JPS5873848A - 高周波誘導結合プラズマ安定装置 - Google Patents
高周波誘導結合プラズマ安定装置Info
- Publication number
- JPS5873848A JPS5873848A JP17250081A JP17250081A JPS5873848A JP S5873848 A JPS5873848 A JP S5873848A JP 17250081 A JP17250081 A JP 17250081A JP 17250081 A JP17250081 A JP 17250081A JP S5873848 A JPS5873848 A JP S5873848A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- load
- power
- output
- high frequency
- circuit
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- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/71—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited
- G01N21/73—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited using plasma burners or torches
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- Pathology (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高周波誘導結合プラズマ発光分光分析装置のプ
ラズマ光源安定化装置に関するものである0 従来上述した発光分光分析装置では通過形電力形を用い
て負荷への高周波入射波′紙力を検出しこの電力が一定
になるような負帰還制御によって光源の安定を計ってい
たつしかし負荷のインピーダンスはプラズマへの供給ガ
ス流蓋によって変化し、試料を導入しても変化するので
高周波電源の周波数を一定に保っていても、電源と負荷
との整合状態がずれ反射波が生ずるので、入射波電力を
一定に保つように制御していても負荷に吸収される電力
が一定になる保証はない。またプラズマの特性として消
費電力が減少した場合、プラズマは誘導性となる特性が
あるだめ、成る状態で電源と負荷とのインピーダンスが
整合していると、その状態からプラズマ炎が誘導性とな
るよう変化した場合、反射波がでて消費電力が減るとプ
ラズマはますます誘導性となって整合のずれはひどくな
り、ついにはプラズ毎を維持する電力がつぎこめなくな
り消えてしまう。従って入射波電力を一定に保つ制御だ
けではプラズマ炎の安定は困難で別途電源と負荷との整
合を正確に維持する制御が必要であった。
ラズマ光源安定化装置に関するものである0 従来上述した発光分光分析装置では通過形電力形を用い
て負荷への高周波入射波′紙力を検出しこの電力が一定
になるような負帰還制御によって光源の安定を計ってい
たつしかし負荷のインピーダンスはプラズマへの供給ガ
ス流蓋によって変化し、試料を導入しても変化するので
高周波電源の周波数を一定に保っていても、電源と負荷
との整合状態がずれ反射波が生ずるので、入射波電力を
一定に保つように制御していても負荷に吸収される電力
が一定になる保証はない。またプラズマの特性として消
費電力が減少した場合、プラズマは誘導性となる特性が
あるだめ、成る状態で電源と負荷とのインピーダンスが
整合していると、その状態からプラズマ炎が誘導性とな
るよう変化した場合、反射波がでて消費電力が減るとプ
ラズマはますます誘導性となって整合のずれはひどくな
り、ついにはプラズ毎を維持する電力がつぎこめなくな
り消えてしまう。従って入射波電力を一定に保つ制御だ
けではプラズマ炎の安定は困難で別途電源と負荷との整
合を正確に維持する制御が必要であった。
本発明は上述したような現状に鑑み、より簡単なシステ
ムで高周波誘導結合プラズマ光源の安定化を可能にしよ
うとしてなされた。この目的に従って本発明は負荷への
入射波電力Pfと負荷からの反射波電力Prを検出し、
負荷の吸収電力Pp−P i’ −P rが一定になる
ようにした制御装置を提供する。以下実施例によって本
発明を説明する。
ムで高周波誘導結合プラズマ光源の安定化を可能にしよ
うとしてなされた。この目的に従って本発明は負荷への
入射波電力Pfと負荷からの反射波電力Prを検出し、
負荷の吸収電力Pp−P i’ −P rが一定になる
ようにした制御装置を提供する。以下実施例によって本
発明を説明する。
1図は本発明の一実施装置を示す。1は高周波電源回路
、2は負荷で3は通過形電力計である。
、2は負荷で3は通過形電力計である。
高周波電源lから出力される高周波は通過形電力計3を
通過して負荷2に供給される。通過形電力計3は2コの
出力端子を有し、一方に入射波電力Pfの検出値が出力
され、もう一つの出力端子には負荷2からの反射波電力
Prの検出値が出力されている。4は引算回路で通過形
電力計3の2つの出力信号に対してPf−Prに対応す
る引算演算を行う。この引算回路4の出力は増幅器5を
経て比較回路6に印加され基準信号と比較され、比較回
