JPS5871904A - 変性エチレン−αオレフィン共重合体の製造方法 - Google Patents

変性エチレン−αオレフィン共重合体の製造方法

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JPS5871904A
JPS5871904A JP56168725A JP16872581A JPS5871904A JP S5871904 A JPS5871904 A JP S5871904A JP 56168725 A JP56168725 A JP 56168725A JP 16872581 A JP16872581 A JP 16872581A JP S5871904 A JPS5871904 A JP S5871904A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、改良された特性を有する線状中低密度ポリエ
チレン組成物に関する。
エチレンとα−オレフィンの共重合によって製造される
線状中低密度ポリエチレンは、高圧法ラジカル重合によ
って製造される高分岐度低密度ポリエチレンに比較して
、引張り強度、耐衝撃性、剛性、耐環境応力亀裂(ES
CR)および耐熱性々とに優れている。したがって、こ
の線状中低密度ポリエチレンを用いて成形したフィルム
、あるいは射出、中空、押出、回転成形などによって成
形された各種製品は、軽量、薄肉にしても、高分岐度低
密度ポリエチレンからつくられた製品と十分対抗でき、
省資源、資エネルギーの観点から工業的価値が高い。ま
たさらに、線状中低密度ポリエチレンは、上記の如く各
種の特性で優れているために、高分岐度低密度ポリエチ
レンに比較し、よシ厳しい条件での使用を可能にし、機
能性の高い製品とすることができ、この点からも工業的
価値が高い。
しかしながら、かかる線状中低密度ポリエチレンは、高
分岐度低密度ポリエチレンに比較し、次のような欠点を
有している。透明性が悪く、外観的に商品価値が劣り、
また、溶融張力が低く、溶融弾性が低いことから、中空
成形、押出成形、フィルム成形等において、多様な成形
品がつくシにく\、加工成形の条件を狭い条件に調整し
なければならない等工業的に不利な点があシ、また、そ
れらの欠点を克服するためには、加工機械を特殊な仕様
に改良しなければならない等、経済的に不利である。
本発明者らは、線状中低密度ポリエチレンの優れた特性
を損なうとと々く、欠点を改良する方法および改良され
た組成物kmるため研究を進めた結果、本発明を完成す
るに到ったのである。
すなわち、本発明は、線状中低密度ポリエチレンにラジ
カル発生剤を0.0005 n量チ以上0.1π1量チ
未満混合した混合物を、該線状中低密度ポリエチレンの
融点以上熱分解温度未満の温度で均一に溶融混練するこ
とによシ変性された線状中低密度ポリエチレン組成物で
あって、 (1)線状中低密度ポリエチレンの布置が口、ci o
 y/cnt以上0.94 ylct1未満であり、(
11)変性前の該線状中低密度ポリエチレンのメルト・
インデックスを(MI)1%変性されて得られた線状中
低密度ポリエチレン組成物のメルト・インデックスを(
MI)2としたとき、(MI)!/(MI)1の値が0
.05以上0.9以下の範囲にあるように変性して成る
ポリエチレン組成物に係るものである。
本発明によれば、線状中低密度ポリエチレンの優れた引
張シ強度、耐衝撃性、剛性、ESCRおよび耐熱性を有
し、かつ線状中低密度ポリエチレンの欠点である性質、
例えば透明性が劣ること、低溶融張力、低溶融弾性等が
改良された工業的価値の高いポリエチレン組成物が得ら
れる。
ポリエチレンにラジカル発生剤を加えて溶融混練すると
、ポリマーの分子間結合が起り、架橋反応が生成し、そ
の溶融粘弾性挙動、機械的性質あるいは熱的性質が変化
する。これを利用して、架橋ポリエチレンが各種の用途
、例えば電線被覆、発泡成形品に利用されていることは
公知である。
また、ポリエチレンを化学的に架橋する技術は古くから
開発され、特公昭33−6095、特公昭37−144
82等があり、その後も種々の改良技術が提案され、例
えば特公昭39−18546、= 5− 特公昭4B−1711、特公昭49−18101、特公
昭50−23063等多数存在する。
しかしながら、従来から行なわれているこれらの技術は
、ポリエチレンを高度に架橋し、キシレン等の溶媒中で
膨潤が起こる程度に(ゲル化が起こる状態まで)架橋す
ることが基本になっている。
