JPS6155260B2 - - Google Patents
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- JPS6155260B2 JPS6155260B2 JP55115391A JP11539180A JPS6155260B2 JP S6155260 B2 JPS6155260 B2 JP S6155260B2 JP 55115391 A JP55115391 A JP 55115391A JP 11539180 A JP11539180 A JP 11539180A JP S6155260 B2 JPS6155260 B2 JP S6155260B2
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- JP
- Japan
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- region
- thyristor
- electrode
- semiconductor
- auxiliary
- Prior art date
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D62/00—Semiconductor bodies, or regions thereof, of devices having potential barriers
- H10D62/10—Shapes, relative sizes or dispositions of the regions of the semiconductor bodies; Shapes of the semiconductor bodies
- H10D62/13—Semiconductor regions connected to electrodes carrying current to be rectified, amplified or switched, e.g. source or drain regions
- H10D62/141—Anode or cathode regions of thyristors; Collector or emitter regions of gated bipolar-mode devices, e.g. of IGBTs
- H10D62/148—Cathode regions of thyristors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D18/00—Thyristors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D18/00—Thyristors
- H10D18/221—Thyristors having amplifying gate structures, e.g. cascade configurations
Landscapes
- Thyristors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体装置に係り、特にフインガー電
圧がなくdi/dt耐量の大きな電力用半導体装置
(サイリスタ)に関する。 従来のサイリスタにおいてはオン電流の急激な
立上がり特性を有し且つそのdi/dt耐量の大きな
特性を有するものが知られている。例えば第1図
a,bにより従来のサイリスタの一例を説明す
る。第1図aはサイリスタ要部の概略の平面図、
第1図bは第1図aのA−A′線に沿つて切断し
その矢印方向から見た断面図である。この第1図
a,bに示すサイリスタは一導電形の第1半導体
領域例えばN形領域1と、この領域1の両主面に
形成されたそれぞれこれと反対導電形の第2半導
体領域例えばP形領域2と第3半導体領域例えば
P形領域3と、前記第2半導体領域に形成された
これと反対導電形の第4半導体領域例えばN形領
域4と、この領域4に設けられたカソード電極5
と、前記P形領域2に設けられたゲート電極6
と、前記P形領域3に設けられたアノード電極7
と、前記P形領域2の主面にカソード電極5の外
周に対向して配設された部分8′およびゲート電
極6とカソード電極5との間に配設された部分
8″よりなる補助電極8と、カソード電極5とN
形領域4からなる主サイリスタ領域のエミツタ領
域(N形領域4)と、補助電極8のゲート電極6
