JPS5868977A - サイリスタ - Google Patents
サイリスタInfo
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- JPS5868977A JPS5868977A JP57169445A JP16944582A JPS5868977A JP S5868977 A JPS5868977 A JP S5868977A JP 57169445 A JP57169445 A JP 57169445A JP 16944582 A JP16944582 A JP 16944582A JP S5868977 A JPS5868977 A JP S5868977A
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- JP
- Japan
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- thyristor
- gate
- emitter
- ignition
- pace
- Prior art date
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D18/00—Thyristors
- H10D18/221—Thyristors having amplifying gate structures, e.g. cascade configurations
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
- H10D84/101—Integrated devices comprising main components and built-in components, e.g. IGBT having built-in freewheel diode
- H10D84/131—Thyristors having built-in components
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
- H10D84/101—Integrated devices comprising main components and built-in components, e.g. IGBT having built-in freewheel diode
- H10D84/131—Thyristors having built-in components
- H10D84/135—Thyristors having built-in components the built-in components being diodes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
- H10D84/101—Integrated devices comprising main components and built-in components, e.g. IGBT having built-in freewheel diode
- H10D84/131—Thyristors having built-in components
- H10D84/138—Thyristors having built-in components the built-in components being FETs
Landscapes
- Thyristors (AREA)
- Ignition Installations For Internal Combustion Engines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、pペースが隣接しカソードにより接触された
nエミ、りと、nベースが隣接しアノードにより接触さ
れたpエミ、りとを有する半導体素体および半導体素体
の界面に配置されMI8 )ランリスタを介して制御可
能のエミッタショート部とを備え、各MI8 )ランリ
スタがa (plエミ、り。
nエミ、りと、nベースが隣接しアノードにより接触さ
れたpエミ、りとを有する半導体素体および半導体素体
の界面に配置されMI8 )ランリスタを介して制御可
能のエミッタショート部とを備え、各MI8 )ランリ
スタがa (plエミ、り。
p (nlベースに挿入されこれと導電接続されたm
(pi形の半導体領域およびp (n)ベースのグー)
Kよって被板された区域を包含するようなサイリスタに
関する。
(pi形の半導体領域およびp (n)ベースのグー)
Kよって被板された区域を包含するようなサイリスタに
