下に保持した。
4つ目11フラスコに、−一カプロラクトン180F(
158モル)及び塩化メチレン300−を仕込み、缶液
を攪拌しながら氷水で5υに冷却し死後、 BP、・g
tt05−を添加した・アリルグリシジルエーテル15
01及び塩化メチレン150−を滴下ロートに仕込み、
釜液を攪拌しながら約2時間かけて、上記アリルグリシ
ジルエーテル混合液を滴下した〇なお滴下中Fi≦液温
度を10℃以下に保持した〇 その後室温で5時間攪拌した後、トリエチルア々ン10
−を加え触媒を中和した0 次に未反応−一カプ四ラクトンを除去するため反応液を
氷水で冷却し、10%NaG(水溶液200m1を徐々
に加え、添加完了後30分間攪拌を継続した後、アルカ
リ水溶液層と有機層とを分離し良。分離した有機層に上
記10%NaOH水溶液による洗浄操作を更に2Iil
繰秒返した後、有機層を10%N暑Ol水溶@5001
11=鳳で洗浄し九〇有機層は硫酸!グネシウムで脱水
した後、常圧単蒸冑により溶媒を除去した。次に減圧蒸
留して沸点98℃/α8−HP において2−アリロキ
シメチル−1,44−)リオキサスビロ(4,S)ウン
デカン117F(収率:!19%)を得九〇その物性値
は下記の通秒である◎ 比重:1070(25℃) 肩折率ニジ■t467 沸点:98℃/(L8111wlHf IR(赤外吸収スペクトル) −−−−−(図7参照)
: j 645m−” (−OH−OH,)psscs
+a−” 、 1 o7ow−’ 、 113Qam−
’(0−0−0) NMR(核磁気共鳴スペクトル)(ODOh中)・・・
・・(図8参照) # (ppm) : 5.0〜&O(3H,0HI−O
H−)&2〜45 (9H,−0−OHr−x 4 、
−0H−0−)V 14〜t9(6HipH1か) 化合物(1’lの合成例2 攪拌機・コンデンサー・温度針及び滴下ロートを備えた
4つ口11フラスコに%r−ブチロラクトン150F(
1742モル)及び塩化メチレン300m1を仕込み、
墨液を攪拌しながら氷水で5℃に冷却した後、BF・・
Btρ 5−息を添加した0アリルグリシジルエーテル
165を及び塩化メチレン150m1を滴下ロー)1c
仕込み、薔液を攪拌しながら約2時間かけて上記アリル
グリシジルエーテル混合液を滴下し良@なお滴下中は氷
水で冷却し薔液温度を10″0以下に保持した。
その後、室温で5時間攪拌した後、トリエチルアンン1
0m1を加え触媒を中和した0次に反応液を氷水で冷却
し、10%N a OH水溶液2001m1を徐々に加
えた。添加完了後30分間攪拌を継続した後、アルカリ
水溶液層と有機層とを分離した・分離した有機層中に未
反応−一カブーラクトンが液体りUマドグラフで検出さ
れなくなるまで上記10%NaOH水溶液による洗浄操
作を更に繰り返し死後(洗浄回数は2回)、有機層を1
0%Na1l水溶1HOOalで洗浄した・有機層は硫
酸マグネシウムで脱水した後、常圧単蒸留によ秒溶媒を
除去した。次に減圧蒸留して、沸点94℃/1OssH
pにおいて2−アリロキシメチル−1,4,6−)リオ
キサスビロ(:4.4)ノナン142F(収率:49%
)を得た0 その物性値は下記の通りである0 ・比重 t090 (25℃) ・屈折率 心−t459 ・沸 点 94℃/lOMH# 1545cm+”−” (−OH間0H8)955Ca
−’ 、 1 osocsa−” 、 115Qw−’
(o−o−o) ・NMR,−・・・・(図10参照) J (P Pm ) J 5.0−ys、0 (3H,
OH,−0H−)。
0m1を加え触媒を中和した0次に反応液を氷水で冷却
し、10%N a OH水溶液2001m1を徐々に加
えた。添加完了後30分間攪拌を継続した後、アルカリ
水溶液層と有機層とを分離した・分離した有機層中に未
反応−一カブーラクトンが液体りUマドグラフで検出さ
れなくなるまで上記10%NaOH水溶液による洗浄操
作を更に繰り返し死後(洗浄回数は2回)、有機層を1
0%Na1l水溶1HOOalで洗浄した・有機層は硫
酸マグネシウムで脱水した後、常圧単蒸留によ秒溶媒を
除去した。次に減圧蒸留して、沸点94℃/1OssH
pにおいて2−アリロキシメチル−1,4,6−)リオ
キサスビロ(:4.4)ノナン142F(収率:49%
)を得た0 その物性値は下記の通りである0 ・比重 t090 (25℃) ・屈折率 心−t459 ・沸 点 94℃/lOMH# 1545cm+”−” (−OH間0H8)955Ca
