JPS587624B2 - 2↓−メチルピリジン及び3↓−メチルピリジンの製造法 - Google Patents
2↓−メチルピリジン及び3↓−メチルピリジンの製造法Info
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- JPS587624B2 JPS587624B2 JP53007812A JP781278A JPS587624B2 JP S587624 B2 JPS587624 B2 JP S587624B2 JP 53007812 A JP53007812 A JP 53007812A JP 781278 A JP781278 A JP 781278A JP S587624 B2 JPS587624 B2 JP S587624B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/06—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom containing only hydrogen and carbon atoms in addition to the ring nitrogen atom
- C07D213/08—Preparation by ring-closure
- C07D213/09—Preparation by ring-closure involving the use of ammonia, amines, amine salts, or nitriles
- C07D213/12—Preparation by ring-closure involving the use of ammonia, amines, amine salts, or nitriles from unsaturated compounds
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、アク口レイン及びアセトンとアンモニアとの
ガス相中での接触反応によって2−メチルピリジン及び
3−メチルピリジンを製造する方法に関する。
ガス相中での接触反応によって2−メチルピリジン及び
3−メチルピリジンを製造する方法に関する。
周知のように、2−メチルピリジン及び3−メチルピリ
ジンは、アク口レイン及びアセトンをアンモニアとガス
相中で触媒の存在下で反応させることによって生じる。
ジンは、アク口レイン及びアセトンをアンモニアとガス
相中で触媒の存在下で反応させることによって生じる。
触媒としては、酸化アルミニウム、酸化珪素もしくは酸
化アルミニウム5〜50%を混合した酸化珪素を、場合
によっては他の元素の酸化物を添加して使用する(英国
特許明細書第920526号)。
化アルミニウム5〜50%を混合した酸化珪素を、場合
によっては他の元素の酸化物を添加して使用する(英国
特許明細書第920526号)。
該方法の場合、2−メチルピリジン及び3−メチルピリ
ジンの収率は合計で僅か38%である。
ジンの収率は合計で僅か38%である。
ところで、2−メチルピリジン及び3−メチルピリジン
をアク口レイン及びアセトンとアンモニアとのガス相中
での接触反応によって製造する方法において、触媒とし
て、酸化アルミニウム3〜30重量係を含有し、BET
表面積200〜800m2/g、孔隙率0.4〜1.o
cm3/g及び孔直径20〜100・10−8Cmを有
する高分散珪酸アルミニウムを使用することを特徴とす
る方法を見い出した。
をアク口レイン及びアセトンとアンモニアとのガス相中
での接触反応によって製造する方法において、触媒とし
て、酸化アルミニウム3〜30重量係を含有し、BET
表面積200〜800m2/g、孔隙率0.4〜1.o
cm3/g及び孔直径20〜100・10−8Cmを有
する高分散珪酸アルミニウムを使用することを特徴とす
る方法を見い出した。
該方法においては、公知方法の場合よりも著しく高い収
率が得られる。
率が得られる。
空時収量も著しく満足なものである。
本発明によって使用すべき珪酸アルミニウムは、特に酸
化アルミニウム含量5〜20重量係、殊に10〜15重
量係を有する。
化アルミニウム含量5〜20重量係、殊に10〜15重
量係を有する。
該珪酸アルミニウムは、特にBET表面積300〜60
0m2/g、孔隙率0.6〜0.8cm3/g及び孔直
径40〜80・10―8cmを有する。