関する。
この種類のサイリスタは西ドイツ国既特許出履P 31
183549号明細書に記載されている。そのようなサ
イリスタの点弧は点弧電流インパルスのはかに、そのパ
ルスと時間的に一散するMI8構造に対する制御電圧イ
ンパルスが必要である。
183549号明細書に記載されている。そのようなサ
イリスタの点弧は点弧電流インパルスのはかに、そのパ
ルスと時間的に一散するMI8構造に対する制御電圧イ
ンパルスが必要である。
本発明は、点弧が点弧過程の間に必要なエミ。
タショート部の制御を含めて簡単なやり方で与えられる
点弧電流インパルスに由来するような最初に挙げた種類
のサイリスタを提供することを目的とする。この目的は
、本発明によれば界面にa (pl工Z、夕の綴部領域
sp(mlベースに挿入されMI8トランジスタのゲー
トと接続された別のa rpi形の半導体領域およびそ
の間に位置するp (mlベースの部分区竣を包含する
横方向トランジスタを備え、この部分区櫨が点弧電極を
備えかっMIi9 )ランリスタのゲートに正の電圧か
印加可能であることによって達成される。
点弧電流インパルスに由来するような最初に挙げた種類
のサイリスタを提供することを目的とする。この目的は
、本発明によれば界面にa (pl工Z、夕の綴部領域
sp(mlベースに挿入されMI8トランジスタのゲー
トと接続された別のa rpi形の半導体領域およびそ
の間に位置するp (mlベースの部分区竣を包含する
横方向トランジスタを備え、この部分区櫨が点弧電極を
備えかっMIi9 )ランリスタのゲートに正の電圧か
印加可能であることによって達成される。
木発Wi4により得ることかで會る利点は、特に暦阻止
状態でゲート客量に貯えられたエネルギーが点弧のため
に引ぎ出され、それによって比較的優かな制御入力で点
弧過鵬の呼び起こしに至ることにある。
状態でゲート客量に貯えられたエネルギーが点弧のため
に引ぎ出され、それによって比較的優かな制御入力で点
弧過鵬の呼び起こしに至ることにある。
以下図を引用して本発明の詳細な説明する・第1囚に本
発!IIIKより構成されたサイリスタを示す・それは
例えばシリコンのような単結晶半導体材料からなる素体
lを有し、その素体はn形層2m、2bおよび4とp形
層3および5を有する・二つの部分21および2bから
なる層はnエミ、り、層3はpベース、層4はnベース
そして層5はp工Z、夕とも呼ばれる・n工i、夕の部
分2麿および2bは半導体素体lの界m6に% 例えば
アルミニウムのような導電材料からなり、−諸にサイリ
スタのカソードを形成する槓覆7麿および7bを備える
。それらは端子にと接続されている。pエミ。
発!IIIKより構成されたサイリスタを示す・それは
例えばシリコンのような単結晶半導体材料からなる素体
lを有し、その素体はn形層2m、2bおよび4とp形
層3および5を有する・二つの部分21および2bから
なる層はnエミ、り、層3はpベース、層4はnベース
そして層5はp工Z、夕とも呼ばれる・n工i、夕の部
分2麿および2bは半導体素体lの界m6に% 例えば
アルミニウムのような導電材料からなり、−諸にサイリ
スタのカソードを形成する槓覆7麿および7bを備える
。それらは端子にと接続されている。pエミ。
り5には半魂体六体の反対側の界面8で、例えばアルミ
ニウムのような導電材料からなる7ノードと 9が接触している07ノード9は熾子A%備える。、+
1エミ、りZa 、 2bは第1図ではそれぞれM I
8電界効界形トランジスタ、例えば81.DI、Gl
あるいは82.D2.G2、界面6まで凰びるpベース
3の突出部KAおよび界面6上に被着された金属化ブリ
。
ニウムのような導電材料からなる7ノードと 9が接触している07ノード9は熾子A%備える。、+
1エミ、りZa 、 2bは第1図ではそれぞれM I
8電界効界形トランジスタ、例えば81.DI、Gl
あるいは82.D2.G2、界面6まで凰びるpベース
3の突出部KAおよび界面6上に被着された金属化ブリ
。
ジMから制御可能なエミッタショート部8Kを備えてい
るonエミッタ部2aの81の符号を付した綴部側の区
埴はその場合ソース領域となる。n+ドーピンダされた
ドレイン領域D1および界″7if6の薄い11気絶縁
層I81によって分離された、導電材料からなり端子G
と接佼されたゲートGlが、導通状態で突出部KAから
Mを介してnエミッタ部分2aへの低抵抗接続を生成す
るMI8 )ランリスタへ81を補5゜同様な方式で部
分82.D2およびG2が、導通状態でKAとnエミ、
りの部分2bの間の低抵抗接続を生成する第二のMI8
)ランリスタを形成する。金属化ブリ、ジMはその際
突出部KAをドレイン領域DIおよびD2と接続する。