そして、架橋前のポリエチレンが本発明のような特定の
線状中低布置ポリエチレンの場合に、効呆が顕著に発現
するというととについては全く開示されていない。
本願発明においては、特定の線状中低密度ポリエチレン
を用いていること、および架橋の度合が軽度で、キシレ
ン等の溶媒中で膨潤が起ら々い程度に、すなわち、ゲル
化が起らない程度の軽度な架橋、または分子間結合(本
発明においては、この軽度な架橋または分子間結合を一
般的な強度な架橋と区別するため、とくに、変性と称す
る)を生成させることを特徴とするものである。
一方、特定のポリエチレンをラジカル発生剤とともに、
押出機で溶融温度以上の温度で処理し、 6− 高いダイスウェルのポリエチレンを得る方法が特公昭5
0−14672で提案されている。しかしながら、この
方法においては、変性前のポリエチレンとして、本発明
のようなとくに線状中低密度ポリエチレンが、本発明に
示すように変性によって諸性質が際立った改良効果を示
すことについての技術認識はみられない。そして、本発
明に比較して、使用されるラジカル発生剤の量が非常に
多く、得られる効果も異なっている。
特公昭36−14034にも、特定のポリエチレンとラ
ジカル発生剤とを反応せしめポリエチレンの性質を改質
する方法が提案されている。しかしながら、この方法は
、エチレン−αオレフィン共重合体のとくにαオレフイ
ン含有量の低い、すなわち、密度が高いエチレン−αオ
レフィン共重合体に関するもので、αオレフィンの含有
量の高い、、t[の低いエチレン−αオレフィン共重合
体については全く開示されていない。
また、特公昭50−14672、同56−14054の
いずれにおいても、ポリエチレン中の二重結合の量が重
要な鍵となっているが、本発明においては、二重結合の
量はそれほど重要ではない。何故ならば、本発明では、
共重合成分であるαオレフィンの量が比較的多いため、
第3級炭素の数が多く、この第3級炭素がラジカル発生
剤によりラジカルを形成させ、分子間結合を生成するた
めに、二重結合がそれほど重要な意義をもたないものと
考えられる。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の線状中低密度ポリエチレンとは、シリカ、アル
ミナを担体とE7た酸化クロム触媒等の遷移金属酸化物
系触媒、ハロゲン化チタンまたはハロゲン化バナジウム
などのような第1V〜■族の遷移金属ハロゲン化物と、
アルギルアルミニウムーマグネシウム錯体、アルギルア
ルコキシアルミニウムーマグネシウム錯体などのような
有機アルミニウムーマグネシウム錯体やアルキルアルミ
ニウムあるいはアルキルアルミニウムクロライド等のよ
うな有機アルミニウム等のI〜III族の有機金属化合
物との組合せからなる配位触媒など、ラジカル発生剤系
危熾以外の触媒を使用し、懸濁重合、溶液重合、気相重
合、および1000〜300θ気圧、150〜300℃
で重合を行なう高圧重合などの各種のプロセスによって
製造される、エチレンとプロピレン、フテンー1、ペン
テン−1、ヘキセン−1,4メチルペンテン−1、オク
テン−1、デセン−1等のα−オレフィン類の1棹以上
との共重合体であり、密度が0.90977以上0.9
4 y/c−r/1未満のものを言う。該線状中低密度
ポリエチレン中のα−オレフィンの量は、2.6重量%
以上25重量%以下である。本発明において、より好ま
しい密度の範囲は、0.91 y/cr/1以上0,9
35グ/7以下であシ、密度がこの範囲にあるとき、本
発明のラジカル発生剤による変性の効果は最高に発揮さ
れ、物理的、化学的、機械的、熱的、光学的性質等の諸
性質の改良効果は最も大きくなる。
本発明において使用されるラジカル発生剤としては、ベ
ンゾイルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイ
ド、ジ−クミルパーオキサイド、2.5−ジメチル−2
,5−ジ(t−ブチルパーオキシ) 9− ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチル
パーオキシ)ヘキシン、1.6〜ビス(t−ブチルパー
オキシイソプロビル)ベンゼン、t−ブチル−ハイドロ
パーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサイド、ラ
ウロイルパーオキサイド、ジ−t−ブチル−シバ−オキ
シフタレート、t−ブチルパーオキシマレイン酸、イン
プロピルパーカーボネート等の有機過酸化物、アゾビス