0m2/g、孔隙率0.6〜0.8cm3/g及び孔直
径40〜80・10―8cmを有する。
珪酸アルミニウムは、公知方法で、例えば珪酸ナ卜リウ
ム水溶液を硫酸で処理し、生じた珪酸ゲルに硫酸アルミ
ニウム及びアンモニアを混和し、形成した珪酸アルミニ
ウムから異種イオンを除去し、乾燥し、熱処理すること
によって製造することができる(Paul H.Emm
ett,Catalysis 第■巻,Reinhol
d出版社.殊に第5頁〜第9頁)。
ム水溶液を硫酸で処理し、生じた珪酸ゲルに硫酸アルミ
ニウム及びアンモニアを混和し、形成した珪酸アルミニ
ウムから異種イオンを除去し、乾燥し、熱処理すること
によって製造することができる(Paul H.Emm
ett,Catalysis 第■巻,Reinhol
d出版社.殊に第5頁〜第9頁)。
本発明方法を実施するには、アク口レイン、アセトン及
びアンモニアを常法でガス状で使用する,量比は、十分
任意に選択することができる。
びアンモニアを常法でガス状で使用する,量比は、十分
任意に選択することができる。
しかし、一般に、アク口レイン1モルあたり約0.1〜
2.5モル、特に0.2〜2.0モル、殊に0.5〜1
.5モルのアセトンを使用するのが有利である。
2.5モル、特に0.2〜2.0モル、殊に0.5〜1
.5モルのアセトンを使用するのが有利である。
更に、オキソ化合物(アク口レイン及びアセトン)1モ
ルあたり少なくとも約1モルのアンモニアを使用するの
が一般に有利である。
ルあたり少なくとも約1モルのアンモニアを使用するの
が一般に有利である。
有利には、オキソ化合物1モルあたり約1.0〜3.0
モル、殊に1.3〜2.5モルのアンモニアを使用する
。
モル、殊に1.3〜2.5モルのアンモニアを使用する
。
有利には、付加的に不活性ガス、殊に窒素を供給し、し
かもオキソ化合物1モルあたり0.5〜3.0モル、殊
に1.0〜2.5モルの不活性ガスを使用するのが有利
である。
かもオキソ化合物1モルあたり0.5〜3.0モル、殊
に1.0〜2.5モルの不活性ガスを使用するのが有利
である。
2−メチルピリジン又は3−メチルピリジン
の形成が有利であるか否かは、場合によってある程度ア
セトンとアク口レインとの量比に依存する。
の形成が有利であるか否かは、場合によってある程度ア
セトンとアク口レインとの量比に依存する。
該量比が大きければ大きいほど、一般に2−メチルピリ
ジンの含量は大きくなる。
ジンの含量は大きくなる。
触媒は固体床中で一般に粒径0.2〜3.0mm、殊に
0.5〜2.0mmで使用されるか、又は特に流動床中
で一般に粒径0.1 〜3.0mm、殊に0.2〜2.
0mmで使用される。
0.5〜2.0mmで使用されるか、又は特に流動床中
で一般に粒径0.1 〜3.0mm、殊に0.2〜2.
0mmで使用される。
オキソ化合物は、アンモニアとは別個に反応室に供給す
るのが有利である。
るのが有利である。
殊にこのために、西ドイツ国特許公開公報輌24493
40号による操作方法が選択されるが、アク口レインの
代りにそのつどアク口レインとアセトンとの混合物を使
用することが異なる。
40号による操作方法が選択されるが、アク口レインの
代りにそのつどアク口レインとアセトンとの混合物を使
用することが異なる。
反応は、温度約300〜500℃、殊に380〜480
℃で実施される。
℃で実施される。
圧力は十分任意に選択することができるが、簡単な装置
を使用できるようにするため、常圧もしくは約3バール
までの僅かに低められたか又は高められた圧力において
作業するのが望ましい。
を使用できるようにするため、常圧もしくは約3バール
までの僅かに低められたか又は高められた圧力において
作業するのが望ましい。
僅かな低圧又は過圧は場合によっては、ガスを装置に吸
引するか又は圧入することによって得られる。
引するか又は圧入することによって得られる。
触媒の製造例:
使用される触媒を製造するためには、次のようにして実
施する:水114中に強力な攪拌下で1時間で8102
25.9%及びNaOH 10.3%を含有する水ガ
ラス1.42K9、ならびに濃硫酸187gを導入する
。
施する:水114中に強力な攪拌下で1時間で8102
25.9%及びNaOH 10.3%を含有する水ガ
ラス1.42K9、ならびに濃硫酸187gを導入する
。
この場合には、混合物のpH価が絶えず5.5でありか