路°0出力によりて高−波電源回路”0出力制御がなさ
れ、切載回路6の出力が0になるように制御される。
通過して負荷2に供給される。通過形電力計3は2コの
出力端子を有し、一方に入射波電力Pfの検出値が出力
され、もう一つの出力端子には負荷2からの反射波電力
Prの検出値が出力されている。4は引算回路で通過形
電力計3の2つの出力信号に対してPf−Prに対応す
る引算演算を行う。この引算回路4の出力は増幅器5を
経て比較回路6に印加され基準信号と比較され、比較回
路°0出力によりて高−波電源回路”0出力制御がなさ
れ、切載回路6の出力が0になるように制御される。
本発明装置は上述した±し・うな構成で、負荷のインピ
ーダンへ変動に関係i14′R常に負荷が消費する電力
が一定になるように動作するので、長時間使用時に負荷
の整合状態がドリフトしても、その影響を受けないで分
析ができ分析の長時間安定性が向上し、負荷の状態を変
化させた場合、例えばプラズマのガス流星を変えたり或
は試料溶媒の種類を変えた場合等でも従来のように負荷
と電源との整合をとり直す必要がなく、プラズマ炎の安
定性が従来に比し向上しているので、プラズマを安定に
点灯できる同調範囲が広くなり、同調をとるのが容易に
なり、しかもプラズマを安定化する他の制御装置が不要
である。
ーダンへ変動に関係i14′R常に負荷が消費する電力
が一定になるように動作するので、長時間使用時に負荷
の整合状態がドリフトしても、その影響を受けないで分
析ができ分析の長時間安定性が向上し、負荷の状態を変
化させた場合、例えばプラズマのガス流星を変えたり或
は試料溶媒の種類を変えた場合等でも従来のように負荷
と電源との整合をとり直す必要がなく、プラズマ炎の安
定性が従来に比し向上しているので、プラズマを安定に
点灯できる同調範囲が広くなり、同調をとるのが容易に
なり、しかもプラズマを安定化する他の制御装置が不要
である。
なお本発明装置は積極的に負荷を整合状態に戻すように
作用するものではないから、負荷の整合状態が大きくず
れた場合、高周波電源回路は非常に大きな出力を行うよ
うに強制されることになるので、高周波電源回路に無理
な負担がか\らないように、図の通過形電力計3の反射
波電力検出出力をモニタして反射波′心力が成るレベル
に達するまでは上述した制−動作を行い、このレベル以
上□・jl’、’。
作用するものではないから、負荷の整合状態が大きくず
れた場合、高周波電源回路は非常に大きな出力を行うよ
うに強制されることになるので、高周波電源回路に無理
な負担がか\らないように、図の通過形電力計3の反射
波電力検出出力をモニタして反射波′心力が成るレベル
に達するまでは上述した制−動作を行い、このレベル以
上□・jl’、’。
に反射波電力が増大しても、高周波出力を増大させない
ようクランプするようにしておいてもよい。
ようクランプするようにしておいてもよい。
図面は本発明の一実施例装置の構成を示すブロック図で
ある。 1・・・高周波電源回路、2・・・負荷、3・・・通過
形電力計、4・・・引算回路、6・・・比較回路。 代理人 弁理士 鮭 浩 介
ある。 1・・・高周波電源回路、2・・・負荷、3・・・通過
形電力計、4・・・引算回路、6・・・比較回路。 代理人 弁理士 鮭 浩 介
Claims (1)
- 通過形電力計を用い、負荷への入射波電力と負荷からの
反射波電力を検出し、入射波電力から反射波電力を引い
た差が一定になるように高周波供給電力を制御するよう
に、した高周波誘導結合プラズマ安定装置。 、
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17250081A JPS5873848A (ja) | 1981-10-27 | 1981-10-27 | 高周波誘導結合プラズマ安定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17250081A JPS5873848A (ja) | 1981-10-27 | 1981-10-27 | 高周波誘導結合プラズマ安定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5873848A true JPS5873848A (ja) | 1983-05-04 |
| JPS6148101B2 JPS6148101B2 (ja) | 1986-10-22 |
Family
ID=15943120
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17250081A Granted JPS5873848A (ja) | 1981-10-27 | 1981-10-27 | 高周波誘導結合プラズマ安定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5873848A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60207075A (ja) * | 1984-03-31 | 1985-10-18 | Shimadzu Corp | Icp分析装置用高周波電力表示装置 |
| JPS6116314A (ja) * | 1984-07-02 | 1986-01-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 高周波電源装置 |