−’ 、 1 osocsa−” 、 115Qw−’
(o−o−o) ・NMR,−・・・・(図10参照) J (P Pm ) J 5.0−ys、0 (3H,
OH,−0H−)。
3.5〜44(9H,−0(Hrx4.−o OH)
V 実施例1 アクリロニトリル0.255f(4,58ζリモル)。
V 実施例1 アクリロニトリル0.255f(4,58ζリモル)。
2−アリロキシメチル−1,4,6−)リオキサスビ
7口(4,6)ウンデカン2. Of (8,76ンリ
モル)及び重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリ
ル64.7■(重合性成分の3モル%)を混合し。
7口(4,6)ウンデカン2. Of (8,76ンリ
モル)及び重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリ
ル64.7■(重合性成分の3モル%)を混合し。
封管中で70℃において24時間反応させて淡黄色粘稠
物質を得た・ この生成物を塩化メチレン10m1に溶解し、これをn
−ヘキサン2Q Q ml中へ攪拌しながら滴下し″′
Cズ駅豐?F取した・との精製操作をもう一度繰り返し
た後、減圧乾燥して、収率3o%で微黄色固体を得た。
物質を得た・ この生成物を塩化メチレン10m1に溶解し、これをn
−ヘキサン2Q Q ml中へ攪拌しながら滴下し″′
Cズ駅豐?F取した・との精製操作をもう一度繰り返し
た後、減圧乾燥して、収率3o%で微黄色固体を得た。
得られた重合物のIR分析により、スピロオルソエステ
ル基KIl#黴的な960cm−” 、 I QdQc
s*−” (i’)吸収及び2220m”−”K二)9
ルの吸収が認められ・た(図1参照)・ アクリロニトリル65.4%に対して2−アリロキシメ
チル−1,4,6−)リオキサスビロ(4,6)ウンデ
カン546%であった。この共重合体の構造は次式で表
わされる。
ル基KIl#黴的な960cm−” 、 I QdQc
s*−” (i’)吸収及び2220m”−”K二)9
ルの吸収が認められ・た(図1参照)・ アクリロニトリル65.4%に対して2−アリロキシメ
チル−1,4,6−)リオキサスビロ(4,6)ウンデ
カン546%であった。この共重合体の構造は次式で表
わされる。
0H。
0H−OH。
0
(ここで Y/(X+Y)−α346である)この共重
合体のHLO分析(よる重量平均分子量は7000であ
り、管た25′aにおける比重はt176であった。
合体のHLO分析(よる重量平均分子量は7000であ
り、管た25′aにおける比重はt176であった。
実施例2
メチルメタクリレートα4591(4,58ミリモル)
、2−アリロキシメチル−1,4,6−)リオキサスビ
ロ(4,S)ウンデカン2.0 # (8,76之すモ
ル)及び重合開始剤としてアゾビスインブチロニトリル
64.7M(重合性成分の3モル%)を混合し、tl管
中で70℃において24時間反応させて粘稠な半固体状
生成物を得た。
、2−アリロキシメチル−1,4,6−)リオキサスビ
ロ(4,S)ウンデカン2.0 # (8,76之すモ
ル)及び重合開始剤としてアゾビスインブチロニトリル
64.7M(重合性成分の3モル%)を混合し、tl管
中で70℃において24時間反応させて粘稠な半固体状
生成物を得た。
この生成物を塩化メチレン10m1K溶解し、これをn
−へキサン200m1中へ攪拌しながら滴下し、生じた
沈殿物をFjl!した・更にヒの精製操作を繰抄返した
後、減圧下60′oで乾燥した結果。
−へキサン200m1中へ攪拌しながら滴下し、生じた
沈殿物をFjl!した・更にヒの精製操作を繰抄返した
後、減圧下60′oで乾燥した結果。
収率20%で白色固体状重合物を得た。
得られた重合物のIR分□析によりスピロオルソエステ
ル基に特徴的な960clli−’ 、 1140cm
−’の吸収が認められた(図2参照)。
ル基に特徴的な960clli−’ 、 1140cm
−’の吸収が認められた(図2参照)。
!え、この重合物における共重合比率は、共重合体のケ
ン化価(50(L?■−KOH/y )より、メチルメ
タクリレート95モル%に対して2−アリロキシメチル
−1,44−)リオキサスビロ(45)ウンデカン5モ
ル%で1つ&。