とカソード電極5との間に配設された部分8″に
設けられた前記第4半導体領域と同一導電形の第
5半導体領域例えばN形領域9からなる補助サイ
リスタ領域のエミツタ領域(N形領域9)とを具
備してなるものである。このサイリスタは所謂増
巾ゲートを採用した構成となつているので例えば
第1図bに示す如くこの増巾ゲートはゲート電極
6のゲート電流により補助サイリスタをターン
オンさせてそのターンオン電流を流通させ、こ
の電流の主サイリスタのトリガ電流として主
サイリスタをターンオンさせるものである。従つ
て主サイリスタへのトリガ電流を大きくするこ
とができるのでサイリスタの初期点弧領域が広く
なり、その結果オン電流の急激な立上がりとdi/
dt耐量が大きくある利点がある。しかしながら従
来のサイリスタは前述のようにターンオンが2つ
のステツプを経て行なわれるために第2図に示す
ようにターンオン時にフインガー電圧VFINが現
われる。このフインガー電圧はサイリスタを単独
で使用したり、あるいは2個以上並列に接続して
サイリスタを高圧からターンオンする場合には特
に問題とはならないが、例えばサイリスタを2個
以上並列に接続して低圧からターンオンする場合
には各種の不都合を生ずる欠点がある。例えば第
3図において2個のサイリスタ11,12をそれ
ぞれ直列抵抗R1,R2を接続して端子P,Q間に
並列に接続されているものと仮定する。Lはイン
ダクタンスである。端子P,Q間に6000Aの電流
が流通するものとし、この電流が2個のサイリス
タに分担して流れる場合を考える。この時1個の
サイリスタには3000A流れることとなる。しかし
ながら2個のサイリスタのフインガー電圧が一致
しない場合には2個のサイリスタに同時にトリガ
電流を流しても何れか一方のサイリスタだけがタ
ーンオンすることとなる。この一方のサイリスタ
に3000Aの電流が流れた時他方のサイリスタには Vab=(点弧したサイリスタの3000A流通時 の電圧降下)+(抵抗両端の電圧降下) =1.5V+3000×2×10-4V=2.1V が印加される。 ただし点弧したサイリスタの3000A流通時の電
圧降下は第2図に示す特性を有するサイリスタを
使用するものとし、その直列抵抗の値は0.2mΩ
とする。 従つて他方のサイリスタのフインガー電圧VFI
Nが2.1V以上でなければこのサイリスタは点弧し
ないこととなる。なおこの場合前記の直列抵抗の
値を大きくすればVFINの大きなものでも点弧で
きるが、放熱の問題もあり抵抗を大きくできな
い。さらに2個以上のサイリスタをバランスよく
ターンオンさせるためにはVFINを小さくする必
要がある。しかしながら従来のサイリスタにおい
てはこのVFINを小さくしたりあるいはこれをほ
とんどなくしたりすることができないため前記の
如き不都合が回避できなかつた。 本発明はこのような事情に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところはフインガー電圧が殆
んどなく且つdi/dt耐量の大きな半導体装置を提
供するにある。 本発明によれば主サイリスタ領域と補助サイリ
スタ領域とを具備する増巾ゲート構成の半導体装
置において、ゲート電極とカソード電極との間に
配設された補助電極の部分に切欠部を設け、この
切欠部に前記カソード電極の一部を配設し、前記
主サイリスタ領域の一部と前記補助サイリスタ領
域とをゲート電極とカソード電極との間のゲート
電流が流れる領域に配設してなる半導体装置を得
るものである。 以下添付図面を参照して本発明の一実施例を詳
細に説明する。 第4図a,b,cはそれぞれ本発明の一実施例
の要部の概略図で、第4図aは平面図、第4図
b,cはそれぞれ第4図aのA−A′線およびB
−B′線に沿つて切断しその矢印方向から見た断面
図である。尚第4図a,b,cにおいて前記第1
図a,bに示すものと同一部分には同一符号を付
してその説明を省略する。第4図a,b,cに示
すものと第1図a,bに示すものとの違いについ
て述べると第4図a,b,cに示すものは第1図
a,bにおける補助電極8の中でゲート電極6と
カソード電極5との間に配設された部分8″の略
中央部に切欠部が設けられ、その切欠部にカソー
ド電極5の一部5′が配設された構成となつてい
る。さらにカソード電極5の一部5′のエミツタ
領域(主サイリスタ領域のエミツタ領域4と同じ
である)が補助電極8の部分8″に設けられた補
助サイリスタ領域のエミツタ領域9と接合された
