JPH0328049B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0328049B2 JPH0328049B2 JP56104018A JP10401881A JPH0328049B2 JP H0328049 B2 JPH0328049 B2 JP H0328049B2 JP 56104018 A JP56104018 A JP 56104018A JP 10401881 A JP10401881 A JP 10401881A JP H0328049 B2 JPH0328049 B2 JP H0328049B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- electron beam
- marks
- chip
- mark
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/304—Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
- H01J37/3045—Object or beam position registration
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子ビームの露光方法に係り、特にウ
エハーに形成した位置合せマークにより露光を行
うようにした電子ビーム露光方法に関する。
エハーに形成した位置合せマークにより露光を行
うようにした電子ビーム露光方法に関する。
従来の電子ビーム露光方法は一般には電子銃よ
り放出された電子ビームを集束及び偏向レンズ系
を通じて、ウエハー等の被照射物を露光してい
る。
り放出された電子ビームを集束及び偏向レンズ系
を通じて、ウエハー等の被照射物を露光してい
る。
第１図について詳記すると、電子銃１より放出
した電子ビーム２はビームブランキングコイル３
を通じて集束用の第１、第２及び第３のコンデン
サレンズ４，５，６を経て終段レンズ７のアパー
チヤを通過したのち、偏向コイル等の偏向レンズ
系８で電子ビーム２を偏向させて被照射物９に電
子ビームを照射する。
した電子ビーム２はビームブランキングコイル３
を通じて集束用の第１、第２及び第３のコンデン
サレンズ４，５，６を経て終段レンズ７のアパー
チヤを通過したのち、偏向コイル等の偏向レンズ
系８で電子ビーム２を偏向させて被照射物９に電
子ビームを照射する。
更に、テレタイプ等の入力信号１２を計算機１
３に与え、該計算機でコントロールされる走査制
御部１４よりの制御信号をブランキング回路１５
に加え、該ブランキング回路よりのブランキング
パルスをビームブランキングコイル３に与えてい
る。又、偏向コイル８には偏向増幅器１６に鋸歯
状波を与えて電子ビーム２を偏向する。
３に与え、該計算機でコントロールされる走査制
御部１４よりの制御信号をブランキング回路１５
に加え、該ブランキング回路よりのブランキング
パルスをビームブランキングコイル３に与えてい
る。又、偏向コイル８には偏向増幅器１６に鋸歯
状波を与えて電子ビーム２を偏向する。
更に計算機１３よりの出力をモータ駆動回路１
７に与えてパルスモータ１８等のモータを駆動し
て被照射物９を載置した載置台等を移動させてい
る。
７に与えてパルスモータ１８等のモータを駆動し
て被照射物９を載置した載置台等を移動させてい
る。
被照射物９はウエハーの場合、該ウエハー上に
塗布したレジストを電子ビームで露光する時に露
光される領域には限界があるため通常は第２図の
ようにチツプ１９毎にマーク２０を付して、これ
らチツプのマークを検出することでチツプ位置及
び回転に関する信号を電子ビーム走査系等に帰還
していた。
塗布したレジストを電子ビームで露光する時に露
光される領域には限界があるため通常は第２図の
ようにチツプ１９毎にマーク２０を付して、これ
らチツプのマークを検出することでチツプ位置及
び回転に関する信号を電子ビーム走査系等に帰還
していた。
このようにしてウエハー９のチツプの位置づれ
や回転ずれの補正が行なわれていたがこのような
構成によるとチツプ毎にマークを付けなければな
らず高集積化が出来ないだけでなくチツプ毎に位
置検出するため検出時間が長くなる欠点を有して
いた。
や回転ずれの補正が行なわれていたがこのような
構成によるとチツプ毎にマークを付けなければな
らず高集積化が出来ないだけでなくチツプ毎に位
置検出するため検出時間が長くなる欠点を有して
いた。
本発明は上述の欠点を除去した電子ビーム電光
方法を提供するものでありその目的とするところ
はチツプ毎に位置合せ処理を行うことなくウエハ
ー上に５ケ所の位置合せマークを付加してこれら
マークを基準として位置合せを行うようにした電
子ビーム露光方法を得ようとするものである。
方法を提供するものでありその目的とするところ
はチツプ毎に位置合せ処理を行うことなくウエハ
ー上に５ケ所の位置合せマークを付加してこれら
マークを基準として位置合せを行うようにした電
子ビーム露光方法を得ようとするものである。
以下本発明の１実施例を第３図乃至第６図につ
いて詳記する。
いて詳記する。
第３図は本発明の被照射物９を示すものでウエ
ハー上の各チツプ１９上の５ケ所に中心２２の検
出が出来るようなマーク２１ａ，２１ｂ，２１
ｃ，２１ｄ，２１ｅを付加する。即ち、十字型に