ン化価(50(L?■−KOH/y )より、メチルメ
タクリレート95モル%に対して2−アリロキシメチル
−1,44−)リオキサスビロ(45)ウンデカン5モ
ル%で1つ&。
なお、共重合体のケン化価は下記の方法により求めた。
共重合体50−と11N水酸化ナトリウム標準水溶液1
5−「及びジメチルホルムア建ド(以下DMFと略記す
る)15mlを100m1工−レンマイヤーフラスコに
入れ、ジムロート冷却管を付けた後80℃の温水浴で2
時間加熱する@室N/100塩酸標準水溶液で溶液が無
色になる点を終点として滴定する・対照(ブランク)と
しては、共重合体を添加しないで、上記操作を実施した
結果を用いる@本操作をs11繰り返して平均した。
5−「及びジメチルホルムア建ド(以下DMFと略記す
る)15mlを100m1工−レンマイヤーフラスコに
入れ、ジムロート冷却管を付けた後80℃の温水浴で2
時間加熱する@室N/100塩酸標準水溶液で溶液が無
色になる点を終点として滴定する・対照(ブランク)と
しては、共重合体を添加しないで、上記操作を実施した
結果を用いる@本操作をs11繰り返して平均した。
この共重合体の構造−次式で表わされる・OH。
0H。
0H−OH。
O
(ここで Y/(X+Y)−(105テhル)この共重
合体のHLO分析により求めた重量平均分子量は2五0
00であり、ま喪25′Oにおける比重はt206であ
った。
合体のHLO分析により求めた重量平均分子量は2五0
00であり、ま喪25′Oにおける比重はt206であ
った。
実施例5
スチレンa、912F(&7,6ミリモル)、2−アリ
ロキシメチル−1,4,6−)リオキサスビロC4,6
〕ウンデカン2.0fCB、フロミリモル)及び重合開
始剤としてアゾビスイソブチロニトリル843m(重合
性成分の3%ル%)を混合し、封管中て70℃において
24時間反応させて粘稠生成物を得た。この生成物を塩
化メチレン101m1K溶解し、これをn−へキサン2
00m1中へ攪拌しながら滴下して沈殿物を一取した@
この精製操作をもう一度繰秒返した後、減圧乾燥して、
収率28%で白色固体状重合物を得た。
ロキシメチル−1,4,6−)リオキサスビロC4,6
〕ウンデカン2.0fCB、フロミリモル)及び重合開
始剤としてアゾビスイソブチロニトリル843m(重合
性成分の3%ル%)を混合し、封管中て70℃において
24時間反応させて粘稠生成物を得た。この生成物を塩
化メチレン101m1K溶解し、これをn−へキサン2
00m1中へ攪拌しながら滴下して沈殿物を一取した@
この精製操作をもう一度繰秒返した後、減圧乾燥して、
収率28%で白色固体状重合物を得た。
得られた重合物のIR分析によりスピロオルソエステル
基Kq#微的な960tMm−” 、 1140cm+
−”の吸収が冨められた(H5参It)。また、この重
合物における共重合比率は、NMR分析によ秒スチレン
90%に対して2−ア′90キシメチルー1.46−ド
リオキナスピo(4s)クンデカン10%で参った。仁
の比率はa−6,0−7,6ppm(−1)と−一五5
Opp<スピロオルソエステルの5位。
基Kq#微的な960tMm−” 、 1140cm+
−”の吸収が冨められた(H5参It)。また、この重
合物における共重合比率は、NMR分析によ秒スチレン
90%に対して2−ア′90キシメチルー1.46−ド
リオキナスピo(4s)クンデカン10%で参った。仁
の比率はa−6,0−7,6ppm(−1)と−一五5
Opp<スピロオルソエステルの5位。
7位のメチレン)のピークの積分値から計算して求めた
。
。
この共重合体の構造は次式で表わされる・0
0H。
’(jjf Y/(X+Y)−Q、1(lt”アル)
この共重合体のHLO分析により求めた重量平角分子量
は16,000であった◎また25℃におけ番比重はt
080であった〇 実施例4 無水マレイン酸(1859F(8,7delJ%ル)と
2−アリロキシメチル−1,4,6−)リオキサスピロ
(4,t5)ウンデカン21(8,76℃リモル)及び
アゾビスイソブチロニトリル865■(重合性成分の3
モル%)を1.4−ジオキサンlQmlに溶かし食後、
耐管中で70℃において24時間反応させ九〇得られた
反応生成物をn−へ中サン中へ滴下すると白色沈殿が生
成し友。この精製操作を繰り返した後、減圧下で乾燥し