イソブチロニトリルの如きアゾ化合物、過硫酸アンモニ
ウムの如き無機過酸化物等が挙けられ、これらは1種ま
たは2種以上の組合せを使用してさしつがえない。また
、これらの中でも、半減期1分での分解温度が170℃
から200℃の間にあるジ−t−ブチルパーオキサイド
、ジ−クミルパーオキサイド、2.5−ジメチル−2,
5ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−ジメ
チル−2,5ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン、1
.3−ビス(t−ブチルパーオキシイソプロビル)ベン
ゼンがとくに好ましい。
ラジカル発生剤による変性の方法としては、該−10− 線状中低密度ポリエチレンに、該ラジカル発生剤を加え
て、リボンブレンダー、ヘンシェルミキサー等の攪拌器
で十分混合して得られる混合物を、押出機、混線機など
で均一に溶融混練する方法である。混線に使用される押
出機、混線機としては、シングルスクリユー、ダブルス
クリユータイプのいずれでもよいが、より均一な混線、
変性度を得るためには、ダブルスクリユータイプがより
好ましい。ダブルスクリユータイブとしては、日本製鋼
所製CIM、ファレル社gFcM、DSM、バンバリー
ミキサ−等がある。
溶融混練の条件は、原料となる該線状中低密度ポリエチ
レンの融点以上熱分解点未満の温度で、好ましくは14
0℃から250℃の範囲で、約1〜5分の時間で混練す
る条件が挙けられる。また、溶融混線の雰囲気は、でき
るだけ酸素濃度の低い雰囲気、例えば窒素シール等をし
た雰囲気が均一なポリマー構造を生成し、あるいは酸化
反応等を起こさないために好ましい。
本発明の実施にあたっては、変性(軽度の架橋反応)の
度合の調節が重要である。該線状中低密度ポリエチレン
をラジカル発生剤の存在下で、上記混練温度で混練する
と分子間結合が起り、メルト・インデックス(MI)が
低下する。
本発明においては、該線状中低密度ポリエチレンの変性
前のMlを(MI)lとし、変性後(ラジカル発生剤を
入れて混練し、変性したあと)のMIを(MI)2とし
たとき、(MI)2/ (MI)lの値が0.05から
0.9の範囲にあるように変性度を調節することである
。(MI )t/(MI )lの値が0.9を越えると
、実用特性の改良の度合が小さい。寸だ、0.05未満
のときは、変性度が進みすぎ、ゲル状ポリマーが生成し
、ポリマー構造が不均一になシ、また成形加工性が悪く
なるなど、実用的に好ましくない。
変性度の調節は、該ラジカル発生剤の種類、濃度、混線
方法および条件を変性前の該線状中低密度ポリエチレン
の特性、添加剤等を勘案しながら、適宜選択することに
よって行なわれる。実施される条件としては、該ラジカ
ル発生剤の濃度が0.0005重量%以上0.1重量%
未満の範囲にあることが必要である。上記(MI)t/
(MI)lの値が0.05以上0.9以下の範囲にあっ
ても、ラジカル発生剤の量が0.1重量%以上のときは
、ゲル状物が生成、ポリマーが不均質になることなどが
あり、あるいはラジカル発生剤の分解物などのために、
成形加工性、機械的性質が不良になることがあり好まし
くない。捷た、変性後の線状中低密度ポリエチレンを厚
さが0.111111以下の薄いフィルムの用途に使う
場ばは、優れた溶融延伸性を付与し、微細なフィッシュ
アイを少なくするために、(MI)2/(Ml)lの値
が0.5を越え0.9以下にある。このような変性度を
得るためには、該ラジカル発生剤の量は通常0.3重量
%未満にある。押出のシート、パイプ等、中空成形用の
ポリマーとしてとくに好ましい範囲は、(MI)Iが3
以下であって、(Ml)2/(MI)lの値が0.05
から0.7の範囲にある。溶融張力、ダイ・スウェル、
衝撃強度、ESCRなど、とくに重要な特性(成形加工
性、機械的性質)が最高のレベルでバランスする。
−13一 本発明の変性された線状中低密度ポリエチレン組成物に
は、勿論通常の安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、ブ
ロッキング防止剤、顔料、無機捷たは有機の充填剤、ゴ
ムその他の少量のポリマーなど、通常ポリオレフィンに
添加される物質は添加することができる。しかしながら
、該ラジカル発生剤と面接反応を起こすような物質、例
えば、通常の安定剤、紫外m吸収剤などは、変性反応前
に添加することは可能であるが、変性反応完了後に添加
することが好ましい。これら添加物質の例としては、B