るonエミッタ部2aの81の符号を付した綴部側の区
埴はその場合ソース領域となる。n+ドーピンダされた
ドレイン領域D1および界″7if6の薄い11気絶縁
層I81によって分離された、導電材料からなり端子G
と接佼されたゲートGlが、導通状態で突出部KAから
Mを介してnエミッタ部分2aへの低抵抗接続を生成す
るMI8 )ランリスタへ81を補5゜同様な方式で部
分82.D2およびG2が、導通状態でKAとnエミ、
りの部分2bの間の低抵抗接続を生成する第二のMI8
)ランリスタを形成する。金属化ブリ、ジMはその際
突出部KAをドレイン領域DIおよびD2と接続する。
第1図に示す制御可能のエミッタショート部SKを含む
サイリスクが軸10に対し円対称に形成されるならば、
MI8構造は環状のnエミ、り部分2aの外縁および
環状の□エミ、り部分2bの内縁にそれぞれ接して位置
する。この実NaM様の発展においてはそのようなMI
8構造の複数を多数の環状で同心のnエミ、夕部分がそ
れぞれ相互から分離できこともできる(フィンガ構造)
。さらに第1Mに示す装宜を、互から分離されたnエミ
、り部分2mおよび2bの代りに、できるだけ一様に分
布された多数の開口部OFおよびOF’を備えた連続し
たnニミ、り2暑、2bを用意するように構成すること
もできる。この場合、符号D1およびD2は一軸11に
中心対称く形成された一つで同じ環状のn ドーピング
されたドレイン領域の異なる断面を示すだけにすぎない
。Slおよび82はその時は開口部OF!−■むnエミ
、り2a、2bの一つで同じ縁帯域の異なる断面を意味
する。制御可卵のエミ、り短絡部8にの制御と原理上の
作動様式はこの実施変形に影響されないままである。ゲ
ート電圧、すなわちGを介してG1および02に導かれ
る電圧がpペース3のその下に位置する部分に相対的に
零であるならば、電界効果形トランジスタ81 、G1
、DIおよび1、()2.G2は阻止状態であり、工
ξ、タショート部は謔断され、サイリスタは高い点弧感
度をもつ状態に存在する。正のゲート電圧の印IIJK
よって短絡部が働くように接続され、サイリスタは点弧
感度をもたない安定した状態に移される・MII9電界
効幣形トランジスタの制御のために、この電界効果形ト
ランジスタの制御端子Gは高抵抗の電流制限抵抗Rとダ
イオードD3を介してアノード端子Aと接続されている
・付加してGから膳エミ、り2aの内縁にきわめて近接
して存在する別のn ドーピングされた帯域12の端子
への接続が存在する。
サイリスクが軸10に対し円対称に形成されるならば、
MI8構造は環状のnエミ、り部分2aの外縁および
環状の□エミ、り部分2bの内縁にそれぞれ接して位置
する。この実NaM様の発展においてはそのようなMI
8構造の複数を多数の環状で同心のnエミ、夕部分がそ
れぞれ相互から分離できこともできる(フィンガ構造)
。さらに第1Mに示す装宜を、互から分離されたnエミ
、り部分2mおよび2bの代りに、できるだけ一様に分
布された多数の開口部OFおよびOF’を備えた連続し
たnニミ、り2暑、2bを用意するように構成すること
もできる。この場合、符号D1およびD2は一軸11に
中心対称く形成された一つで同じ環状のn ドーピング
されたドレイン領域の異なる断面を示すだけにすぎない
。Slおよび82はその時は開口部OF!−■むnエミ
、り2a、2bの一つで同じ縁帯域の異なる断面を意味
する。制御可卵のエミ、り短絡部8にの制御と原理上の
作動様式はこの実施変形に影響されないままである。ゲ
ート電圧、すなわちGを介してG1および02に導かれ
る電圧がpペース3のその下に位置する部分に相対的に
零であるならば、電界効果形トランジスタ81 、G1
、DIおよび1、()2.G2は阻止状態であり、工
ξ、タショート部は謔断され、サイリスタは高い点弧感
度をもつ状態に存在する。正のゲート電圧の印IIJK
よって短絡部が働くように接続され、サイリスタは点弧
感度をもたない安定した状態に移される・MII9電界
効幣形トランジスタの制御のために、この電界効果形ト
ランジスタの制御端子Gは高抵抗の電流制限抵抗Rとダ
イオードD3を介してアノード端子Aと接続されている
・付加してGから膳エミ、り2aの内縁にきわめて近接
して存在する別のn ドーピングされた帯域12の端子
への接続が存在する。
n工jツタ21と襲ドーピングされた帯域12の間で表
面に出るpペースの区域は余興被覆z1を備えている。
面に出るpペースの区域は余興被覆z1を備えている。
n:Lミッタ2aの内11Pペース3のZlの下にある
区域および一帯斌νは、npn横方向Fランジスリスエ
ミ、り、ペースおよびコレクタをそれぞれ形成する、そ