て収率91%で白色粉末状重合物を得た。得られ九重合
物のIR分析によ01780cm−” 、 1850c
aa−’に酸無水物のピークが観測された。
この共重合体のHLO分析により求めた重量平角分子量
は16,000であった◎また25℃におけ番比重はt
080であった〇 実施例4 無水マレイン酸(1859F(8,7delJ%ル)と
2−アリロキシメチル−1,4,6−)リオキサスピロ
(4,t5)ウンデカン21(8,76℃リモル)及び
アゾビスイソブチロニトリル865■(重合性成分の3
モル%)を1.4−ジオキサンlQmlに溶かし食後、
耐管中で70℃において24時間反応させ九〇得られた
反応生成物をn−へ中サン中へ滴下すると白色沈殿が生
成し友。この精製操作を繰り返した後、減圧下で乾燥し
て収率91%で白色粉末状重合物を得た。得られ九重合
物のIR分析によ01780cm−” 、 1850c
aa−’に酸無水物のピークが観測された。
重合物の共重合比率は、実施例2に記載と同様の方法す
なわち一定量の重合物をDMF溶液中で11N水酸化ナ
トリウム水溶液を加えて加水分解し、過剰の水酸化ナト
リウムをα1N塩酸で逆滴定して無水マレイン酸残基の
含有量を算出することにより行った・その結果、この共
重合体は無水マレイン酸と2−アリロキシメチル−1,
4,6−)リオキナスピロ(4,,6)ウンデカンを1
対1で含むことが判った・ すなわち共重合体は次式の構造を有する。
なわち一定量の重合物をDMF溶液中で11N水酸化ナ
トリウム水溶液を加えて加水分解し、過剰の水酸化ナト
リウムをα1N塩酸で逆滴定して無水マレイン酸残基の
含有量を算出することにより行った・その結果、この共
重合体は無水マレイン酸と2−アリロキシメチル−1,
4,6−)リオキナスピロ(4,,6)ウンデカンを1
対1で含むことが判った・ すなわち共重合体は次式の構造を有する。
0H1。
0H−OH。
0
(ここで Y/(X+Y )−15である)上記共重合
体α1fを塩化メチレン12 g!11 K溶解した溶
液を燐酸処理冷間圧延鋼板(JI8 G−31418
POOBA参14X処II)K2S−の膜厚で塗布後、
熱風乾燥し九結果、密着性のよい透明な塗膜が得られ7
toこの塗膜は空気中の水分で架橋しており、塩化メチ
レンに不溶であった。
体α1fを塩化メチレン12 g!11 K溶解した溶
液を燐酸処理冷間圧延鋼板(JI8 G−31418
POOBA参14X処II)K2S−の膜厚で塗布後、
熱風乾燥し九結果、密着性のよい透明な塗膜が得られ7
toこの塗膜は空気中の水分で架橋しており、塩化メチ
レンに不溶であった。
実施例5
無水マレイン酸α755 F (7,50ミリモル)。
2−アリロキシメチル−1,4,6−)リオキサスビロ
(4,4)ノナンt 5 F (7,50ミリモル)及
びアゾビスイソブチロニトリル57M@(重合性成分の
5モル%)を1.4−ジオキサン10−に溶かし食後、
封管中で70′CJにおいて24時間反応させ喪。得ら
れ九反応生成物をn−ヘキサン中へ滴下すると白色沈殿
が生成した。仁の精製操作を繰り返し食後、減圧下で乾
燥して、収率75%で白色粉末状重合物を得九@得られ
た重合物のIR分析により1780al−” 、 18
50cmm−”に酸無水物のビータが観測され光・ 重合物の共重合比率は実施例4と同様に1重合物を11
N水酸化ナトリウム水溶液により加水分解し、過剰の水
酸化す)9ウムをα1N塩酸水溶液で逆滴定することに
より行った・ その結果、無水マレイン酸と2−アリロキシメチル−1
,4,6−)リオキナスピロ(4,4)ノナンを1対1
で含むことが判った。
(4,4)ノナンt 5 F (7,50ミリモル)及
びアゾビスイソブチロニトリル57M@(重合性成分の
5モル%)を1.4−ジオキサン10−に溶かし食後、
封管中で70′CJにおいて24時間反応させ喪。得ら
れ九反応生成物をn−ヘキサン中へ滴下すると白色沈殿
が生成した。仁の精製操作を繰り返し食後、減圧下で乾
燥して、収率75%で白色粉末状重合物を得九@得られ
た重合物のIR分析により1780al−” 、 18
50cmm−”に酸無水物のビータが観測され光・ 重合物の共重合比率は実施例4と同様に1重合物を11
N水酸化ナトリウム水溶液により加水分解し、過剰の水
酸化す)9ウムをα1N塩酸水溶液で逆滴定することに
より行った・ その結果、無水マレイン酸と2−アリロキシメチル−1