構成となつている。 従つて第4図a,b,cに示すものは主サイリ
スタ領域の一部(即ちカソード電極5の一部5′
の領域)と補助サイリスタ領域(即ち補助電極8
の部分8″の領域)とがゲート電極6とカソード
電極5との間のゲート電流が流れる領域に配設さ
れた構成となつている。 次に上記第4図a,b,cに示す本発明の一実
施例の作動について説明する。最初に低圧からタ
ーンオンさせる場合について述べるとゲート電極
6にゲート電流を流すと主サイリスタのゲート
電極6に対向した一部がターンオンする。同時
に補助サイリスタもターンオンする。ターンオ
ンは電流が増加するにつれ、主サイリスタの一
部から全体へ広がつていく。しかし補助サイリス
タをターンオン電流は従来例について説明したと
同様に2ステツプになるためVFINが生ずるので
実質的に主サイリスタに移ることができない。そ
の理由は増巾作用を有効にするため補助サイリス
タと主サイリスタ間に半導体の横方向抵抗を利用
したインピーダンスを設けているためアノードと
カソード間の電位差が小さいと補助サイリスタの
ターンオン時に補助サイリスタと主サイリスタ間
に電位差が生じないので主サイリスタがターンオ
ンできないからである。さらにまた前述の如く同
時に点弧された主サイリスタの一部のターンオン
電流が主サイリスタ全体に広がり、このため実質
的に主サイリスタ領域のエミツタの電位を下げる
こととなるので、補助サイリスタのターンオン電
流は主サイリスタへ移る前に消弧してしまうこと
となる。 次に高圧からターンオンする場合について述べ
ると、前記と同様にゲート電流を流すと主サイ
リスタの一部がターンオンし、また補助サイリ
スタもターンオンする。補助サイリスタのター
ンオン電流は前記従来例と同様に主サイリスタに
流れ込み、主サイリスタをターンオンさせ
る。この場合にターンオンした補助サイリスタの
エミツタの電位が急激に下がるので、補助サイリ
スタのエミツタと主サイリスタのエミツタとの間
に例えば数百ボルトの高圧が印加されることとな
り、そのため主サイリスタを急速にターンオンさ
せることができるものである。また前述の如くゲ
ート電流によつて主サイリスタの一部がターン
オンし、これによりそのターンオン電流が主サ
イリスタ全体へ広がろうとするが、横方向抵抗が
小さいため、広がりが遅く所謂遅れ時間tdが長く
なる。従つて高圧からターンオンする場合はター
ンオン電流が補助サイリスタから主サイリスタへ
と広がることとなりdi/dt耐量が大きくなること
となる。 以上の如く本発明の実施例によれば一つのゲー
ト電極によつて低圧または高圧の何れからもター
ンオンできるものであり、従つて所謂フインガー
電圧が殆んどなく、且つdi/dt耐量の大きなサイ
リスタが得られる。因に本件出願人の実験によれ
ば例えばVFIN1.5でdi/dt350A/μs
(4000Vターンオン)のサイリスタが得られてい
る。さらに本発明によるサイリスタは以上の如く
構成されているのでこれを2個以上並列に接続す
る場合も従来の如き不都合は全くなく、さらに第
3図に示された直列抵抗R1,R2が不要となり所
謂直接並列接続が可能となり、従つてこれら抵抗
による損失がなく、そのための放熱も不要となり
装置全体を小型化できる等の効果がある。 尚図面中第5図a,bは上記本発明の一実施例
における遅れ時間td及びdi/dtを説明するための
図面で、例えばtdはゲート電流を連続的又はパル
ス状に流した場合に生ずる素子間電圧VDが0.9×
VDとなるまでの遅れ時間であり、di/dtはター
ンオン電流の立上りの度合を示すものである。ま
た第6図は上記本発明の実施例における電圧−電
流の特性曲線図でありVFINがない場合の一例を
示したものである。 以上は本発明の一実施例について説明したが本
発明は上記実施例に限定することなく、これに変
形、変更を加え得ること勿論である。例えば上記
実施例においては主サイリスタのエミツタ領域4
と補助サイリスタのエミツタ領域9とが互に接合
または同一層から構成される場合のものについて
説明したが、例えば第7図に示す如くこれらのエ
ミツタ領域4および9を互に分離または異なる層
から構成される場合にも本発明は適用できるもの
である。この場合における構成および作用効果は
上記実施例の場合と略同一であるから同一部分に
同一符号を付してその説明は省略する。
圧がなくdi/dt耐量の大きな電力用半導体装置
(サイリスタ)に関する。 従来のサイリスタにおいてはオン電流の急激な
