JPS5883849A - 金属系画像形成方法 - Google Patents
金属系画像形成方法Info
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- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 51
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 51
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 22
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 21
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 9
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000000975 dye Substances 0.000 claims description 7
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 abstract description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 abstract 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 abstract 1
- -1 borides Chemical class 0.000 description 14
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 230000033458 reproduction Effects 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 3
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 2
- IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N azide group Chemical group [N-]=[N+]=[N-] IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L barium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ba+2] RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001863 barium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 2
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- JQXYBDVZAUEPDL-UHFFFAOYSA-N 2-methylidene-5-phenylpent-4-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(=C)CC=CC1=CC=CC=C1 JQXYBDVZAUEPDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical group O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUXPHGQVKXOTEJ-UHFFFAOYSA-N 4-azido-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound [N-]=[N+]=NC1=CC=CC2=C1C(=O)OC2=O AUXPHGQVKXOTEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRFVTYWOQMYALW-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthine Chemical class O=C1NC(=O)NC2=C1NC=N2 LRFVTYWOQMYALW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKQDCIXGCQPQNV-UHFFFAOYSA-N Calcium hypochlorite Chemical compound [Ca+2].Cl[O-].Cl[O-] ZKQDCIXGCQPQNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- YQEZLKZALYSWHR-UHFFFAOYSA-N Ketamine Chemical compound C=1C=CC=C(Cl)C=1C1(NC)CCCCC1=O YQEZLKZALYSWHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical class SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- 241001061127 Thione Species 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- CYUOWZRAOZFACA-UHFFFAOYSA-N aluminum iron Chemical compound [Al].