,4,6−)リオキナスピロ(4,4)ノナンを1対1
で含むことが判った。
すなわち共重合体は次式の構造を有する。
0 0
(ここで ¥/(X+Y)霞0.50である)実施例6
酢酸ビニルα377f(448ンリモル)、アac4.
6〕ウンデカy2.0f(8,76(リモル)及びアゾ
ビスイノブチロニトリル86.5mg(1合性成分の3
モル%)を混合し、封管中で70 ’Oにおいて24時
間反応させて淡黄色粘稠生成物を得たO 33%で微黄色固体を得た。
6〕ウンデカy2.0f(8,76(リモル)及びアゾ
ビスイノブチロニトリル86.5mg(1合性成分の3
モル%)を混合し、封管中で70 ’Oにおいて24時
間反応させて淡黄色粘稠生成物を得たO 33%で微黄色固体を得た。
得られた重合物のIR分析によりスピロオルソエステル
基に%黴的な96Qm−’、10106O0”の吸収、
ニトリル基に特徴的な2220clIII−1の吸収及
び1740cm−’に強いエステル基(R−000−)
の吸収が認められた(図4参照)。
基に%黴的な96Qm−’、10106O0”の吸収、
ニトリル基に特徴的な2220clIII−1の吸収及
び1740cm−’に強いエステル基(R−000−)
の吸収が認められた(図4参照)。
この重合物におりる共重合比率を、アクリミニトリル含
有量は元素分析結果(窒素含有量!6.8%)より、酢
酸ビニル含有量は実施例2と同様の方法によるケン化価
(55,911g−KOH/f )より計算した。その
結果、この共重合物の構造は次式で表わされる。
有量は元素分析結果(窒素含有量!6.8%)より、酢
酸ビニル含有量は実施例2と同様の方法によるケン化価
(55,911g−KOH/f )より計算した。その
結果、この共重合物の構造は次式で表わされる。
0H。
0H−OH*
0
〔ζζでX/(X+X’)Y )―α56. X’/(
X+X午Y)−α11 、 Y/(X+X’)Y )−
α33 である〕この共重合物のHLO分析による重量
平均分子量は3八〇〇〇であった・ また25℃における比重はt152であったり実施例7 アクリロニトリルα3 ? 81 (7,50? 9モ
ル)。
X+X午Y)−α11 、 Y/(X+X’)Y )−
α33 である〕この共重合物のHLO分析による重量
平均分子量は3八〇〇〇であった・ また25℃における比重はt152であったり実施例7 アクリロニトリルα3 ? 81 (7,50? 9モ
ル)。
2−アリ四キシメチル−1,4,6−)リオキサスピa
[4,4]ノナンi、 5 Of (7,50ンリモル
)及びアゾビスイノブチロニトリル74Q(重合性成分
の3モル%)を混合し、封管中で60′oにおいて12
時間反応させて淡黄色固形物を得た・この生成物を塩化
メチレン10m1K溶解し、こ得られた重合物の工8分
析によりスピロオルソエステル基に%黴的な9600I
II〜1の吸収及び2220cm−”K=)リルの吸収
が認められる(図5参照)。
[4,4]ノナンi、 5 Of (7,50ンリモル
)及びアゾビスイノブチロニトリル74Q(重合性成分
の3モル%)を混合し、封管中で60′oにおいて12
時間反応させて淡黄色固形物を得た・この生成物を塩化
メチレン10m1K溶解し、こ得られた重合物の工8分
析によりスピロオルソエステル基に%黴的な9600I
II〜1の吸収及び2220cm−”K=)リルの吸収
が認められる(図5参照)。
この重合物にシける共重合比率は元素分析値(窒素含有
量17%、酸禦含有量2’1.6%)より。
量17%、酸禦含有量2’1.6%)より。
アクリロニトリル6tO<に対して2−アリロキシメチ
ル−1,4,6−ドリオキサスビロ[4,4)ノナン3
9.0%であつ光。この共重合体の構造は次式であられ
される◎ 0H。
ル−1,4,6−ドリオキサスビロ[4,4)ノナン3
9.0%であつ光。この共重合体の構造は次式であられ
される◎ 0H。
0H−OH。
O
\ 1
0H,−OH。
(ここで Y/(X+Y )−α39である)この共重
合体のHLO分析による重量平均分子量はIQ、Goo
であり、また25℃における比重はt160であった 参考例1 実施例1で得た共重合物100Qを1.1−ジクロロエ
タン2mlに溶かし、 BP、・TAt*Ot2■を添
加した。この混合物を70℃で24時間反応させて淡黄
色固体を得た。