こでアノード9(/c正の電圧を印加するやいなや、こ
の1圧は抵抗Rとダイオードを介して端子Gにも違し、
サイリスタが点弧感度のない状!Iに移されるように導
く、ゲートG1と02の容量への電圧は、その場合高(
とも領域12とpイー330間のpn*合のブレークダ
ウン電圧、すなわち10ないし20V程度になり得る。
区域および一帯斌νは、npn横方向Fランジスリスエ
ミ、り、ペースおよびコレクタをそれぞれ形成する、そ
こでアノード9(/c正の電圧を印加するやいなや、こ
の1圧は抵抗Rとダイオードを介して端子Gにも違し、
サイリスタが点弧感度のない状!Iに移されるように導
く、ゲートG1と02の容量への電圧は、その場合高(
とも領域12とpイー330間のpn*合のブレークダ
ウン電圧、すなわち10ないし20V程度になり得る。
点弧を起こすためにサイリスクに点弧tFMZ1と端子
11Sにおいて接続される点弧電流回路を介して正の点
弧電流インパルスを導(と、これはnpn )ランリス
クの導通を引き起こす@これによってゲートG1および
G2の容量は放電し、その結果MIS電界効果形トラン
ジスタは阻止状態となり、サイリスタを点弧感度をもつ
状態に変換する・MI8 )ランリスクの比較的大きい
ゲート容量のため、その際付加的な点弧電流インパルス
として働(強力なhXww流が流れる。外部コンデンサ
Cの並列接続によってこの付り的な点弧′vt流イフィ
ンパルスj6増大される。
11Sにおいて接続される点弧電流回路を介して正の点
弧電流インパルスを導(と、これはnpn )ランリス
クの導通を引き起こす@これによってゲートG1および
G2の容量は放電し、その結果MIS電界効果形トラン
ジスタは阻止状態となり、サイリスタを点弧感度をもつ
状態に変換する・MI8 )ランリスクの比較的大きい
ゲート容量のため、その際付加的な点弧電流インパルス
として働(強力なhXww流が流れる。外部コンデンサ
Cの並列接続によってこの付り的な点弧′vt流イフィ
ンパルスj6増大される。
1viI8電界効果形トランジスタの作lll11を圧
は、点弧の後に1)−ド9に印加される胆鼠圧が、エミ
、りgf1絡部を再び有効に!1続するのに十分である
はど小さくなければならない、そのとぎだけサイリスク
のM断につづく人に印加する圧電圧の急上舛において、
サイリスクをL!v/dt点弧から保−する。
は、点弧の後に1)−ド9に印加される胆鼠圧が、エミ
、りgf1絡部を再び有効に!1続するのに十分である
はど小さくなければならない、そのとぎだけサイリスク
のM断につづく人に印加する圧電圧の急上舛において、
サイリスクをL!v/dt点弧から保−する。
R弧電流インパルスz2をサイリスタが児全に導通状−
になる前に遮餠すると、エミ、り短絡部が直らに有効に
なり、@方間への点弧の拡大の妨害に専(ことを阻止し
なければならない。これはゲート容量(および場合によ
りてはC)と光′IIE抵抗l(ρ・ら形成される几C
回路の時定数な点弧前面の拡大時間より大キ<選定する
ことによって行うことができる。
になる前に遮餠すると、エミ、り短絡部が直らに有効に
なり、@方間への点弧の拡大の妨害に専(ことを阻止し
なければならない。これはゲート容量(および場合によ
りてはC)と光′IIE抵抗l(ρ・ら形成される几C
回路の時定数な点弧前面の拡大時間より大キ<選定する
ことによって行うことができる。
一般にサイリスタの臘阻止状層に7ノード9に印加され
る電圧は5pa)ランリスクのブレークダウン電圧より
かなり大きく、そのことがサイリスタの蒙ましくない点
弧に導く、それ故抵抗RはDを介して流れる電流を、そ
れがサイリスタの7弧にもコレクターペース間ダイオー
ドDの破壊にも導かない峰と小さいよ5に選ばれる。
る電圧は5pa)ランリスクのブレークダウン電圧より
かなり大きく、そのことがサイリスタの蒙ましくない点
弧に導く、それ故抵抗RはDを介して流れる電流を、そ
れがサイリスタの7弧にもコレクターペース間ダイオー
ドDの破壊にも導かない峰と小さいよ5に選ばれる。
本発明の発展によれば、サイリスクの点弧感度をもつ縁
部領域に%端子Gと接続されたn ドーピング領域14
を有する第二のダイオードD4が備えられる。G4のブ
レークダウン電圧はコレクターペース間ダイオードDの
それより低く選定される暴従ってG4はG!j#よびG
!に加わるグーF電圧tl−制課する・回路の変形によ
りG4を外部ダイオードに置き換えてもよい、第1図に
示された装置の等価回路図が第2mK示されている・サ
イリスタTI(は負荷抵抗R1を介してアノード電圧源
υ、と接続されている*MI8電界効果形トランジスタ
M8Tはサイリスタのカソード71.7bとpベース3