立上がり特性を有し且つそのdi/dt耐量の大きな
特性を有するものが知られている。例えば第1図
a,bにより従来のサイリスタの一例を説明す
る。第1図aはサイリスタ要部の概略の平面図、
第1図bは第1図aのA−A′線に沿つて切断し
その矢印方向から見た断面図である。この第1図
a,bに示すサイリスタは一導電形の第1半導体
領域例えばN形領域1と、この領域1の両主面に
形成されたそれぞれこれと反対導電形の第2半導
体領域例えばP形領域2と第3半導体領域例えば
P形領域3と、前記第2半導体領域に形成された
これと反対導電形の第4半導体領域例えばN形領
域4と、この領域4に設けられたカソード電極5
と、前記P形領域2に設けられたゲート電極6
と、前記P形領域3に設けられたアノード電極7
と、前記P形領域2の主面にカソード電極5の外
周に対向して配設された部分8′およびゲート電
極6とカソード電極5との間に配設された部分
8″よりなる補助電極8と、カソード電極5とN
形領域4からなる主サイリスタ領域のエミツタ領
域(N形領域4)と、補助電極8のゲート電極6
とカソード電極5との間に配設された部分8″に
設けられた前記第4半導体領域と同一導電形の第
5半導体領域例えばN形領域9からなる補助サイ
リスタ領域のエミツタ領域(N形領域9)とを具
備してなるものである。このサイリスタは所謂増
巾ゲートを採用した構成となつているので例えば
第1図bに示す如くこの増巾ゲートはゲート電極
6のゲート電流により補助サイリスタをターン
オンさせてそのターンオン電流を流通させ、こ
の電流の主サイリスタのトリガ電流として主
サイリスタをターンオンさせるものである。従つ
て主サイリスタへのトリガ電流を大きくするこ
とができるのでサイリスタの初期点弧領域が広く
なり、その結果オン電流の急激な立上がりとdi/
dt耐量が大きくある利点がある。しかしながら従
来のサイリスタは前述のようにターンオンが2つ
のステツプを経て行なわれるために第2図に示す
ようにターンオン時にフインガー電圧VFINが現
われる。このフインガー電圧はサイリスタを単独
で使用したり、あるいは2個以上並列に接続して
サイリスタを高圧からターンオンする場合には特
に問題とはならないが、例えばサイリスタを2個
以上並列に接続して低圧からターンオンする場合
には各種の不都合を生ずる欠点がある。例えば第
3図において2個のサイリスタ11,12をそれ
ぞれ直列抵抗R1,R2を接続して端子P,Q間に
並列に接続されているものと仮定する。Lはイン
ダクタンスである。端子P,Q間に6000Aの電流
が流通するものとし、この電流が2個のサイリス
タに分担して流れる場合を考える。この時1個の
サイリスタには3000A流れることとなる。しかし
ながら2個のサイリスタのフインガー電圧が一致
しない場合には2個のサイリスタに同時にトリガ
電流を流しても何れか一方のサイリスタだけがタ
ーンオンすることとなる。この一方のサイリスタ
に3000Aの電流が流れた時他方のサイリスタには Vab=(点弧したサイリスタの3000A流通時 の電圧降下)+(抵抗両端の電圧降下) =1.5V+3000×2×10-4V=2.1V が印加される。 ただし点弧したサイリスタの3000A流通時の電
圧降下は第2図に示す特性を有するサイリスタを
使用するものとし、その直列抵抗の値は0.2mΩ
とする。 従つて他方のサイリスタのフインガー電圧VFI
Nが2.1V以上でなければこのサイリスタは点弧し
ないこととなる。なおこの場合前記の直列抵抗の
値を大きくすればVFINの大きなものでも点弧で
きるが、放熱の問題もあり抵抗を大きくできな
い。さらに2個以上のサイリスタをバランスよく
ターンオンさせるためにはVFINを小さくする必
要がある。しかしながら従来のサイリスタにおい
てはこのVFINを小さくしたりあるいはこれをほ
とんどなくしたりすることができないため前記の
如き不都合が回避できなかつた。 本発明はこのような事情に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところはフインガー電圧が殆
んどなく且つdi/dt耐量の大きな半導体装置を提
供するにある。 本発明によれば主サイリスタ領域と補助サイリ
スタ領域とを具備する増巾ゲート構成の半導体装
置において、ゲート電極とカソード電極との間に
配設された補助電極の部分に切欠部を設け、この
切欠部に前記カソード電極の一部を配設し、前記