合体のHLO分析による重量平均分子量はIQ、Goo
であり、また25℃における比重はt160であった 参考例1 実施例1で得た共重合物100Qを1.1−ジクロロエ
タン2mlに溶かし、 BP、・TAt*Ot2■を添
加した。この混合物を70℃で24時間反応させて淡黄
色固体を得た。
この反応物は架橋しており、塩化メチレンに溶けなかつ
九〇この架橋重合物のIR分析によりスピロオルソエス
テル基に%有の95Qc111−’。
九〇この架橋重合物のIR分析によりスピロオルソエス
テル基に%有の95Qc111−’。
1140m−”の吸収はほとんど消えていた0173Q
cm−”[エステル基の強い吸収が祈念に生じていた(
図6参照)0 この架橋重合物の25℃における比重は、t170であ
り共重合物の架橋によりα5%の体積膨張が認められた
〇 参考例2 実施例2で得た共重合物100哩を1.1−ジクロ四エ
タン2膳1に溶かしBFs−Et漠Ot2■を添加し九
。この混合物を70℃で24時間反応させて白色固体を
得た〇 この反応物は架橋しており、塩化メチレンに溶けなかっ
た◎この架橋重合−のIR分析によりスピロオルソエス
テル基に特有の960Cxa−”の吸収ハはとんど消え
ていた。
cm−”[エステル基の強い吸収が祈念に生じていた(
図6参照)0 この架橋重合物の25℃における比重は、t170であ
り共重合物の架橋によりα5%の体積膨張が認められた
〇 参考例2 実施例2で得た共重合物100哩を1.1−ジクロ四エ
タン2膳1に溶かしBFs−Et漠Ot2■を添加し九
。この混合物を70℃で24時間反応させて白色固体を
得た〇 この反応物は架橋しており、塩化メチレンに溶けなかっ
た◎この架橋重合−のIR分析によりスピロオルソエス
テル基に特有の960Cxa−”の吸収ハはとんど消え
ていた。
この架橋重合物の25℃にシける比重はt206であり
、共重合物の架橋による体積収縮はほぼ零であつ光@ 参考例5 実施例3で得た共重合物100■を11−ジクロロエタ
ン2mlに溶かしBP、・gtρ t2Qを添加しえ。
、共重合物の架橋による体積収縮はほぼ零であつ光@ 参考例5 実施例3で得た共重合物100■を11−ジクロロエタ
ン2mlに溶かしBP、・gtρ t2Qを添加しえ。
この混合物を70℃で24時間反応させて白色固体を得
た◎この反応物は架橋してお秒、塩化メチレンに溶けな
かった。この架橋重合物のIR分析によりスピロオルソ
エステル基に特有の96041の吸収はほとんど消え、
新喪に1ysocm”にエステル基の吸収が生じていた
・その25℃における比重Fitoaoであり、共重合
物の架橋にる体積変化はほぼ零であつ九。
た◎この反応物は架橋してお秒、塩化メチレンに溶けな
かった。この架橋重合物のIR分析によりスピロオルソ
エステル基に特有の96041の吸収はほとんど消え、
新喪に1ysocm”にエステル基の吸収が生じていた
・その25℃における比重Fitoaoであり、共重合
物の架橋にる体積変化はほぼ零であつ九。
参考例4
実施例6で得た共重合物100■をtl−ジクμロエタ
ン2m1K溶かし、!l始剤としてBP、−T!、t、
Ot’L2wg添加した。この混合物を70℃で24時
間反応させて微黄色固体を得た・この反応物は架橋して
おり、塩化メ、チレンに溶けなかつ九〇 この架橋重合物のIR分析によりスピロオルソエステル
基に舛有の9602−”の吸収はほとんど消えてい九〇 その25℃における比重は1148であり、共重合物の
架橋によりα5%の体積膨張が認められ九〇
ン2m1K溶かし、!l始剤としてBP、−T!、t、
Ot’L2wg添加した。この混合物を70℃で24時
間反応させて微黄色固体を得た・この反応物は架橋して
おり、塩化メ、チレンに溶けなかつ九〇 この架橋重合物のIR分析によりスピロオルソエステル
基に舛有の9602−”の吸収はほとんど消えてい九〇 その25℃における比重は1148であり、共重合物の
架橋によりα5%の体積膨張が認められ九〇
図11図28図3.図4及び図5は、それぞれ実施例1
.実施例2.笑施例3.実施例6及び実施例7で得られ
た共重合体の赤外吸収スペクトル―であ抄、又図6は参
考例1で得られた架橋し良書重合体の赤外吸収スペクト
ル図である。 IIA7は化合物(1)の合成例1で得た2−アリロキ
シメチル−1,46−)リオキナスビロC46〕ウンデ