[Fe] CYUOWZRAOZFACA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N benzene-dicarboxylic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009429 electrical wiring Methods 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- IWVKTOUOPHGZRX-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylprop-2-enoate;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.COC(=O)C(C)=C IWVKTOUOPHGZRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical class C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 150000002990 phenothiazines Chemical class 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N phosphonic acid group Chemical group P(O)(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229910052699 polonium Inorganic materials 0.000 description 1
- HZEBHPIOVYHPMT-UHFFFAOYSA-N polonium atom Chemical compound [Po] HZEBHPIOVYHPMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006149 polyester-amide block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 description 1
- UKLNMMHNWFDKNT-UHFFFAOYSA-M sodium chlorite Chemical compound [Na+].[O-]Cl=O UKLNMMHNWFDKNT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960002218 sodium chlorite Drugs 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005323 thioketone group Chemical class 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical class [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001755 vocal effect Effects 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は金属系画像形成物とその形成方法に関するもの
である。
である。
従来1表示板あるいはネームラベルに適した画像複製物
としては1例えばアルミニウム蒸着フィルム上に画像を
印刷した物のごとく、一般に、支持体の上にスクリ゛−
ン印刷により画像を印刷し。
としては1例えばアルミニウム蒸着フィルム上に画像を
印刷した物のごとく、一般に、支持体の上にスクリ゛−
ン印刷により画像を印刷し。
さら(その上からフェス等の保護層を塗布して製作して
きた。
きた。
また、マスキング材料、電気配線板忙適した画像複製物
としては、支持〜体の上に金属−をのせ、画像部分に相
当する部分をスクリーン印刷により、あるいは、感光性
樹脂を用いて露光、現像することにより、金属エツチン
グ保護層をおき、金属層をエツチングした後、そのfま
あるいは保護層をコーティングして製作してきた しかしながらこれらは工程が複雑なため高価な°
ものKfkつたり1.解像力が不足して、微細な画像を
表現することがlilしかったり、得られた画像複製物
の耐久性が不足すると−う問題があった。
としては、支持〜体の上に金属−をのせ、画像部分に相
当する部分をスクリーン印刷により、あるいは、感光性
樹脂を用いて露光、現像することにより、金属エツチン
グ保護層をおき、金属層をエツチングした後、そのfま