HT、シェル社アイオノツクヌ330、グツドリッチ社
製グツドライト3114、チバガイギー社製イルガノッ
クス1010.1076、ナスビン32ノ、三共製薬社
製すノールLS 770、DMTP。
DLTDP、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜
鉛、チタンホワイト、炭酸カルシウム、タルク、スチレ
ン−ブタンジエンラバー、エチレン−酢ヒ共重合体等が
挙げられる。
以下、実施例を挙げて説明するが、本発明は、これらの
実施例によって何ら制限されるものでは−14− ない。なお、実施例で用いられている用語の意味は下記
のとおりである、 (1)MI;メルト・インデックスを表わし、ASTM
D−1238にしたがい、温度190℃、荷重2.16
kgの条件下で測定した。
(H)MIR; MI測定条件において、荷重21.6
kgで測定した値をMIで除した商を意味する。流動性
の一つの尺度である。MIRが高いほど実用成形加工で
流動性が良い。
(iii)密度; ASTMD−1505にしたがって
測定した。
(IV)二重結合;圧縮成形により作成した薄いフィル
ムサンプルを用い、赤外吸収分析法で測定した。
トランスビニレン、末端ビニル、ビニリデンの各結合を
それぞれ964.908.888crn″′I凛j区か
ら求め、それらの総計で表わした。
Mコモノマー含有量;重合体中に含まれる共重合成分の
量は、C”NMRにより測定した。
(vD溶融張力;レオ・メーターで、190’Cの温度
、プランジャースピード2 、Ornu/minで押出
し、このストランドを10 m /minで引き伸ばし
、そのときの張力を溶融張力とする。
(■1)ダイスウェル;外径16111111.内径1
o朋の中空成形用ダイを用い、温度170℃で押出した
パリソン20Crn当シの重量で表わされる。
帆)引張衝撃強さ; ASTMD−1822にしたがっ
て測定した。
(IX)ESCR;環境応力破壊抵抗性を示す。AST
MD−1693に準じて測定した。たたし、温度は80
℃、ノニオン系界面活性剤の濃度は100チとした。
試験片の50係の個数が破壊するまでの時間で表わされ
る。
(×)鍍度; ASTMD−1003にしたがって、厚
さ0.04H11Nの圧縮成形シートを用いて測定した
(Xi)フィルム製膜性;301径の押出機、ダイギャ
ップ1.51nIAX幅150 #1IIIのTダイお
よびロール冷却機から構成されるフィルム製膜機を使用
し、押出温度170℃で押出し、フィルムの引取り速度
を徐々に上けて行き、フィルムの製膜性とフィルム中の
フィッシュアイを測定した。製膜性の判定は、20μ以
下の厚さ1で製膜可能なとき「良」、21ないし100
μの厚さでフィルムが切れる場合を1普通」、101μ
以上の厚さしか製膜できないときを[不良−1とした。
フィッシュアイはスポットゲージで照合し、0.211
11+1φ以上のものの数を測定し、フィルムの重量1
002当りに換算し、10個以下を「少」、11〜10
0個を「中」、101個以上を「多」とした。
本発明の実施例、比較例は、各種の触媒、重合方法によ
るポリエチレン、エチレン−αオレフィン共重合体につ
いてなされた。はじめに、実施例、比較例で使用した重
合体の触媒、重合方法について説明する。
(11固体触媒のa成 後記の実施例および比較例で用いる固体触媒の合成’i
i、10tのオートクレーブを用いて実施した。
(1)固体触媒A オートクレーブの内部の酸素と水分を乾燥窒素によって
除去した後、ヘキサン4tを導入し、−17− −20℃に冷却した。A104sMg(”  C4I(
0)2.451.2m0tを含有するヘキサン2tおよ
び四塩化チタン1 motとモノブトギシバナジルクロ
リド1motを含有するヘキサン2tを別々の添加口よ
り、−20℃で、痺拌下に両成分を同時に1時間かけて
滴下し、さらに2時間この温度で反応させた。反応混合
物をθj過し、ヘキサンで洗浄した。これを固体触媒A
と称する。
(11)  固体剛シ媒B (C2H3X n−C4H[l ) Mgと粘度15七
ンチストークスのヒドロメチルポリシロキサンとのSi
/Mg=1,0/1.0の反応物3.0mo7と四塩化
チタン3.omotとを、ヘキサン6tとともにオート
クレーブに入れ、−10℃にて3時間反応せしめた。固
体触媒Aの場合と同様に反応混合物を後処理し、固体触
媒を得た。これを固体触媒Bと称する。
(iii)固体触媒C (sec −CIH9) (n−C,Ho)Mg 2.