カンのIRスペクトル図図1図上同化合物のNMRスペ
クトル図であり、fた図9は化合物(1)の合成例2で
1lll喪2−アリロキシメチル−1゜46−ドリオキ
ナスビロ(4,43ノナンのIRスペクトル図1図10
は同化合物のNMRスペクトル図である0 特許出願人の名称 東亜合成化学工業株式会社 手続補正書 昭和57年8り//日 特許庁長官若杉和夫殿 1、事件の表示 昭和56年特許願第138310号 2、発明の名称 スピロオルソエステル基を有する改質共重合体 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都港区西新橋1丁目14番1号4、補正の
対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 5、補正の内容 (1)明細書第14頁3行と4行の間に次の文を加入す
る。 「又、本発明に係る共重合体の重量平均分子量は500
〜500万である。」 (2)明細書第29頁下から11行と10行の間に次の
文を加入する。 [この共重合体の)(CL分析による重量平均分子量は
約4,000であつ友。」 (3)明細書第31頁下から14行と13行の間に次の
文を加入する。 「この共重合体のHCL分析による重量平均分子量は約
3,500であった。」 以上
.実施例2.笑施例3.実施例6及び実施例7で得られ
た共重合体の赤外吸収スペクトル―であ抄、又図6は参
考例1で得られた架橋し良書重合体の赤外吸収スペクト
ル図である。 IIA7は化合物(1)の合成例1で得た2−アリロキ
シメチル−1,46−)リオキナスビロC46〕ウンデ
カンのIRスペクトル図図1図上同化合物のNMRスペ
クトル図であり、fた図9は化合物(1)の合成例2で
1lll喪2−アリロキシメチル−1゜46−ドリオキ
ナスビロ(4,43ノナンのIRスペクトル図1図10
は同化合物のNMRスペクトル図である0 特許出願人の名称 東亜合成化学工業株式会社 手続補正書 昭和57年8り//日 特許庁長官若杉和夫殿 1、事件の表示 昭和56年特許願第138310号 2、発明の名称 スピロオルソエステル基を有する改質共重合体 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都港区西新橋1丁目14番1号4、補正の
対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 5、補正の内容 (1)明細書第14頁3行と4行の間に次の文を加入す
る。 「又、本発明に係る共重合体の重量平均分子量は500
〜500万である。」 (2)明細書第29頁下から11行と10行の間に次の
文を加入する。 [この共重合体の)(CL分析による重量平均分子量は
約4,000であつ友。」 (3)明細書第31頁下から14行と13行の間に次の
文を加入する。 「この共重合体のHCL分析による重量平均分子量は約
3,500であった。」 以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次式〔I〕で示される構成単位からなるスピロオル
ソエステル基を有するエチレン性不飽和化合物の改質共
重合体。 0H,[1) OH−OH。 O (式中、flは3〜5の整数を、Rは水素原子又はメチ
ル基を、Aは少なくとも1種のエチレン性不飽和化合物
から構成される単量体単位を、まfix及びYは各単量
体単位のモル分率をそれぞれ表わす・) 2 単量体単位ムが次式で示されるエチレン性不飽和化
合物の1種又は2種以上から構成される単量体単位であ
る特許請求の範囲第1項記載の共重合体・ H/ \R1 (式中、R・は水素又はアルキル基であり、R1は−O
N、−000R,,−00OR4,フェニルあるいは置
換基としてアルキル、ハロゲン又はハロアルキルを有す
るフェニル基であり。 Rid置換又は非置換のアルキル、シクロアルキル又は
アリール基であり、R,はアルキル基である)。 五 単量体単位人がマレイン酸、イタ占ン酸又はシトラ
コン酸の無水物又はエステルあるいはフマル酸のエステ
ルから構成される単量体単位である特許請求の範囲第1