の間に接続された短絡$8Kをあられす、R1はエミ、
り領域21の内縁から第一〇値*S*までの、すなわち
二重矢印I5に沿っての径路抵抗をs COはMIBl
lを界効果形トフンリスタMSTのゲート容量を、Rは
充電抵抗を、そしてD3はそれを介して容量C0がfイ
リスタの7ノード′這圧により充電されるダイオードを
それぞれ意味する。 D4はゲート電圧制限のための集
積ダイオードまたは外部接続ダイオードである。
部領域に%端子Gと接続されたn ドーピング領域14
を有する第二のダイオードD4が備えられる。G4のブ
レークダウン電圧はコレクターペース間ダイオードDの
それより低く選定される暴従ってG4はG!j#よびG
!に加わるグーF電圧tl−制課する・回路の変形によ
りG4を外部ダイオードに置き換えてもよい、第1図に
示された装置の等価回路図が第2mK示されている・サ
イリスタTI(は負荷抵抗R1を介してアノード電圧源
υ、と接続されている*MI8電界効果形トランジスタ
M8Tはサイリスタのカソード71.7bとpベース3
の間に接続された短絡$8Kをあられす、R1はエミ、
り領域21の内縁から第一〇値*S*までの、すなわち
二重矢印I5に沿っての径路抵抗をs COはMIBl
lを界効果形トフンリスタMSTのゲート容量を、Rは
充電抵抗を、そしてD3はそれを介して容量C0がfイ
リスタの7ノード′這圧により充電されるダイオードを
それぞれ意味する。 D4はゲート電圧制限のための集
積ダイオードまたは外部接続ダイオードである。
TR,はnpn横万自トランジスタをあられし、そのエ
ミ、りはサイリスタ中ミ、りの内侭の縁S領域と一致す
る・サイリスタの順阻止状態において、KトflilJ
伺電極z1の間の電圧は、トランジスタTR中にもサイ
リスタ中にも顕著な電子注入が起きないはとムかである
・ トランジスタTRのルクタには、7レクタ一ペース
接合あるいはダイオードD4のブレークダウン電圧が、
両者のうちどちらがより小さいかに応じて現われる。
Mis電界効果形トランジスリス8Tのゲート容量はこ
の電圧で充電されており、M8Tは従って導通状悪にあ
る。サイリスタTllの点弧のために、pペース3とn
pnトランジスリスHのペースに点弧電m1lGから点
弧電流インパルスを導(。TKK迦電し、サイリスタT
HおよびトランジスタTBに共通である端子Kを介して
のC6の放電に導く。coの放電電流が十分大きければ
、n工ξ、夕部分2aの内*16におけるサイリスクの
点弧に導く。
ミ、りはサイリスタ中ミ、りの内侭の縁S領域と一致す
る・サイリスタの順阻止状態において、KトflilJ
伺電極z1の間の電圧は、トランジスタTR中にもサイ
リスタ中にも顕著な電子注入が起きないはとムかである
・ トランジスタTRのルクタには、7レクタ一ペース
接合あるいはダイオードD4のブレークダウン電圧が、
両者のうちどちらがより小さいかに応じて現われる。
Mis電界効果形トランジスリス8Tのゲート容量はこ
の電圧で充電されており、M8Tは従って導通状悪にあ
る。サイリスタTllの点弧のために、pペース3とn
pnトランジスリスHのペースに点弧電m1lGから点
弧電流インパルスを導(。TKK迦電し、サイリスタT
HおよびトランジスタTBに共通である端子Kを介して
のC6の放電に導く。coの放電電流が十分大きければ
、n工ξ、夕部分2aの内*16におけるサイリスクの
点弧に導く。
C0の放電電流は5lpn )ランリスク〒Rの電流増
幅係数!だけ点弧電流インパルスz2より大會いから、
電流増幅係数Iだけが十分大きいならば、放電電流は小
さい点弧入力Kj#いて比稜的大きくあり得″jleそ
れ故零発舅においでは集積点弧電流増幅回路によって行
うことができ−1その場合点弧ニネルギーは導−通期間
および阻止期間の間アノードw9圧源UAから供給され
、点弧までMI8)ランリスクのゲート容量に貯えられ
る。
幅係数!だけ点弧電流インパルスz2より大會いから、
電流増幅係数Iだけが十分大きいならば、放電電流は小
さい点弧入力Kj#いて比稜的大きくあり得″jleそ
れ故零発舅においでは集積点弧電流増幅回路によって行
うことができ−1その場合点弧ニネルギーは導−通期間
および阻止期間の間アノードw9圧源UAから供給され
、点弧までMI8)ランリスクのゲート容量に貯えられ
る。
ここまで述べた実施形式から離れてD3および孔からな
る充電電流回路を、第1図KW11!!Iで示したよ5
にカソードKK対してJll続される直流電圧源U1で
代用することができろ◎ さらに工lツタシ璽−F部8にならびに上述のnpn横
方向トランジスタは上述から離れてpエミ、り5にも配
置されていることができる。この口髭変形の説明のため