つ混合物の温度が35℃であるように実施される。
つ混合物の温度が35℃であるように実施される。
その後に、水4t中の硫酸アルミニウム(A72(S0
4)s・18H20)360Sの溶液を1時間で添加す
る。
4)s・18H20)360Sの溶液を1時間で添加す
る。
この混合物をさらに1時間攪拌する。
その次に、25係のアンモニア水溶液220gを滴加す
る。
る。
この場合、この混合物のpH価は、5.4に調節される
。
。
その後に、この混合物をなお3時間攪拌する。
次に、この混合物を濾過する。
この濾滓を水で洗浄し、110℃で乾燥する。
この乾燥物質を圧縮して直径5mmのタブレットに変え
る。
る。
このタブレットを400℃で2時間蝦焼し、次いで粉砕
する。
する。
0.4〜1.0mmの粒子画分を篩別し、触=として使
用する。
用する。
この触媒は、At203 13%及びSIO287%を
含有する。
含有する。
更に、この触媒は、BET表面積500m2/g、孔隙
率o.t5cm3/g及び孔直径60−10−8cmを
有する。
率o.t5cm3/g及び孔直径60−10−8cmを
有する。
例1
流動層反応器を使用した。
該反応器は、口径70mmで、下部に高さ200mmの
空隙を有し、その上方に50mm宛の間隔で目孔5mm
の金網40個が設けられており、上部に高さ600mm
及び口径160mmまでの空隙を有する管からなる。
空隙を有し、その上方に50mm宛の間隔で目孔5mm
の金網40個が設けられており、上部に高さ600mm
及び口径160mmまでの空隙を有する管からなる。
該反応器中に、ガス状で均一な流れで下方から毎時窒素
1500Ntとアンモニア2150N7とのガス混合物
を導入し、側方から流動層中へ、しかも反応器の底の上
方130mmのところで毎時アク口レイン1350″,
アセトン1395g及び窒素210Nlからなるガス混
合物を導入した。
1500Ntとアンモニア2150N7とのガス混合物
を導入し、側方から流動層中へ、しかも反応器の底の上
方130mmのところで毎時アク口レイン1350″,
アセトン1395g及び窒素210Nlからなるガス混
合物を導入した。
該反応器は、触媒2.0K9を含有していた。
触媒はAt203含量13係を有する珪酸アルミニウム
からなり、BET表面積500m2/g,孔隙率0.7
5m/g,孔直径60・10−8ぼ及び粒径0.4〜1
.0mmを有していた。
からなり、BET表面積500m2/g,孔隙率0.7
5m/g,孔直径60・10−8ぼ及び粒径0.4〜1
.0mmを有していた。
反応器中の温度を440℃に保持した。
該反応器から流出した反応混合物は、アクロレインを含
んでいなかった。
んでいなかった。
該混合物を温度250℃でガス洗浄器中に導入し、該洗
浄器中で形成したピリジン化合物及び未反応アセトンを
水によって洗浄除去した。
浄器中で形成したピリジン化合物及び未反応アセトンを
水によって洗浄除去した。
アンモニア及び窒素からなる残留する残ガスを、毎時ア
ンモニア750Ntを添加した後に循環系で反応器に戻
した。
ンモニア750Ntを添加した後に循環系で反応器に戻
した。
アク口レインの変換率は100%であり、アセトンの変
換率は73チであった。
換率は73チであった。
毎時2−メチルピリジン550g及び3−メチルピリジ
ン314gが得られ、これは使用したアク口レインに対
する収率25係及び28優に相当する。
ン314gが得られ、これは使用したアク口レインに対
する収率25係及び28優に相当する。
それとともに、ピリジン75&及び2,6−ジメチルピ
リジン55gが生じた。
リジン55gが生じた。
毎時アセトン378Iが回収された。
触媒IK9あたり毎時2−メチルピリジン及び3−メチ
ルピリジンの収量は432gであった。
ルピリジンの収量は432gであった。
例2
例1と同様に実施したが、毎時アク口レイン168(l
及びアセトン1045gを供給した。
及びアセトン1045gを供給した。
アク口レインの変換率は100チであり、アセトンの変
換率は75係であった。
換率は75係であった。
2−メチルピリジンの収量は512g(使用したアク口
レインに対して)、3−メチルピリジンの収量は451
g(使用したアク口レインに対して32%に相当)であ
った。
レインに対して)、3−メチルピリジンの収量は451
g(使用したアク口レインに対して32%に相当)であ
った。