項記載の共重合体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13831081A JPS5840311A (ja) | 1981-09-04 | 1981-09-04 | スピロオルソエステル基を有する改質共重合体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13831081A JPS5840311A (ja) | 1981-09-04 | 1981-09-04 | スピロオルソエステル基を有する改質共重合体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5840311A true JPS5840311A (ja) | 1983-03-09 |
| JPH0212968B2 JPH0212968B2 (ja) | 1990-04-03 |
Family
ID=15218887
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13831081A Granted JPS5840311A (ja) | 1981-09-04 | 1981-09-04 | スピロオルソエステル基を有する改質共重合体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5840311A (ja) |
-
1981
- 1981-09-04 JP JP13831081A patent/JPS5840311A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0212968B2 (ja) | 1990-04-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5484850A (en) | Copolymers crosslinkable by a free radical method | |
| JPS5840311A (ja) | スピロオルソエステル基を有する改質共重合体 | |
| US3625926A (en) | Acetal-containing monomers and new thermosetting polymers derived therefrom | |
| JPS63309509A (ja) | 高屈折率樹脂用組成物 | |
| JPS6338042B2 (ja) | ||
| JPS59227910A (ja) | メタ―又はパラ―イソプロペニル―α,α―ジメチルベンジルイソシアネートの共重合体及びその製法 | |
| JPH02138321A (ja) | マレイミド系共重合体及びその製造方法 | |
| JPH1053620A (ja) | 熱可塑性共重合体およびその製造方法 | |
| JPH03220172A (ja) | チオカルボン酸エステル化合物及びその製造方法 | |
| US3389112A (en) | Unsaturated cyclic acetals and polymers thereof | |
| JP2001081111A (ja) | カチオン重合性樹脂組成物の製造方法 | |
| JPS58109514A (ja) | スピロオルソエステル基を有する改質共重合体 | |
| JPH0128055B2 (ja) | ||
| JP3518121B2 (ja) | 自己架橋性樹脂および架橋性樹脂組成物 | |
| JPH02193958A (ja) | メタルクリル酸エステル及びその製造法 | |
| JPS58189211A (ja) | スピロオルソエステル基を有する改質共重合体 | |
| JPH04164041A (ja) | 含フッ素スチレン誘導体 | |
| KR100216449B1 (ko) | 로진유도체, 그의 중합물, 그의 공중합물 및 그의 제조방법 | |
| JPH06172473A (ja) | ケイ素含有樹脂の製造方法 | |
| JPH036208A (ja) | 含フツ素アクリル酸エステル及びその製造法並びにこれを用いた重合体及び共重合体の製造法 | |
| JP2001081149A (ja) | ラジカル重合性樹脂組成物の製造方法 | |
| JPS5811521A (ja) | 光硬化性組成物 | |
| JPH0129806B2 (ja) | ||
| JPH0249088A (ja) | 硬化性組成物 | |
| JPS61192730A (ja) | 新規な反応性のオリゴマ− |