JPS586131A - 電子ビ−ム露光方法 - Google Patents
電子ビ−ム露光方法Info
- Publication number
- JPS586131A JPS586131A JP56104018A JP10401881A JPS586131A JP S586131 A JPS586131 A JP S586131A JP 56104018 A JP56104018 A JP 56104018A JP 10401881 A JP10401881 A JP 10401881A JP S586131 A JPS586131 A JP S586131A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- marks
- wafer
- electron beam
- irradiated
- chips
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/304—Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
- H01J37/3045—Object or beam position registration
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子ビームの露光方法に係り、４１にウェハー
に形成した位置合せマークにより露光を行うようにした
電子ビーム露光方法に関する。
に形成した位置合せマークにより露光を行うようにした
電子ビーム露光方法に関する。
従来の電子ビーム露光方法は一般には電子銃より放出さ
れた電子ビームを集束及び偏向レンズ系を通じて、ウェ
ハー等の被照射物を露光している。
れた電子ビームを集束及び偏向レンズ系を通じて、ウェ
ハー等の被照射物を露光している。
第１図につい【詳記すると、電子銃１より放出した電子
ビーム２はビームブランキングコイル３を通じて集束用
の第１．第２及び第３のコンデンサ１／７．ＩＩｅ４
、５ 、６を経て終段Ｖ７Ｊｅ７のア／臂−チャを通過
したのち、偏向フィル等の偏向レンズ系８で電子ビーム
２を偏向させて被照射物９に電子ビームを照射する。
ビーム２はビームブランキングコイル３を通じて集束用
の第１．第２及び第３のコンデンサ１／７．ＩＩｅ４
、５ 、６を経て終段Ｖ７Ｊｅ７のア／臂−チャを通過
したのち、偏向フィル等の偏向レンズ系８で電子ビーム
２を偏向させて被照射物９に電子ビームを照射する。
更に、テレタイプ等の人力信号１２を計算機１３に与え
、＃計算機゛で＝ントロー化される走査制御部１４より
の制御信号をブランキング回路１１ＳＫ加え、＃ブラン
キング回路よりのプランキンダノ臂ルスなビームブラン
キングコイル３に与えている。
、＃計算機゛で＝ントロー化される走査制御部１４より
の制御信号をブランキング回路１１ＳＫ加え、＃ブラン
キング回路よりのプランキンダノ臂ルスなビームブラン
キングコイル３に与えている。
又、偏向コイル９には偏向増幅器１６に鋸歯状波を与え
て電子ビーム２を偏向する。
て電子ビーム２を偏向する。
更に計算機１３よりの出力を毫−タ躯動−路１７に与え
【パルスモータ１８等の毫−夕を駆動して被照射物９を
載置した載量台勢な移動させ【いる。
【パルスモータ１８等の毫−夕を駆動して被照射物９を
載置した載量台勢な移動させ【いる。
被照射物９はウェハーの鳩舎、誼つェハー上に塗布した
レジストを電子ビームで露光する時に露光される領域に
は限界があるため通常°は第２図のようにチップ１９毎
にマーク２０を付して、これらチップのマークを検出す
ることでチップ位置及び１転に関する記号を電子ビーム
走査系等ＫｆＩｌｋ遺していた。
レジストを電子ビームで露光する時に露光される領域に
は限界があるため通常°は第２図のようにチップ１９毎
にマーク２０を付して、これらチップのマークを検出す
ることでチップ位置及び１転に関する記号を電子ビーム
走査系等ＫｆＩｌｋ遺していた。
このよ５にしてウェハー９のチップの位置づれや回転ず
れの補正が行なわれていたがこのような構成によるとチ
ップ毎にマークを付けなければならず高集積化が出来な
いだけでなくチップ毎に位置検出するため検出時間が長
くなる欠点を有していた。
れの補正が行なわれていたがこのような構成によるとチ
ップ毎にマークを付けなければならず高集積化が出来な
いだけでなくチップ毎に位置検出するため検出時間が長
くなる欠点を有していた。
本発明は上述の欠点を除去した電子ビーム電光方法を提
供するものでありその目的とするところはチップ毎に位
置合せ処理を行うことなくウェハー上に５ケ所の位置合
せマークを付加してこれら１−りを基準として位置合せ
を行うよ５Ｋした電子ビーム露光方法を得ようとするも
のである。
供するものでありその目的とするところはチップ毎に位
置合せ処理を行うことなくウェハー上に５ケ所の位置合
せマークを付加してこれら１−りを基準として位置合せ
を行うよ５Ｋした電子ビーム露光方法を得ようとするも
のである。
以下本発明の１実施例を＃Ｉ３図乃至第６図について詳
記する。
記する。
第３図は本発明の被照射物９を示すものでウェハー上の
各チップ１９上の５ケ所に中心２２の検出が出来るよう