Omotオヨヒ三塩化バナジル1.5motと四塩化チ
タン1.5 mob ト(r) a合物を、ヘキサン6
tとともにオートクレーブに−18− 入れ、−20℃で4時間反応せしめた。固体触媒Aの場
合と同様に反応混合物を処理し、固体触媒を得た。これ
を固体触媒Cと称する。
(1い固体触媒D 11化マグネシウム500グおよび四塩化チタン5tを
オートクレーブに仕込み、110℃で3時間反応させた
。反応混合物を沖過し、固体触媒を単離し、ヘキサンで
洗浄した。これを固体触媒りと称する。
(2)  ポリマーの製造 200tの容量の反応機を用い、連続重合の条件でポリ
マーの製造を実施した。第1表に示す重合温度に保ちつ
つ、該表に示す条件で固体触媒、有機アルミニウム化合
物、α−オレフィン、水素を反応機へ供給し、溶媒を5
0 t/Hr 、エチレンをポリマーの生成量6〜10
 kg/Hrに保つのに必要な量供給しつつ重合を行な
った。なお、重合温度が100℃以下の場合は、溶媒と
してイソブタンを用い、重合圧力20 kg/mの条件
、重合温度が120℃以上の場合は、溶媒としてヘキサ
ンを用い、重合圧力30 kg/cr/lの条件で重合
を実施した。
各実施例、比較例で使用したポリエチレンおよびエチレ
ン−αオレフィン共重合体は、上記の触媒、重合方法を
使用し、さらに詳しくは、各々の例について第1表に基
く条件で製造した。
実施例1 tll  i性のベースとなるエチレン−αオレフィン
共重合体の製造 上記の重合設備、重合方法に基き、さらに、第1表の実
施例1の該当欄に記載する触媒、重合条件により、エチ
レンとブテン−1との共重合体を製造した。この共重合
体を下記の方法で変性し、各種の特性値を測定した。な
お、この共重合体中のブテン−1の濃度は7.6重量%
、二重結合は0.38個/1000Cであった。
+21  変性ポリエチレン組成物の製造illにより
y造した共重合体のペレットに、ラジカル発生剤として
2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ
)ヘキサンのハキ9フ10液を噴霧し、ヘンシェルミキ
サーで攪拌し、次いでヘキサンを蒸発させて、該共重合
体と該ラジカル発生剤の混合物をつくった。該ラジカル
発生剤の濃度は該共重合体に対し20111’lに々る
ようにした。この混合物をスクリュー径6 0 mIn
φのシングルスクリユー押出機で、220℃の温度、約
35に9/Hrの押出速度で、窒素ガスでシールをL1
混練押出した。この場合、押出機内の樹脂の平均滞留時
間は2分40秒であった。このようにして変性されたエ
チレン−ブテン−1共重合体に、BHT500ppm,
ステアリン酸カルシウム5 0 0 pillを加え、
再度、上と同じ条件で押出し、安定剤入り変性共重合体
組成物を製造した。
実施例2 実施例1において、ラジカル発生剤の量を100p−に
した以外は、全て実施例1と同様の方法、条件で変性共
重合体組成物を製造した。
比較例1 実施例1において、ラジカル発生剤の量を1500p−
にした以外は、全て実施例1と同様の方法、条件で変性
共重合体組成物を製造した。
= 2 1 − 比較例2 実施例1で重合して得られた共重合体に、BHT500
ppl、ステアリン酸カルシウム5 0 0 ppmを
加え、ラジカル発生剤による変性はしないで、実施例1
と同様の条件で混練押出して、未変性の安定剤入り共重
合体を製造した。
比較例3 第1表に示す重合条件で、高密間のエチレン−ブテン−
1共重合体をつくシ、実施例1と同様に安定剤を加え、
未変性の安定剤入り共重合体を製造した。なお、この共
重合体中のブテン−1濃度は0.8重量%、二重結合は
0.47個/ 1. 0 0 0 Cであった。
比較例4 比較例3で重合した共重合体を実施例1と同様にして変
性し、さらに安定剤を加え、変性共重合体組成物を製造
した。この場合、ラジカル発生剤の量は変性後のMIが
実施例2における変性共重合体のMIと同じになるよう
に調整したが、その量は9011p1であった。
− 2 2 = 比較例5 通常の高圧法で製造された低密度ポリエチレン(旭ダウ
M1B20)の特性を測定した。
比較例6 比較例5で使用した低密度ポリエチレンを実施例1と同
様にして変性した。ただし、ラジカル発生剤の量は変性
後のMIが実施例2における変性共重合体のMlと同じ
