JPS5882561A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Publication number
JPS5882561A
JPS5882561A JP56180889A JP18088981A JPS5882561A JP S5882561 A JPS5882561 A JP S5882561A JP 56180889 A JP56180889 A JP 56180889A JP 18088981 A JP18088981 A JP 18088981A JP S5882561 A JPS5882561 A JP S5882561A
Authority
JP
Japan
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region
diode
transistor
type
conductivity type
Prior art date
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Pending
Application number
JP56180889A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideo Kawasaki
川崎 英夫
Susumu Sugumoto
直本 進
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electronics Corp, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electronics Corp
Priority to JP56180889A priority Critical patent/JPS5882561A/ja
Publication of JPS5882561A publication Critical patent/JPS5882561A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D84/00Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
    • H10D84/60Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers characterised by the integration of at least one component covered by groups H10D10/00 or H10D18/00, e.g. integration of BJTs
    • H10D84/641Combinations of only vertical BJTs
    • H10D84/642Combinations of non-inverted vertical BJTs of the same conductivity type having different characteristics, e.g. Darlington transistors

Landscapes

  • Bipolar Transistors (AREA)
  • Bipolar Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、いわゆるダーリントン接続回路素子において
、前段トランジスタのエミッタ・べ′−ス間にダイオー
ドを挿入した回路を単一半導体上に形成する半導体装置
に関するものである。
2個のトランジスタからなるダーリントン接続回路素子
は、一般に第1図に示す様に、トランジスタTr1のコ
レクタとトランジスタTr2のコレクタが、またTrl
のエミッタとTr2のベースがそれぞれ共通接続され、
またTr、のペースとTr2のペースとの間に抵抗R1
が接続され、Tr2のベース・エミッタ間に抵抗R2が
接続され、さらにTr2のエミッタ・コレクタ間にダイ
オードD1が接続された回路構成となるように形成され
、ベース電極B、エミッタ電極X、コレクタ電極Cの各
電極が外部リード端子としてとり出されるように単一半
導体基板へ一体的に作り込まれた構成となっている。
この様なダーリントン接続回路素子は、従来は、第2図
に示す様に、トランジスタTr1およびTr2は共通コ
レクタ領域1を基体として、その上にベース領域2が形
成され、とのペース領領域4がそれぞれ形成さ−れるの
が一般である。
抵抗R1に相当する領域6と抵抗R2に相当する領域6
はエミッタ領域3および4下のベース領域に存在し、ダ
イオードD1はPlf接合部7に存在することになる。
ベース電極Bに相当する電極部8.Tr、のエミッタと
Tr2のベースとを接続する内部電極部9およびエミッ
タ電極Fに相当する電極部1oがそれぞれ形成され、コ
レクタ電極Cはウエノ・−裏面に電極部11として形成
されている。12は絶縁膜である。
この様にして形成されたダーリントン接続回路素子は、
スイッチング動作でONからOFFへの切り替え時にベ
ース・エミッタ間が逆バイアスされるとTrlがOFF
状態になり、Tr、・のベース・エミッタ間には電流が
流れないため、Tr2のベース領域に蓄積されたキャリ
アの放出は、抵抗R1を通じてベース電極へ徐々に流出
するだけであり、抵抗R1が大きいときにはキャリアの
放出速度は小であり蓄積されたキャリアはスイッチング
速度が低下するという欠点がある。
上記欠点を改善するために、第3図で示す様にダイオー
ドD2をTr、のエミッタ・ベース間に挿入する方法が
知られている。しかしこのダイオードD2は他の回路要
素のように単一半導体基板内へ一体的に作り込むことは
、寄生トランジスタが形成されるという不都合をともな
うので実現されておらず、この機能をもたせるために、
従来は外部接続によって回路構成する必要があり、量産
性、信頼性の面で必ずしも十分とはいえない。
本発明は、上記の問題点を除き、スイッチングの高速化
および高信頼性を有する多段結合形トランジスタ回路素
子を与えるもので、少なくとも2段のトランジスタ回路
構成において第1段トランジスタのエミッタ・ベース間
に寄生トランジスタを除去した、ダイオードを単一半導
体基板内に設けた半導体装置を提供するものである。
第4図、第6図は本発明の一実施例を示すもので、第4