主サイリスタ領域の一部と前記補助サイリスタ領
域とをゲート電極とカソード電極との間のゲート
電流が流れる領域に配設してなる半導体装置を得
るものである。 以下添付図面を参照して本発明の一実施例を詳
細に説明する。 第4図a,b,cはそれぞれ本発明の一実施例
の要部の概略図で、第4図aは平面図、第4図
b,cはそれぞれ第4図aのA−A′線およびB
−B′線に沿つて切断しその矢印方向から見た断面
図である。尚第4図a,b,cにおいて前記第1
図a,bに示すものと同一部分には同一符号を付
してその説明を省略する。第4図a,b,cに示
すものと第1図a,bに示すものとの違いについ
て述べると第4図a,b,cに示すものは第1図
a,bにおける補助電極8の中でゲート電極6と
カソード電極5との間に配設された部分8″の略
中央部に切欠部が設けられ、その切欠部にカソー
ド電極5の一部5′が配設された構成となつてい
る。さらにカソード電極5の一部5′のエミツタ
領域(主サイリスタ領域のエミツタ領域4と同じ
である)が補助電極8の部分8″に設けられた補
助サイリスタ領域のエミツタ領域9と接合された
構成となつている。 従つて第4図a,b,cに示すものは主サイリ
スタ領域の一部(即ちカソード電極5の一部5′
の領域)と補助サイリスタ領域(即ち補助電極8
の部分8″の領域)とがゲート電極6とカソード
電極5との間のゲート電流が流れる領域に配設さ
れた構成となつている。 次に上記第4図a,b,cに示す本発明の一実
施例の作動について説明する。最初に低圧からタ
ーンオンさせる場合について述べるとゲート電極
6にゲート電流を流すと主サイリスタのゲート
電極6に対向した一部がターンオンする。同時
に補助サイリスタもターンオンする。ターンオ
ンは電流が増加するにつれ、主サイリスタの一
部から全体へ広がつていく。しかし補助サイリス
タをターンオン電流は従来例について説明したと
同様に2ステツプになるためVFINが生ずるので
実質的に主サイリスタに移ることができない。そ
の理由は増巾作用を有効にするため補助サイリス
タと主サイリスタ間に半導体の横方向抵抗を利用
したインピーダンスを設けているためアノードと
カソード間の電位差が小さいと補助サイリスタの
ターンオン時に補助サイリスタと主サイリスタ間
に電位差が生じないので主サイリスタがターンオ
ンできないからである。さらにまた前述の如く同
時に点弧された主サイリスタの一部のターンオン
電流が主サイリスタ全体に広がり、このため実質
的に主サイリスタ領域のエミツタの電位を下げる
こととなるので、補助サイリスタのターンオン電
流は主サイリスタへ移る前に消弧してしまうこと
となる。 次に高圧からターンオンする場合について述べ
ると、前記と同様にゲート電流を流すと主サイ
リスタの一部がターンオンし、また補助サイリ
スタもターンオンする。補助サイリスタのター
ンオン電流は前記従来例と同様に主サイリスタに
流れ込み、主サイリスタをターンオンさせ
る。この場合にターンオンした補助サイリスタの
エミツタの電位が急激に下がるので、補助サイリ
スタのエミツタと主サイリスタのエミツタとの間
に例えば数百ボルトの高圧が印加されることとな
り、そのため主サイリスタを急速にターンオンさ
せることができるものである。また前述の如くゲ
ート電流によつて主サイリスタの一部がターン
オンし、これによりそのターンオン電流が主サ
イリスタ全体へ広がろうとするが、横方向抵抗が
小さいため、広がりが遅く所謂遅れ時間tdが長く
なる。従つて高圧からターンオンする場合はター
ンオン電流が補助サイリスタから主サイリスタへ
と広がることとなりdi/dt耐量が大きくなること
となる。 以上の如く本発明の実施例によれば一つのゲー
ト電極によつて低圧または高圧の何れからもター
ンオンできるものであり、従つて所謂フインガー
電圧が殆んどなく、且つdi/dt耐量の大きなサイ
リスタが得られる。因に本件出願人の実験によれ
ば例えばVFIN1.5でdi/dt350A/μs
(4000Vターンオン)のサイリスタが得られてい
る。さらに本発明によるサイリスタは以上の如く
構成されているのでこれを2個以上並列に接続す
る場合も従来の如き不都合は全くなく、さらに第
3図に示された直列抵抗R1,R2が不要となり所
謂直接並列接続が可能となり、従つてこれら抵抗
による損失がなく、そのための放熱も不要となり
装置全体を小型化できる等の効果がある。 尚図面中第5図a,bは上記本発明の一実施例
における遅れ時間td及びdi/dtを説明するための