になるように調整したが、その量け2901111閣で
あった。
比較例7 第1表に示す重合条件で、実施例2における変性共重合
体とほとんど等しいMI、MIR1密度を有するエチレ
ン−ブテン−1共重合体を製造し、次いで比較例2と同
様にして、未変性の安定剤入り共重合[−製造した。
上記実施例1,2および比較例1,2,3,4,5゜6
.7の特性値を第2表に示す。
実施例3 第1表に示す重合条件で、エチレン−オクテン−1共重
合体を製造した。次いで、この共重合体を、ラジカル発
生剤として2.5−ジメチル−2,5ジ(t−〕゛チチ
ルパーオキシキシン501’l’l、混練押出温度を2
00℃にした以外は、全て実施例1の混練、押出条件等
と同様にして変性した。さらに、実施例1と同様に安定
剤を加え、安定剤入り変性共重合体を製造した。
実施例4 実施例3において、ラジカル発生剤の量を200卿にし
た以外は、全て実施例3と同様にして、安定刺入シ変性
共重合体組成物を製造した。
比較例8 実施例3において、ラジカル発生剤の量を1200μに
した以外は、全て実施例3と同様にして、安定剤入り変
性共重合体組成物を製造した。
比較例9 実施例うで製造した共重合体に、比較例2と同様にラジ
カル発生剤による変性はし寿いで、安定剤のみを添加し
、安定剤入り未変性共重合体組成物を製造した。なお、
該共重合体のオクテン−1の濃度は8.4重量%、二重
結合は0.09個/1000Cであった。
実施例5 比較例9で製造した安定剤入り未変性共重合体組成物を
実施例3と同様に変性した。ただし、ラジカル発生剤の
量は、実施例6による変性共重合体のMIと同じになる
ように調節した。その量は701191であった。
実施例6 比較例9で製造した安定剤入り未変性共重合体組成物を
実施例3と同様に変性した。ただし、ラジカル発生剤の
量は6509i11とした。
比較例10 比較例9で製造した安定剤入り未変性共重合体組成物を
実施例6と同様に変性した。ただし、ラジカル発生剤の
量はLloopIImとした。
比較例11 第1表に示す重合条件で、高密度のエチレン−オクテ/
−1共重合体を製造し、次いで比較例2と同様に安定剤
を加え、安定剤入り未変性共重合体組成物を製造した。
この共重合体のオクテン−1の濃度は2.3重量%、二
重結合の量は0.11個/ 1o o OCであった。
比較例12 比較例11で製造した共重合体を実施例6と同様に変性
した。ただし、変性後のMlが実施例3による変性共重
合体組成物のMIとほとんど同じになるようにラジカル
発生剤の量を調節した。その量は55 ppllであっ
た。次いで、実施例3と同様に安定剤を加えた。
比較例13 第1衣に示す重合条件で、実施例6による変性共重合体
組成物とほとんど同じMI、λ”R;密度を有するエチ
レン−オクテン−1共重合体を製造した。この共重合体
に実施例3と同様に安定剤を加えた。
上記実施例3,4,5.6および比較例8,9,10゜
11.12.13の特性値を第3表に示す。
実施例7 第1表に示す重合条件で、エチレン−ヘキセン−1共重
合体を製造した。この共重合体を実施例1で使用したラ
ジカル発生剤200 ppmで、他は実流側1と同様に
して変性し、次いで安定剤を加えた。
比較例14 実施例7による共重ば体を比較例2と同様に変性しない
で安定剤を加え、安定剤入り未変性共重合体組成物を製
造した。々お、この共重合体中のヘキセン−1の濃度は
14重量%、二重結合の量FiO,33個71000 
Cであった。
比較例15 第1表に示す重合条件で、高密度ポリエチレンを製造し
た。次いで、比較例2と同様に変性しないで安定剤を加
え、安定剤入り高密度ポリエチレン組成物を製造した。
なお、このポリエチレン中の二重結合の量は0.48個
/ 1000 Cであった。
比較例16 比較例15による高密度ポリエチレンを実施例1で使用
したラジカル発生剤200 ppmで、他は実施例1と
同様にして変性し、次いで安定剤を加え、安定刺入シ変
性ポリエチレン組成物を製造した。
比較例17 通常の高圧法による低密度ポリエチレン(旭ダウL 1
850 A )について特性を調べた。
比較例18 比較例17で使用した低密度ポリエチレンを実施例1と
同様にして変性した。ただし、変性後のMIが実施例7
による変性ポリエチレン組成物のMIとほとんど同じに