に、半導体lI!域の導電形をそれぞれ逆のものによっ
てfIlき換え、端子ムとKを互に交換しそして上述の
WEE、直流をそれぞれ逆の緬性をもって導くならば第
1図を引用することができる。
る充電電流回路を、第1図KW11!!Iで示したよ5
にカソードKK対してJll続される直流電圧源U1で
代用することができろ◎ さらに工lツタシ璽−F部8にならびに上述のnpn横
方向トランジスタは上述から離れてpエミ、り5にも配
置されていることができる。この口髭変形の説明のため
に、半導体lI!域の導電形をそれぞれ逆のものによっ
てfIlき換え、端子ムとKを互に交換しそして上述の
WEE、直流をそれぞれ逆の緬性をもって導くならば第
1図を引用することができる。
第1図は本発明によるサイリスクの一1I施例の付加回
路を含めた断面閏、第21!1!Iけ轄1図に示すサイ
リスタの等価回路図である。 1・・・半導体素体、21*!b ・” 21 :Lミ
、り、3−pベース、6・・・半導体素体界面、7a、
γb・・・カソード。 9・・・7ノード、12.14−・・罷 領域、MS丁
−MI8)ランリスク、TR・・・接方向Fラーンリス
タ。 IGI IG2
路を含めた断面閏、第21!1!Iけ轄1図に示すサイ
リスタの等価回路図である。 1・・・半導体素体、21*!b ・” 21 :Lミ
、り、3−pベース、6・・・半導体素体界面、7a、
γb・・・カソード。 9・・・7ノード、12.14−・・罷 領域、MS丁
−MI8)ランリスク、TR・・・接方向Fラーンリス
タ。 IGI IG2
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 l)pベースが隣接しカソードにより接触されたnエミ
、りと、nペースがllI*Lアノードにより接触され
たpエミッタとを有する半導体素体およ゛ぴ半導体素体
の界面虻配置されMI8)ランリスクを升して制御可能
bエミッタシ叢−ト部を備え、各MI8)ランリスクが
n (p+エミ、り、p (nlペースに押入されこれ
と導電接続されたn tpi形の半導体領域およびp
(nlペースのグー)[よって被覆された区域を包含す
るものにおいて、界面にa(p+エミ、りの縁部区域、
’p (ml ペースに挿入されMI8.)ランリスク
のゲートと接続された別のn (pi形の半導体領域お
よびその間に位置するp(nlペニスの部分区域を包含
する横方向トランジスタを備え、該部分区域が点弧電極
を備えかつMI8)ランンスタのゲートが7ノードと接
続されたことを特徴とするサイリスタ・ 2、特許請求の範囲第1項記載のサイリスクにおいて、
MI8)ランリスクのゲートが外部電圧源と接続された
ことを特徴とするサイリスタ◎3)特許請求の範囲第1
項記載のサイリスクにおいて%MIS)ランリスクのゲ
ートが77−ドと接続されたことを特徴とするサイリス
タ・4)I?1許請求の範囲第3項記載のサイリスクに
おいて、MI8)ランリスクのゲートが充電抵抗とタイ
オードの直列接続を介して7ノードと接続されたことを
特徴とするサイリスタ。 5)特許請求の範i!!第1項ないし第4項のいずれさ
れたことを特徴とするサイリスタ・ 6)特許請求の範I!l第1項ないしjg3項のいずれ
かに記載の、サイリスタにおいて、pln)ペースとp
(nlペースに挿入された別のa(pl形の半導体領域
の間のpn接合に、p(mlペース中に集積させるのが
望ましい別のダイオードが並列接続唖れたことを特徴と
するサイリスタ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19813138762 DE3138762A1 (de) | 1981-09-29 | 1981-09-29 | Thyristor mit steuerbaren emitter-kurzschluessen und zuendverstaerkung |
| DE3138762.4 | 1981-09-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5868977A true JPS5868977A (ja) | 1983-04-25 |
| JPH0138386B2 JPH0138386B2 (ja) | 1989-08-14 |
Family
ID=6142948
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57169445A Granted JPS5868977A (ja) | 1981-09-29 | 1982-09-28 | サイリスタ |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4509068A (ja) |