図面で、例えばtdはゲート電流を連続的又はパル
ス状に流した場合に生ずる素子間電圧VDが0.9×
VDとなるまでの遅れ時間であり、di/dtはター
ンオン電流の立上りの度合を示すものである。ま
た第6図は上記本発明の実施例における電圧−電
流の特性曲線図でありVFINがない場合の一例を
示したものである。 以上は本発明の一実施例について説明したが本
発明は上記実施例に限定することなく、これに変
形、変更を加え得ること勿論である。例えば上記
実施例においては主サイリスタのエミツタ領域4
と補助サイリスタのエミツタ領域9とが互に接合
または同一層から構成される場合のものについて
説明したが、例えば第7図に示す如くこれらのエ
ミツタ領域4および9を互に分離または異なる層
から構成される場合にも本発明は適用できるもの
である。この場合における構成および作用効果は
上記実施例の場合と略同一であるから同一部分に
同一符号を付してその説明は省略する。
第1図a,bはそれぞれ従来のサイリスタの要
部の概略の平面図およびそのA−A′線に沿う断
面図、第2図は従来のサイリスタの電圧−電流特
性曲線図、第3図は従来のサイリスタの並列接続
の回路図、第4図a,b,cはそれぞれ本発明の
一実施例のサイリスタの要部の概略の平面図、A
−A′線およびB−B′線に沿う各断面図、第5図
a,bは本発明の一実施例を説明するための説明
図、第6図は本発明の一実施例のサイリスタの電
圧−電流特性曲線図、第7図は本発明の他の実施
例のサイリスタの要部の概略の平面図である。 1……第1半導体領域、2……第2半導体領
域、3……第3半導体領域、4……第4半導体領
域、5,5′……カソード電極、6……ゲート電
極、7……アノード電極、8,8′,8″……補助
電極、9……第5半導体領域、11,12……サ
イリスタ。
部の概略の平面図およびそのA−A′線に沿う断
面図、第2図は従来のサイリスタの電圧−電流特
性曲線図、第3図は従来のサイリスタの並列接続
の回路図、第4図a,b,cはそれぞれ本発明の
一実施例のサイリスタの要部の概略の平面図、A
−A′線およびB−B′線に沿う各断面図、第5図
a,bは本発明の一実施例を説明するための説明
図、第6図は本発明の一実施例のサイリスタの電
圧−電流特性曲線図、第7図は本発明の他の実施
例のサイリスタの要部の概略の平面図である。 1……第1半導体領域、2……第2半導体領
域、3……第3半導体領域、4……第4半導体領
域、5,5′……カソード電極、6……ゲート電
極、7……アノード電極、8,8′,8″……補助
電極、9……第5半導体領域、11,12……サ
イリスタ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一導電形の第1半導体領域と、この領域の両
主面に形成されたそれぞれこれと反対導電形の第
2半導体領域および第3半導体領域と、前記第2
半導体領域に形成されたこれと反対導電形の第4
半導体領域と、この第4半導体領域に設けられた
カソード電極と、 前記第2半導体領域に設けられたゲート電極
と、 前記第3半導体領域に設けられたアノード電極
と、 前記第2半導体領域の主面に前記カソード電極
の外周に対向して配設された部分および前記ゲー
ト電極と前記カソード電極との間に配置された部
分よりなる補助電極と、 前記カソード電極と前記第4半導体領域からな
る主サイリスタ領域のエミツタ領域と、 前記補助電極の前記ゲート電極と前記カソード
電極との間に配設された部分に設けられた前記第
4半導体領域と同一導電形の第5半導体領域から
なる補助サイリスタ領域のエミツタ領域と、 前記ゲート電極と前記カソード電極との間に配
設された前記補助電極の部分に設けられた切欠部
に配設された前記カソード電極の一部と、 前記ゲート電極と前記カソード電極との間のゲ
ート電流が流れる領域にそれぞれ配設された前記
主サイリスタ領域のエミツタ領域の一部および前
記補助サイリスタ領域のエミツタ領域の一部と を具備してなることを特徴とする半導体装置。 2 前記主サイリスタ領域のエミツタ領域の一部
と前記補助サイリスタ領域のエミツタ領域の一部
とを互に接合させてなることを特徴とする前記特
許請求の範囲第1項記載の半導体装置。 3 前記主サイリスタ領域のエミツタ領域の一部
と前記補助サイリスタ領域のエミツタ領域の一部
とを互に分離させてなることを特徴とする前記特
許請求の範囲第1項記載の半導体装置。 4 前記特許請求の範囲第1項記載のものにおい