なるように、ラジカル発生剤の量を調節した。必要なそ
の量は450 ppmであった。
上記実施例7および比較例14,15,16,17゜1
8の特性値を第4表に示す。
第2表、第3表、第4表の各側の特性値から次のことが
言える。
a 実施例1,2と比較例2との比較、実施例5.4,
5.6と比較例9との比較、実施例7と比較例14との
比較から、本発明による変性共重合体組成物は、未変性
の共重合体に比較して、溶融張力、ダイ・スウェル、引
張衝撃強さ、ESCR。
艙度なと多くの特性が著しく改良されていることが判る
b 比較例1,8.10から、ラジカル発生剤の量が1
oooppaを越えて多量に使用しても、ダイ・スウェ
ルは100011111未満の場合より改良効果が小さ
く、また、フィルムの製膜性、フィッシュアイなどが悪
くなる等、成形加工性が未変性の共重合体に比較しかえ
って悪くなる。
clQ施例流側比較例7との比較、実施例3と比較例1
3との比較から、単に重合でつくったMl、MIR,密
度が同じ共重合体(比較例)は、本発明による変性共重
合体組成物(実施例)に比較して、溶融張力、ダイ・ス
ウェル、鎗度の特性が= 63− = 32− 劣る。
捷た、本発明のラジカル発生剤による改良効果ハ、線状
中低密度ポリエチレン(エチレン−αオレフィン共重合
体)の場合が、高密度ポリエチレンの場合(比較例3,
4,11,12,15.16)および高圧法による高分
岐度低密度ポリエチレンの場合(比較例5 、6 、 
’17 、18 )に比較してとくに顯著である。この
ことを判り易くするために、第2.3.4表から関連デ
ータを抜粋し第5表に1とめた。
−34− 以上説明したとおり、本発明による変性された線状甲低
密度ポリエチレン組成物は、従来の線状中低密度ポリエ
チレンに比較し、優れた溶融張力、ダイ・スウェル、透
明性などを有し、多汎な用途、商品に好適である。
−36− 43− −35−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、線状中低密度ポリエチレンにラジカル発生剤を0.
    0005重量%以上0.1重量%未満混合した混合物を
    、該線状中低密度ポリエチレンの融点以上熱分解温度未
    満の温度で均一に溶融混練することにより変性された線
    状中低密度ポリエチレン組成物であって、 (1)線状中低密度ポIJ エチレンの密度が0.90
     f/c1以上0.94 t/Crd未満であり、(1
    1)変性前の該線状中低密度ポリエチレンのメルト・イ
    ンデックスを(Ml)1、変性されて得られた線状中低
    密度ポリエチレン組成物のメルト・インデックスを(M
    l)tとしたとき、(MI)!/(MI)1の値が0.
    05以上0.9以下の範囲にあるように変性して成る変
    性線状中低密度ポリエチレン組成物。 2、  (Mi)、/(Ml)、の値が0.5を越え0
    .9以下の範囲に入るように変性して成る、とくにフィ
    ルムに適した特許請求の範囲第1項記載の組成物。 3、  (MI)、が32/10i以下であって、(M
    I)t/(MI)Iの値が0.05以上0.7以下の範
    囲に入るように変性して成る、とくに押出、中空成形に
    適した特許請求の範囲第1項記載の組成物。 4、線状中低密度ポリエチレンの密度が0.9 ’1 
    p 7crtt以上0,935 f/C−d以下である
    特許請求の範囲第1項ないし第6項記載の組成物。 5、ラジカル発生剤が、ジ−t−ブチルパーオキサイド
    、ジ−クミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,
    5ジ(1−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2.5−ジメ
    チル−2,5ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン、1
    .3−ビス(1−プチルパーオキシイソグロビル)ベン
    ゼンである特許請求の範囲第1項ないし第4項記載の組
    成物。
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