| FR2616932A1 (fr) * | 1987-06-16 | 1988-12-23 | Applied Res Lab | Procede de regulation du plasma dans un appareil d'analyse spectroscopique |
| EP0602764A1 (en) * | 1992-12-17 | 1994-06-22 | FISONS plc | Inductively coupled plasma spectrometers and radio - frequency power supply therefor |
| EP0614210A1 (en) * | 1993-03-05 | 1994-09-07 | Varian Australia Pty. Ltd. | Plasma mass spectrometry |
| EP0715334A3 (en) * | 1994-11-30 | 1996-06-12 | Applied Materials, Inc. | Plasma reactors for processing semiconductor wafers |
| JP2005172473A (ja) * | 2003-12-08 | 2005-06-30 | Horiba Ltd | グロー放電用給電方法、グロー放電発光分析装置及び給電装置 |
| JP2007205897A (ja) * | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Shimadzu Corp | Icp用高周波電源装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4763247B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2011-08-31 | 株式会社ダイヘン | 高周波電源の出力電力制御方法および高周波電源装置 |
-
1981
- 1981-10-27 JP JP17250081A patent/JPS5873848A/ja active Granted
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60207075A (ja) * | 1984-03-31 | 1985-10-18 | Shimadzu Corp | Icp分析装置用高周波電力表示装置 |
| JPS6116314A (ja) * | 1984-07-02 | 1986-01-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 高周波電源装置 |
| FR2616932A1 (fr) * | 1987-06-16 | 1988-12-23 | Applied Res Lab | Procede de regulation du plasma dans un appareil d'analyse spectroscopique |
| EP0602764A1 (en) * | 1992-12-17 | 1994-06-22 | FISONS plc | Inductively coupled plasma spectrometers and radio - frequency power supply therefor |
| EP0614210A1 (en) * | 1993-03-05 | 1994-09-07 | Varian Australia Pty. Ltd. | Plasma mass spectrometry |
| US5519215A (en) * | 1993-03-05 | 1996-05-21 | Anderson; Stephen E. | Plasma mass spectrometry |
| EP0734049A3 (en) * | 1993-03-05 | 1996-12-27 | Varian Australia | Plasma mass spectrometry method and device |
| EP0715334A3 (en) * | 1994-11-30 | 1996-06-12 | Applied Materials, Inc. | Plasma reactors for processing semiconductor wafers |
| US5643364A (en) * | 1994-11-30 | 1997-07-01 | Applied Materials, Inc. | Plasma chamber with fixed RF matching |
| JP2005172473A (ja) * | 2003-12-08 | 2005-06-30 | Horiba Ltd | グロー放電用給電方法、グロー放電発光分析装置及び給電装置 |
| JP2007205897A (ja) * | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Shimadzu Corp | Icp用高周波電源装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6148101B2 (ja) | 1986-10-22 |
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