それとともに、ピリジン127g及び2,6−ジメチル
ピリジン399が生じた。
ピリジン399が生じた。
触媒IK9あたり毎時、2−メチルピリジン及び3−メ
チルピリジンの収量は481gであった。
チルピリジンの収量は481gであった。
例3
例1と同様に実施したが、毎時アク口レイン1010g
及びアセトン1740gを供給し、反応を420℃で実
施した。
及びアセトン1740gを供給し、反応を420℃で実
施した。
アク口レインは100係反応し、アセトンは78%反応
した。
した。
2−メチルピリジンの収量は470g(使用したアク口
レインに対して28チに相当)であり、3−メチルピリ
ジンの収量は168g(使用したアク口レインに対して
20優に相当)であった。
レインに対して28チに相当)であり、3−メチルピリ
ジンの収量は168g(使用したアク口レインに対して
20優に相当)であった。
それ六ともに、ピリジン50I及び2,6−ジメチルピ
リジン30gが生じた。
リジン30gが生じた。
触媒IKgあたり毎時、2−メチルピリジン及び3−メ
チルピリジンの収量は319gであった。
チルピリジンの収量は319gであった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 アク口レイン及びアセトンとアンモニアとのガス相
中での接触反応によって2−メチルピリジン及び3−メ
チルピリジンを製造する方法において、触媒として、酸
化アルミニウム3〜30重量係を含有し、BET表面積
200〜800m2/g,孔隙率0.4〜1.ocm3
/g及び孔直径20〜10010−8cmを有する高分
散珪酸アルミニウムを使用することを特徴とする、2−
メチルピリジン及び3−メチルピリジンの製造法。 2 触媒を流動床中で使用し、アク口レイン及びアセト
ンをアンモニアとは別個に、流動床中に供給する、特許
請求の範囲第1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19772703069 DE2703069A1 (de) | 1977-01-26 | 1977-01-26 | Verfahren zur herstellung von 2-methylpyridin und 3-methylpyridin |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5392781A JPS5392781A (en) | 1978-08-15 |
| JPS587624B2 true JPS587624B2 (ja) | 1983-02-10 |
Family
ID=5999550
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53007812A Expired JPS587624B2 (ja) | 1977-01-26 | 1978-01-26 | 2↓−メチルピリジン及び3↓−メチルピリジンの製造法 |
Country Status (16)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4149002A (ja) |
| JP (1) | JPS587624B2 (ja) |
| BE (1) | BE863318A (ja) |
| BR (1) | BR7800415A (ja) |
| CA (1) | CA1063121A (ja) |
| CH (1) | CH633268A5 (ja) |
| DE (1) | DE2703069A1 (ja) |
| ES (1) | ES464218A1 (ja) |
| FR (1) | FR2378765A1 (ja) |
| GB (1) | GB1556990A (ja) |
| IL (1) | IL53818A (ja) |
| IN (1) | IN147406B (ja) |
| IT (1) | IT1155788B (ja) |
| NL (1) | NL7800207A (ja) |
| SE (1) | SE425781B (ja) |
| SU (1) | SU671725A3 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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