ウエハー上に選択された５つのチツプ１９には第
４図に示すように２つの対角線で構成したＸ字状
マーク２１ａ〜２１ｅが形成され該マークは第４
図Ａ−Ａ断面矢視図の第５図に示すように例えば
幅10μ×深さ1μ程度の溝２３を刻設し２つの対角
線の交点２２をマーク２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，
２１ｄ，２１ｅの中心とする。
ハー上の各チツプ１９上の５ケ所に中心２２の検
出が出来るようなマーク２１ａ，２１ｂ，２１
ｃ，２１ｄ，２１ｅを付加する。即ち、十字型に
ウエハー上に選択された５つのチツプ１９には第
４図に示すように２つの対角線で構成したＸ字状
マーク２１ａ〜２１ｅが形成され該マークは第４
図Ａ−Ａ断面矢視図の第５図に示すように例えば
幅10μ×深さ1μ程度の溝２３を刻設し２つの対角
線の交点２２をマーク２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，
２１ｄ，２１ｅの中心とする。
上述のように５つのチツプ１９にマーク２１ａ
〜２１ｅをつけたウエハー９即ち被照射物を露光
のために載置台上に乗せて電子ビーム偏向をさせ
る動作を第６図について説明する。
〜２１ｅをつけたウエハー９即ち被照射物を露光
のために載置台上に乗せて電子ビーム偏向をさせ
る動作を第６図について説明する。
第６図は本発明の電子ビーム露光装置の１実施
例を示すものであるが第１図と同一部分には同じ
符号を付して重複説明は省略する。被照射物のウ
エハー９上の５つのチツプにつけられたマーク２
１ａ〜２１ｅに照射された電子ビーム２は２次電
子等を発生する。該２次電子をシンチレータ等の
反射電子検出器２４で検出し、２次電子を光変換
するためにホトマルチプライヤ２５を通した信号
をアナログ−デジタル変換回路等の信号処理回路
２６でデジタル変換したのちに計算機１３に送
る。計算機１３ではウエハーのＸ軸方向のマーク
２１ａ，２１ｂにより載置台３０系に対するウエ
ハー９の回転角θを求める。次に計算機１３へ入
力信号１２として入力されたマーク２１ａ，２１
ｂ間の設計値LXに対するウエハーの伸びΔLXを求
める。更にウエハーのＹ軸方向のマーク２１ｃ，
２１ｄによつてマーク２１ｃ，２１ｄ間の距離
LYを求めてウエハー９のＹ軸方向の伸びΔLYを求
める。かくすることでＹ軸方向とＸ軸方向のチツ
プの直交度Δθが求められる。これらのフアクタ
を持つ検出信号成分は偏向増幅回路１６よりの出
力と計算機１３で比較されて走査位置の位置ずれ
量及び回転角度θを算出して、この結果を偏向制
御補正回路２９を介して偏向コイルに加えてウエ
ハー９に補正された偏向ビームを照射して露光さ
せる。
例を示すものであるが第１図と同一部分には同じ
符号を付して重複説明は省略する。被照射物のウ
エハー９上の５つのチツプにつけられたマーク２
１ａ〜２１ｅに照射された電子ビーム２は２次電
子等を発生する。該２次電子をシンチレータ等の
反射電子検出器２４で検出し、２次電子を光変換
するためにホトマルチプライヤ２５を通した信号
をアナログ−デジタル変換回路等の信号処理回路
２６でデジタル変換したのちに計算機１３に送
る。計算機１３ではウエハーのＸ軸方向のマーク
２１ａ，２１ｂにより載置台３０系に対するウエ
ハー９の回転角θを求める。次に計算機１３へ入
力信号１２として入力されたマーク２１ａ，２１
ｂ間の設計値LXに対するウエハーの伸びΔLXを求
める。更にウエハーのＹ軸方向のマーク２１ｃ，
２１ｄによつてマーク２１ｃ，２１ｄ間の距離
LYを求めてウエハー９のＹ軸方向の伸びΔLYを求
める。かくすることでＹ軸方向とＸ軸方向のチツ
プの直交度Δθが求められる。これらのフアクタ
を持つ検出信号成分は偏向増幅回路１６よりの出
力と計算機１３で比較されて走査位置の位置ずれ
量及び回転角度θを算出して、この結果を偏向制
御補正回路２９を介して偏向コイルに加えてウエ
ハー９に補正された偏向ビームを照射して露光さ
せる。
偏向フイールドを２mm口で露光したとして次の
フイールドを露光するためにはパルスモータ１８
により載置台３０をXY軸方向に移動させレーザ
干渉計等の測定器２７及び検出回路２８を介して
上記載置台３０の移動量を測定しながら載置台３
０を移動させる。この段階で偏向系と載置台の移
動系の整合処理を行うためにΔLX／LX、ΔLY／
LY、θ等の値を加味して両系の補正を行うこと
は勿論である。
フイールドを露光するためにはパルスモータ１８
により載置台３０をXY軸方向に移動させレーザ
干渉計等の測定器２７及び検出回路２８を介して
上記載置台３０の移動量を測定しながら載置台３
０を移動させる。この段階で偏向系と載置台の移
動系の整合処理を行うためにΔLX／LX、ΔLY／
LY、θ等の値を加味して両系の補正を行うこと
は勿論である。
又露光をする時は例えばマーク２１ｅのついた
チツプを中心にオフセツト量を定めて各チツプ１
９を露光させ、チツプ間のＹ軸方向の移動には直
交度Δθを加味する。又電子ビーム等のドリフト
の問題を解決するためには一定時間おきに中心の
チツプ１９のマーク２１ｅでオフセツト量を求め
て補正を行うようにすればよい。
チツプを中心にオフセツト量を定めて各チツプ１
９を露光させ、チツプ間のＹ軸方向の移動には直
交度Δθを加味する。又電子ビーム等のドリフト
の問題を解決するためには一定時間おきに中心の