て前記主サイリスタ領域のエミツタ領域と前記補
助サイリスタ領域のエミツタ領域とを互に分離さ
せてなることを特徴とする前記特許請求の範囲第
1項記載の半導体装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55115391A JPS5739574A (en) | 1980-08-22 | 1980-08-22 | Semiconductor device |
| EP81106493A EP0046578B1 (en) | 1980-08-22 | 1981-08-20 | Power thyristor |
| US06/294,750 US4445133A (en) | 1980-08-22 | 1981-08-20 | Semiconductor device |
| DE8181106493T DE3173128D1 (en) | 1980-08-22 | 1981-08-20 | Power thyristor |
| CA000384419A CA1154173A (en) | 1980-08-22 | 1981-08-21 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55115391A JPS5739574A (en) | 1980-08-22 | 1980-08-22 | Semiconductor device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5739574A JPS5739574A (en) | 1982-03-04 |
| JPS6155260B2 true JPS6155260B2 (ja) | 1986-11-27 |
Family
ID=14661380
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55115391A Granted JPS5739574A (en) | 1980-08-22 | 1980-08-22 | Semiconductor device |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP0046578B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5739574A (ja) |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1980
- 1980-08-22 JP JP55115391A patent/JPS5739574A/ja active Granted
-
1981
- 1981-08-20 US US06/294,750 patent/US4445133A/en not_active Expired - Lifetime
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- 1981-08-20 DE DE8181106493T patent/DE3173128D1/de not_active Expired
- 1981-08-21 CA CA000384419A patent/CA1154173A/en not_active Expired
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| JP2014135510A (ja) * | 2014-03-19 | 2014-07-24 | Sansha Electric Mfg Co Ltd | サイリスタ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1154173A (en) | 1983-09-20 |
| JPS5739574A (en) | 1982-03-04 |
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| EP0046578B1 (en) | 1985-12-04 |
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| DE3173128D1 (en) | 1986-01-16 |
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