あるいは保護層をコーティングして製作してきた しかしながらこれらは工程が複雑なため高価な°
ものKfkつたり1.解像力が不足して、微細な画像を
表現することがlilしかったり、得られた画像複製物
の耐久性が不足すると−う問題があった。
本発明者らは、これらの画像複製物および製造方゛法に
あう九問題点を解消し1着しく改良された画像複製物と
その製造方法を提供することをi的として鋭意研究の結
果、支持体の上に、金属系薄層、感光性樹脂層よりなる
金属系画像形−性材料に画像を露光してのち、その画像
に対応した。tたは逆像の画像に相当した金属および/
また社金属化合etmtmを工、ツチングする仁とKよ
り、支持体と画像を持たない感光性11 III 11
との間に画像2を形成している金属系薄層が介在した金
属画像形成物を得る方法を見い出し1本発明を完成する
に到った。すなわち1本発明は支持体上に1画像を形成
している金属系薄層、その上に潜像を有する感光性W脂
層よりなることを特徴とする金属゛系画像形成物および
支持体上K、金属系薄層と、アルカリ土類金属含有アル
カリ性水溶液に不溶性の感光性It III Mlとを
設けた金属系画像形成性材料の金属画像形成方決におい
て、金属系画像形成性材料を露光したのち、アルカリ土
類金属含有アルカリ性水溶液に含浸して金属系薄層のみ
を現像することを特徴とする金属画像形成方法で也る。
あう九問題点を解消し1着しく改良された画像複製物と
その製造方法を提供することをi的として鋭意研究の結
果、支持体の上に、金属系薄層、感光性樹脂層よりなる
金属系画像形−性材料に画像を露光してのち、その画像
に対応した。tたは逆像の画像に相当した金属および/
また社金属化合etmtmを工、ツチングする仁とKよ
り、支持体と画像を持たない感光性11 III 11
との間に画像2を形成している金属系薄層が介在した金
属画像形成物を得る方法を見い出し1本発明を完成する
に到った。すなわち1本発明は支持体上に1画像を形成
している金属系薄層、その上に潜像を有する感光性W脂
層よりなることを特徴とする金属゛系画像形成物および
支持体上K、金属系薄層と、アルカリ土類金属含有アル
カリ性水溶液に不溶性の感光性It III Mlとを
設けた金属系画像形成性材料の金属画像形成方決におい
て、金属系画像形成性材料を露光したのち、アルカリ土
類金属含有アルカリ性水溶液に含浸して金属系薄層のみ
を現像することを特徴とする金属画像形成方法で也る。
本発明において・潜僚とはsg光性11脂層が露光によ
り光重合あるいは光分解などの反応により変化している
が1本発明で用いる現像液で現像しても像が現われず、
・肉眼では識別し難い状態にあるものを言う。九だし適
当な現像液を選択すれば像を現わすことができる。
り光重合あるいは光分解などの反応により変化している
が1本発明で用いる現像液で現像しても像が現われず、
・肉眼では識別し難い状態にあるものを言う。九だし適
当な現像液を選択すれば像を現わすことができる。
本発明に用いられる金属系画像形成性材料は。
ガラス、アクリル11脂板、スチレン樹脂板、ガヲス識
維1強化エポキV樹騙板などのプラスチック板、ポリエ
ステルフイ々ム、塩化ビニルフィルムなどの支持体、そ
の上に金属系薄層、さらKその上に感光性* trlm
が必須の構成層である。
維1強化エポキV樹騙板などのプラスチック板、ポリエ
ステルフイ々ム、塩化ビニルフィルムなどの支持体、そ
の上に金属系薄層、さらKその上に感光性* trlm
が必須の構成層である。
上記支持体上の金属系薄層上
ポロニウム、鉄゛、マグネVウム、ケイ素、チタニウム
、コバルト、銅、インジウム、イリリウム。
、コバルト、銅、インジウム、イリリウム。
鉛、マンガン、モリブデン、ニッケル、パラジウム、
白金、ロジウム、セVン%f1%タンタル、錫。
白金、ロジウム、セVン%f1%タンタル、錫。
タングステン、バナジウム、亜鉛、ジルコニウムなどの
金属、ならびに上記金属の合金および酸化物、窒化物、
ホウ化物、炭化物、硫化物、塩類などの金属化合物から
なるものであり、上記金属としては、アルミニウム、ア
ルミニウム鉄合金、金属化合物としては酸化アルミニウ
ムが好ましい。
金属、ならびに上記金属の合金および酸化物、窒化物、
ホウ化物、炭化物、硫化物、塩類などの金属化合物から
なるものであり、上記金属としては、アルミニウム、ア
ルミニウム鉄合金、金属化合物としては酸化アルミニウ
ムが好ましい。
上記金属系薄層は、上記支持体上に真空蒸着。
スパッタリング、高周波イオンプレーティング。
メッキ、フミネートなどの通常の方法にて形成される。
なおフィルムなどの支持体に金属系薄層を設けたものを
、ガヲス、アクリル樹脂板などの支持体に接着すること
Kより設けたものでもよい。
、ガヲス、アクリル樹脂板などの支持体に接着すること
Kより設けたものでもよい。
金属系薄層の厚み“は0.005〜200μ、特K O
,01〜0.1μの範囲が好ましい。
,01〜0.1μの範囲が好ましい。
上記金属系薄層上に形成される感光性8111Nは。
アルカリ土類金属含有水溶液に不溶性のものであって、
ジアゾ基、アジド基、シンナモイル基もしくはアクリロ
イル基を有する感光性8181などである。上記ジアゾ