チツプ１９のマーク２１ｅでオフセツト量を求め
て補正を行うようにすればよい。
以上詳細に説明したように本発明による電子ビ
ーム露光方法は位置合せマークとしてウエハー中
の５つのチツプを除いてすべてのチツプにベンチ
マークを付す必要がないために集積度が高められ
るだけでなく高精度を維持しながらマーク検出時
の露光速度を速めることが出来る特徴を有するも
のである。
ーム露光方法は位置合せマークとしてウエハー中
の５つのチツプを除いてすべてのチツプにベンチ
マークを付す必要がないために集積度が高められ
るだけでなく高精度を維持しながらマーク検出時
の露光速度を速めることが出来る特徴を有するも
のである。
第１図は従来の電子ビーム露光方法の位置合せ
方法を説明するための説明図、第２図は従来の被
照射物（ウエハー）の位置合せマークを示すウエ
ハーの平面図、第３図は本発明のウエハー位置合
せマークの説明図、第４図は第３図中のウエハー
のマーク拡大図、第５図は第４図のＡ−Ａ断面矢
視図、第６図は本発明の電子ビーム露光方法を説
明するための系統図である。 １……電子銃、２……電子ビーム、３……ビー
ムブランキングコイル、４，５，６……コンデン
サレンズ、８……偏向レンズ、９……被照射物
（ウエハー）、１３……計算機、１４……走査制御
部、１８……パルスモータ、２５……反射電子検
出器、２６……信号処理回路、２８……検出回
路、２９……補正回路。
方法を説明するための説明図、第２図は従来の被
照射物（ウエハー）の位置合せマークを示すウエ
ハーの平面図、第３図は本発明のウエハー位置合
せマークの説明図、第４図は第３図中のウエハー
のマーク拡大図、第５図は第４図のＡ−Ａ断面矢
視図、第６図は本発明の電子ビーム露光方法を説
明するための系統図である。 １……電子銃、２……電子ビーム、３……ビー
ムブランキングコイル、４，５，６……コンデン
サレンズ、８……偏向レンズ、９……被照射物
（ウエハー）、１３……計算機、１４……走査制御
部、１８……パルスモータ、２５……反射電子検
出器、２６……信号処理回路、２８……検出回
路、２９……補正回路。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 電子銃より発射された電子ビームでウエハー
等の被照射物を露光させる露光方法に於て、 該ウエハーの中心部に位置するチツプに第１の
マークを形成し、該ウエハーの中心部から、縦軸
方向に位置するチツプに第２、第３のマークを形
成し、該ウエハーの中心部から横軸方向に位置す
るチツプに第４、第５のマークを形成し、 該第２、第３のマークを電子ビーム走査するこ
とで、該ウエハーの縦方向の伸びを測定し、該第
４、第５のマークを電子ビーム走査することで該
ウエハーの横方向の伸びを測定し、且つ該第２乃
至第５のマークの座標位置からウエハーの回転角
及びまたはチツプの直交度を求め、 該得られた各情報より、該第１のマークを基準
としたオフセツト量を求めて電子ビームの偏向系
及び被照射物載置台の移動を制御して露光を行う
ことを特徴とする電子ビーム露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56104018A JPS586131A (ja) | 1981-07-03 | 1981-07-03 | 電子ビ−ム露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56104018A JPS586131A (ja) | 1981-07-03 | 1981-07-03 | 電子ビ−ム露光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS586131A JPS586131A (ja) | 1983-01-13 |
| JPH0328049B2 true JPH0328049B2 (ja) | 1991-04-17 |
Family
ID=14369513
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56104018A Granted JPS586131A (ja) | 1981-07-03 | 1981-07-03 | 電子ビ−ム露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS586131A (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5452223A (en) * | 1977-10-03 | 1979-04-24 | Toyota Motor Corp | Exhaust gas recirculating system for operation of internal-combustion engine at high ground |
| JPS5538117U (ja) * | 1978-08-30 | 1980-03-11 |
-
1981
- 1981-07-03 JP JP56104018A patent/JPS586131A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS586131A (ja) | 1983-01-13 |
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