図は、左右に第1.第2段のトランジスタを形成した半
導体装置の断面図、第6図aおよびbは第1段トランジ
スタのベース領域中に形成された13,14領域から成
るダイオード部分を示す要部平面図およびX−1で載っ
た断面図である。
第4図において、1はトランジスタTr、およびTr2
の共通コレクタ領域となるN型シリコン基体、2はトラ
ンジスタTr1およびTr2の共通ベース領域となるP
型拡散領域、3はトランジスタTr、のエミッタ領域と
なるN型拡散領域、7はダイオードD1を形成するPI
接合部分、13はトランジスタTr1のベース領域中へ
作シ込まれ、ダイオード11112のカソード領域とな
るに型拡散領域、14はN型拡散領域13の中へ作り込
まれ、ダイ−オードD2のアノード領域となるP型6/
−5 拡散領域、16はトランジスタTr、のベースとダイオ
ードD2のカソードとを相互接続するための内部配線を
兼ねるベース電極、そして16はトランジスタTr、の
エミッタとダイオードD2のアノードとTr2のベース
間を相互接続するための内部配線である。
なお、10はエミッタ電極、11はコレクタ電極、12
は二酸化シリコン(SiOθ等の絶縁膜である。
第6図は、第4図で示した第1段トランジスタ内へ作り
込まれているダイオードD2の構造をより詳細に現わす
ため、ダイオードD2の作り込み部分を拡大して示した
平面図ならびに断面図である。
第6図aの平面図から明らか表ように、第3図中のダイ
オードD2に対応する部分は配線16によってアノード
領域14の径大部がトランジスタTrIQエミッタ領域
3とトランジスタTr2のベース領域にオーミック接続
される。またアノード領域14はその一端部に設けられ
た狭隘部の先端で抵抗17を経てカソード領域13およ
びトランジスタTr、のペースにそれぞれ配線15によ
りオーミック接続されている。
かかる構造のダイオードD2が作シ込まれる事によって
、アノード領域14とカソード領域13とによ多形成さ
五るPN接合はアノード値域14の狭隘部つまり回路要
素的にみて比較的大きな抵抗をもつ領域17を介してペ
ース電極16と短絡する構造となり従来の様に、アノー
ド領域14.カソード領域13.およびペース領域2の
3領域で構成される寄生PNP型トランジスタ機能がほ
とんど除去される。従って多段結合形トランジスタ構成
によれば、スイッチング動作時に、アノード領域14と
カソード領域13から成るPH接合は、ダイオードと抵
抗の並列回路として動作し、ダイオード特性を充分に生
かせる事になる。
以上説明したところから明らかの様に、本発明によれば
、従来のダーリントン接続回路素子の製造工程にダイオ
ードD2となる、上述のよう成するための工程を追加す
るだけで、外部接続によってダイオ−“ドを付加した回
路と同等のスイッチング速度をもちしかも信頼性の面で
非常に優れた半導体装置を得る事ができる。
また以上の説明では、NPN型ダーリントン接続回路を
例示したが、本発明はPNP型にも同様の構成原理が適
用しうろこと゛は勿論である。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のダーリントン接続回路の等価回路図、第
2図は従来のダーリントン接続回路装置の断面図、第3
図はスイッチング速度を早めるためにダイオードを挿入
したダーリントン接続回路の等価回路図、第4図は本発
明の一実施例にかかるダーリントン接続回路装置の断面
図、第6図aおよびbはそれぞれ本発明のダイオード部
の平面図および断・面図である。 1・・・・・・コレクタ領域となる半導体基体、2・・
・・・・P型ベース領域、3,4・・・・・・N型エミ
ッタ領域、6,6・・・・・・抵抗領域、7・・・・・
・ダイオードD1電極、9,16・・・・・・内部配線
、1o・・・・・・エミッタ電極、11・・・・・・コ
レクタ電極、12・・・・・・絶縁膜、13・・・・・
・ダイオードD2のカソード領域、14・・・・・・ダ
イオードD2のアノード領域。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名=2
81

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 一導電型半導体基板に設けた反対導電型の共通ベース領
    域中に前記−導電型の複数のエミッタ領域を設けてなる
    多段トランジスタ構成の半導体装置において、第1段ト
    ランジスタのベース領域中に前記エミッタとは独立の前
    記−導電型の領域を形成し上記独立の一導電型領域内に
    反対導電型の領域を径大部と狭隘部とをもたせて形成し
    、前記反対導電型領域の径大部と第1段トランジスタの
    エミッタおよび第2段トランジスタのベース領域とを共
    通オーミック接続するとともに、前記反対導電型領域を
    その狭隘部先端において前記独立の一導電型領域と第1
    トランジスタのベース領域とに共通オーミック接続した
    構造を特徴とする半導体装置。
JP56180889A 1981-11-10 1981-11-10 半導体装置 Pending JPS5882561A (ja)

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JP56180889A JPS5882561A (ja) 1981-11-10 1981-11-10 半導体装置

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JP56180889A JPS5882561A (ja) 1981-11-10 1981-11-10 半導体装置

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JPS5882561A true JPS5882561A (ja) 1983-05-18

Family

ID=16091098

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JP56180889A Pending JPS5882561A (ja) 1981-11-10 1981-11-10 半導体装置

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