なマーク２１ａ、２１ｂ＊２ＩＣ。
各チップ１９上の５ケ所に中心２２の検出が出来るよう
なマーク２１ａ、２１ｂ＊２ＩＣ。
２１ｄ、２１ｅを付加する。即ち、十字朧にウェハー上
に選択された５つのチッ′ｆ１９には第４図に示すよう
に２つの対角線で構成したＸ字状マーク２．１ａ〜２１
ｅが形成され骸マークは第４図Ａ−Ａ断面矢視図の第５
図に示すようＫ例えば幅１゜μ×深さ１μ程度の＃＄２
３を刻般し２つの対角−の交点２２をマーり２１ａ、２
１ｂ、２１ｃ。
に選択された５つのチッ′ｆ１９には第４図に示すよう
に２つの対角線で構成したＸ字状マーク２．１ａ〜２１
ｅが形成され骸マークは第４図Ａ−Ａ断面矢視図の第５
図に示すようＫ例えば幅１゜μ×深さ１μ程度の＃＄２
３を刻般し２つの対角−の交点２２をマーり２１ａ、２
１ｂ、２１ｃ。
２１ｄ、２１ｅの中心とする。
上述のように５つのチップ１９にマーク２１１〜２１ｅ
をつけたウェハー９即ち被照射物を露光のために載置台
上に乗せて電子ビーム偏向をさせる動作を第６図につい
て説明する。
をつけたウェハー９即ち被照射物を露光のために載置台
上に乗せて電子ビーム偏向をさせる動作を第６図につい
て説明する。
第６図は本発明の電子ビーム露光装置の１実施例を示す
ものであるが第１図と同一部分には同じ符号を付して重
複説明は省略する。被照射物のウェハー９上の５つのチ
ッｆにつけられたマーク２１ａ〜２１８に照射された電
子ビーム２は２次電子等を発生する。該２次電子をシン
チレータ等の反射電子検出器２４で検出し、２次−子を
光変換するためにホトマルチプライヤ２５を通した信号
をアナ驕グ デジタル変換回路尋の信号処理回路２６で
デジタル変換したのちに計算機１３に送る。計算機１３
ではウェハーのＸ軸方向のマーク２１ａ、２１ｂにより
載置台３０系に対するウェハー９の回転角ｅを求める。
ものであるが第１図と同一部分には同じ符号を付して重
複説明は省略する。被照射物のウェハー９上の５つのチ
ッｆにつけられたマーク２１ａ〜２１８に照射された電
子ビーム２は２次電子等を発生する。該２次電子をシン
チレータ等の反射電子検出器２４で検出し、２次−子を
光変換するためにホトマルチプライヤ２５を通した信号
をアナ驕グ デジタル変換回路尋の信号処理回路２６で
デジタル変換したのちに計算機１３に送る。計算機１３
ではウェハーのＸ軸方向のマーク２１ａ、２１ｂにより
載置台３０系に対するウェハー９の回転角ｅを求める。
次に計算機１３へ人力信号１２として人力されたマーク
２１ａ、２１ｂ間の設計値ｔ、ｘに対するウェハーの伸
び△ＬＸを求める。更にウェハーのＹ軸方向のマーク２
１ｃ。
２１ａ、２１ｂ間の設計値ｔ、ｘに対するウェハーの伸
び△ＬＸを求める。更にウェハーのＹ軸方向のマーク２
１ｃ。
２１ｄＫよってマーク２１ｃ、２１ａ間の距１１Ｌｙを
求めてウェハー９のＹ軸方向の伸びΔＬｙを求める。か
くすることでＹ軸方向とＸ軸方向のチップの直交度△ｅ
が求められる。これらのファクタを持つ検出信号成分は
偏向増幅回路１６よりの出力と計算機１３で比較されて
走査位置の位置ずれ量及び回転角度ｅを算出し、この結
果を偏向制御補正回路２９を介して偏向コイルに加えて
ウェハー９に補正された偏向ビームを照射して露光させ
る。
求めてウェハー９のＹ軸方向の伸びΔＬｙを求める。か
くすることでＹ軸方向とＸ軸方向のチップの直交度△ｅ
が求められる。これらのファクタを持つ検出信号成分は
偏向増幅回路１６よりの出力と計算機１３で比較されて
走査位置の位置ずれ量及び回転角度ｅを算出し、この結
果を偏向制御補正回路２９を介して偏向コイルに加えて
ウェハー９に補正された偏向ビームを照射して露光させ
る。
偏向フィールドを２ｍｍ口で露光したとして次のフィー
ルドを露光するためにはパルスモータ１８により載置台
３０をＸＹ軸方向に移動させレーデ ５− 干渉針等の銅長＠２７を介して上記載置台３０の移動量
を測定しなから載置台３０を移動させる。
ルドを露光するためにはパルスモータ１８により載置台
３０をＸＹ軸方向に移動させレーデ ５− 干渉針等の銅長＠２７を介して上記載置台３０の移動量
を測定しなから載置台３０を移動させる。
この段階で偏向系と載置台の移動系の整合処理を行うた
めにムＬｘ／Ｌｘ＋ΔＬｒ／ Ｌｒ 、 ｅ等の値を加
味して両系の補正を行うことは勿論である。
めにムＬｘ／Ｌｘ＋ΔＬｒ／ Ｌｒ 、 ｅ等の値を加
味して両系の補正を行うことは勿論である。
又露光をする時は例えばマーク２１１のついたチップを
中心にオフセット量を定めて各チップ１９を露光させ、
チップ間のＹ軸方向の移動には直交度△０を加味する。
中心にオフセット量を定めて各チップ１９を露光させ、
チップ間のＹ軸方向の移動には直交度△０を加味する。
又電子ビーム畔のドリフトの問題を解決するためには一
定時間おき忙中心のチップ１９のマーク２１ｅでオフセ
ット量を求めて補正を行うよ５にすればよい。
定時間おき忙中心のチップ１９のマーク２１ｅでオフセ
ット量を求めて補正を行うよ５にすればよい。
以上詳細に説明したように本発明による電子ビーム露光
方法は位置合せマークとしてウェハー中の５つのチップ
を除いてすべてのチップにペンチマークを付す必要がな
いために集積度が高められるだけでなく高精度を維持し
ながらマーク検出時の露光速度を速めることが出来る特