基を有する感光性樹脂としてはノボラック11脂のナフ
トキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
、7−ルホン化フェノール樹脂とN、N−ジメチルアミ
ノフェニル−p−ジアゾニウム塩との反応生成物が例示
され、アジド基を有する感光性樹脂としては部分けん化
ポリ酢酸ビニルを無水アジドフタル酸てエステル化し、
た樹11!1.3−(4−アジドフェノキシ)エタノー
ルのスチレンマレイン酸エステルが例示され、シンナモ
イル基を有する感光性m脂としてはスチレン−無水マレ
イン酸共重合体と桂皮酸のエチレンオキリド付加物との
エステル化lt指が例示される。
ジアゾ基、アジド基、シンナモイル基もしくはアクリロ
イル基を有する感光性8181などである。上記ジアゾ
基を有する感光性樹脂としてはノボラック11脂のナフ
トキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
、7−ルホン化フェノール樹脂とN、N−ジメチルアミ
ノフェニル−p−ジアゾニウム塩との反応生成物が例示
され、アジド基を有する感光性樹脂としては部分けん化
ポリ酢酸ビニルを無水アジドフタル酸てエステル化し、
た樹11!1.3−(4−アジドフェノキシ)エタノー
ルのスチレンマレイン酸エステルが例示され、シンナモ
イル基を有する感光性m脂としてはスチレン−無水マレ
イン酸共重合体と桂皮酸のエチレンオキリド付加物との
エステル化lt指が例示される。
1+上記アクリロイル慕を有する感光性樹脂は。
4色
カルボキシル基、スルホン基、リン酸基、ホスホン酸基
およびそれらの亀などより選ばれた一種以上の基を有す
る高分子物質、光重合性不飽和化合物、光重合開始剤、
フリーラジカル発蔓剤%熱安定剤、増感剤な°どを配合
したものであり、上記一種以上の・基を有する高分子物
質としてはメタクリル酸メチル−メタクリル酸共重合体
1.スチレン−メタクリル酸共重合体、メタゲリル酸メ
チル・メタクリル酸・アクリル酸−2−エチルへキVル
共重合体、スルホン酸基含有のポリエステルまたはポリ
アミド、2−メチル−2−(N、N−ジメチルアミノ)
メチル−1書3−プ騨パンジオール・テレフタル酸共重
合体、ビスーアミノプロビルビペフジン・アジピン−・
C−カプロラクタム共重合体などが例示され、共重合性
不飽和化合物としてはアルキルアクリレート類、2−ヒ
トpキVアクリレート類、アミノアルキルアクリレート
類、エーテルアルキルアクリレート類、グリシジルアク
リレート類、ハロゲン化アルキルアクリレート類。
およびそれらの亀などより選ばれた一種以上の基を有す
る高分子物質、光重合性不飽和化合物、光重合開始剤、
フリーラジカル発蔓剤%熱安定剤、増感剤な°どを配合
したものであり、上記一種以上の・基を有する高分子物
質としてはメタクリル酸メチル−メタクリル酸共重合体
1.スチレン−メタクリル酸共重合体、メタゲリル酸メ
チル・メタクリル酸・アクリル酸−2−エチルへキVル
共重合体、スルホン酸基含有のポリエステルまたはポリ
アミド、2−メチル−2−(N、N−ジメチルアミノ)
メチル−1書3−プ騨パンジオール・テレフタル酸共重
合体、ビスーアミノプロビルビペフジン・アジピン−・
C−カプロラクタム共重合体などが例示され、共重合性
不飽和化合物としてはアルキルアクリレート類、2−ヒ
トpキVアクリレート類、アミノアルキルアクリレート
類、エーテルアルキルアクリレート類、グリシジルアク
リレート類、ハロゲン化アルキルアクリレート類。
多官能アクリレート類などの単量体、および側鎖にエチ
レン系不飽和基を有する高分子化合物例えif スf
Vン・−無水マルイン酸共重合体のアリールアルコール
による部分エステル化物、メタクリル酸メチル・メタク
リル酸共重合体のメタクリル酸グリシジル付加物などが
あげられ、′光重合開始剤トシてはベンゾインアルキル
エーテル、ベンゾフェノン、ミヒラースケトン。アント
フキノンおよびその誘導体、トリアリルイミダゾールニ
量体などが例示され、フリーラジカル発生剤としてはp
−アミゝノフェニルケトン化合物、ロイコトリフェニル
メタン染料、環状ジケトン化合物、チオケトン化合物、
メルカプタン化合物などが例示され。
レン系不飽和基を有する高分子化合物例えif スf
Vン・−無水マルイン酸共重合体のアリールアルコール
による部分エステル化物、メタクリル酸メチル・メタク
リル酸共重合体のメタクリル酸グリシジル付加物などが
あげられ、′光重合開始剤トシてはベンゾインアルキル
エーテル、ベンゾフェノン、ミヒラースケトン。アント
フキノンおよびその誘導体、トリアリルイミダゾールニ
量体などが例示され、フリーラジカル発生剤としてはp
−アミゝノフェニルケトン化合物、ロイコトリフェニル
メタン染料、環状ジケトン化合物、チオケトン化合物、
メルカプタン化合物などが例示され。
熱安定剤としてはハイドロキノンモノメチルエーテル、
フェノチアジンなどが例示され、増感剤としてはキサン
チン系、アクリシケン系、シアニン系、ビラゾリピ系、
り1リン系などの2色素が例示される。
フェノチアジンなどが例示され、増感剤としてはキサン
チン系、アクリシケン系、シアニン系、ビラゾリピ系、
り1リン系などの2色素が例示される。