| EP (1) | EP0075719B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5868977A (ja) |
| DE (1) | DE3138762A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3435550A1 (de) * | 1984-09-27 | 1986-04-03 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Thyristor mit erhoehter di/dt-festigkeit |
| JPS6188563A (ja) * | 1984-10-08 | 1986-05-06 | Toshiba Corp | 半導体スイツチ |
| JPS63181376A (ja) * | 1987-01-23 | 1988-07-26 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS5574168A (en) * | 1978-11-28 | 1980-06-04 | Oki Electric Ind Co Ltd | Pnpn switch |
| DE2945366A1 (de) * | 1979-11-09 | 1981-05-14 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Thyristor mit steuerbaren emitter-kurzschluessen |
| DE2945347A1 (de) * | 1979-11-09 | 1981-05-21 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Thyristor mit hilfsemitterelektrode und verfahren zu seinem betrieb |
| DE2945324A1 (de) * | 1979-11-09 | 1981-05-21 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Thyristor mit verbessertem schaltverhalten |
| US4489340A (en) * | 1980-02-04 | 1984-12-18 | Nippon Telegraph & Telephone Public Corporation | PNPN Light sensitive semiconductor switch with phototransistor connected across inner base regions |
| DE3118354A1 (de) * | 1981-05-08 | 1982-11-25 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Thyristor mit steuerbaren emitterkurzschluessen und kurzschlussgebieten sowie verfahren zu seinem betrieb |
-
1981
- 1981-09-29 DE DE19813138762 patent/DE3138762A1/de not_active Withdrawn
-
1982
- 1982-08-18 EP EP82107549A patent/EP0075719B1/de not_active Expired
- 1982-08-30 US US06/413,122 patent/US4509068A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-09-28 JP JP57169445A patent/JPS5868977A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0075719A3 (en) | 1984-06-13 |
| EP0075719A2 (de) | 1983-04-06 |
| DE3138762A1 (de) | 1983-04-14 |
| JPH0138386B2 (ja) | 1989-08-14 |
| EP0075719B1 (de) | 1986-12-10 |
| US4509068A (en) | 1985-04-02 |
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