徴を有するものである。
方法は位置合せマークとしてウェハー中の５つのチップ
を除いてすべてのチップにペンチマークを付す必要がな
いために集積度が高められるだけでなく高精度を維持し
ながらマーク検出時の露光速度を速めることが出来る特
徴を有するものである。
６−
第１図は従来の電子ビーム露光方法の位置合せ方法を説
明するための説明図、第２図は従来の被照射物（ウェハ
ー）の位置会せマークを示すウェハーの平面図、第３図
は本発−のウェハー位置合せマークの説明図、第４図は
第３図中のウェハーのマーク拡大図、第５図は第４図の
Ａ−人断面矢視図、第６図は本発明の電子ビーム露光方
法を説明するための系統図である。 １・・・電子銃、２・・・電子ビーム、３・・・ビーム
ブランキ／グプイル、４．５．６・・・コンデンサレン
ズ。 ８・・・偏向レンズ、９・・・被照射物（ウェハー）。 １３・・・計算機、１４・・・走査制御部、１Ｂ・・・
Ｉ＃ルスモータ、２５・・・反射電子検出器、２６・・
・信号処理回路、２８・・・検出回路、２９・・・補正
回路。 ７−
明するための説明図、第２図は従来の被照射物（ウェハ
ー）の位置会せマークを示すウェハーの平面図、第３図
は本発−のウェハー位置合せマークの説明図、第４図は
第３図中のウェハーのマーク拡大図、第５図は第４図の
Ａ−人断面矢視図、第６図は本発明の電子ビーム露光方
法を説明するための系統図である。 １・・・電子銃、２・・・電子ビーム、３・・・ビーム
ブランキ／グプイル、４．５．６・・・コンデンサレン
ズ。 ８・・・偏向レンズ、９・・・被照射物（ウェハー）。 １３・・・計算機、１４・・・走査制御部、１Ｂ・・・
Ｉ＃ルスモータ、２５・・・反射電子検出器、２６・・
・信号処理回路、２８・・・検出回路、２９・・・補正
回路。 ７−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 電子銃より発射された電子ビームでウエノ・−等の被照
射物を露光させる露光方法に於て、上記ウェハーの５つ
のチップにマークを形成し、該マークを電子ビーム走査
することでウェハーの伸び。 回転角及びまたはチップの直交度を求めこれら値に基づ
く補正信号によって電子ビームの偏向系及び被照射物載
置台の移動を制御して露光を行うことを特徴とする電子
ビーム露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56104018A JPS586131A (ja) | 1981-07-03 | 1981-07-03 | 電子ビ−ム露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56104018A JPS586131A (ja) | 1981-07-03 | 1981-07-03 | 電子ビ−ム露光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS586131A true JPS586131A (ja) | 1983-01-13 |
| JPH0328049B2 JPH0328049B2 (ja) | 1991-04-17 |
Family
ID=14369513
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56104018A Granted JPS586131A (ja) | 1981-07-03 | 1981-07-03 | 電子ビ−ム露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS586131A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5452223A (en) * | 1977-10-03 | 1979-04-24 | Toyota Motor Corp | Exhaust gas recirculating system for operation of internal-combustion engine at high ground |
| JPS5538117U (ja) * | 1978-08-30 | 1980-03-11 |
-
1981
- 1981-07-03 JP JP56104018A patent/JPS586131A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5452223A (en) * | 1977-10-03 | 1979-04-24 | Toyota Motor Corp | Exhaust gas recirculating system for operation of internal-combustion engine at high ground |
| JPS5538117U (ja) * | 1978-08-30 | 1980-03-11 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0328049B2 (ja) | 1991-04-17 |
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