さらに上記感光性11脂には、カーボンブラック。
酸化鉄、酸化チオンなどの無機顔料、そのほか有機顔料
、染料などの活性光線吸収剤を溺加して着色金属画像を
形成してもよい。なお、活性光線吸収剤としては、カー
ボン、ブラック、酸化鉄、酸化チタンなどの無機顔料、
C,1,ピグメント・ブラック1 (C,1,5044
0)などの有機顔料、 2.2’、4.4’−テトラヒ
ドロキ5y−4−メトキシ−ベンゾフェノン、4−ドデ
シルオキV−’l−EドロキVベンゾフェノンなどのベ
ンゾフェノン化合物、ルクソール・′ファースト・ブラ
ックL (C,1,17)、 C。
、染料などの活性光線吸収剤を溺加して着色金属画像を
形成してもよい。なお、活性光線吸収剤としては、カー
ボン、ブラック、酸化鉄、酸化チタンなどの無機顔料、
C,1,ピグメント・ブラック1 (C,1,5044
0)などの有機顔料、 2.2’、4.4’−テトラヒ
ドロキ5y−4−メトキシ−ベンゾフェノン、4−ドデ
シルオキV−’l−EドロキVベンゾフェノンなどのベ
ンゾフェノン化合物、ルクソール・′ファースト・ブラ
ックL (C,1,17)、 C。
■、ディスパース・ブラック(C,1,11255)な
どの染料が挙げられる。
どの染料が挙げられる。
なお、これらの感光性II 1M 1111は金属薄層
上に。
上に。
コーティング、スプレー、ラミネートなどKよりもうけ
られる。
られる。
岬記金属系薄層と1感光性樹脂層との間には、接着性1
i1Qlと、活性光線吸収剤および/を九は着色剤とか
らなる活性光線吸収剤を設けてもよい。
i1Qlと、活性光線吸収剤および/を九は着色剤とか
らなる活性光線吸収剤を設けてもよい。
さらに金属系画像形成性材料には、必要Kj6じて各1
の間に接着tra、m光性樹脂層上に接着層、離形層、
カバーフィルム、保ll1l#などを設けてもよい・ 上記感光性vIi脂層の厚みは通常は0.5〜100ミ
クロン、特に1〜50−クロンであることが好ましい。
の間に接着tra、m光性樹脂層上に接着層、離形層、
カバーフィルム、保ll1l#などを設けてもよい・ 上記感光性vIi脂層の厚みは通常は0.5〜100ミ
クロン、特に1〜50−クロンであることが好ましい。
上記の金属画像形成性材料は、水銀灯、炭素アーク灯、
メタルハライドランプ、キセノンランプなどの各種光源
で露光されたのち、現像処理されるO 本発明方法に用いられる現像液としては、マグネVクム
、カルシウム、バリウムなどのアルカリ土類金属の水酸
化物の水溶液が好ましく、水酸化バリウムのように単独
でも良好な効果を示す化合物もあるが、通常は金属系薄
層のエツチング速度を速くする丸めアルカリ金属化合物
を含、有させる方が好ましい。この場合通常アルカリ金
j!原子はアルカリ土類金属原子に対し、原子比で10
倍以下、好ましくは5倍以下、さらKtkf−ましくけ
1倍以下が良い。
メタルハライドランプ、キセノンランプなどの各種光源
で露光されたのち、現像処理されるO 本発明方法に用いられる現像液としては、マグネVクム
、カルシウム、バリウムなどのアルカリ土類金属の水酸
化物の水溶液が好ましく、水酸化バリウムのように単独
でも良好な効果を示す化合物もあるが、通常は金属系薄
層のエツチング速度を速くする丸めアルカリ金属化合物
を含、有させる方が好ましい。この場合通常アルカリ金
j!原子はアルカリ土類金属原子に対し、原子比で10
倍以下、好ましくは5倍以下、さらKtkf−ましくけ
1倍以下が良い。
上記水溶液を現像液として用いる場合は、現像速度及び
エツチングの形状を考慮し、金属系薄層の組成によって
適当なアルカリ強度を選ぶが1通常はpH8〜14.好
ましくはpH11〜14程度が良好である。この逃場液
にはアルミン酸ナトリウム、次亜塩素酸カルVウム等の
アμカリ性を呈する無機罵類や酸化剤あるいは一、アル
ミニウム、銅等の他の金属゛塩類を添加することもでき
る。
エツチングの形状を考慮し、金属系薄層の組成によって
適当なアルカリ強度を選ぶが1通常はpH8〜14.好
ましくはpH11〜14程度が良好である。この逃場液
にはアルミン酸ナトリウム、次亜塩素酸カルVウム等の
アμカリ性を呈する無機罵類や酸化剤あるいは一、アル
ミニウム、銅等の他の金属゛塩類を添加することもでき
る。
次に本発明の一例である金属系画像形成物が形成される
過程を図面を用いて説明する―第1図は本発明で用いる
金属系画像形成性材料や断面図であり、支持体、1.金
属系薄層2およびネガーポジ型感光性樹Qil署3から
なっている。tず前記材料を露光すると第2図の断面図
のようkなり、露光部の感光性樹脂層4が光叉応を起す
。
過程を図面を用いて説明する―第1図は本発明で用いる
金属系画像形成性材料や断面図であり、支持体、1.金
属系薄層2およびネガーポジ型感光性樹Qil署3から
なっている。tず前記材料を露光すると第2図の断面図
のようkなり、露光部の感光性樹脂層4が光叉応を起す
。
次にこれを前記現像液で現像すると、第3図の断面図の
ように?る。つまり未露光部の感光性1181層5π溶
解せずに膨潤して、現像液を通過させ。
ように?る。つまり未露光部の感光性1181層5π溶
解せずに膨潤して、現像液を通過させ。
下の金属系薄116をエツチングさせる。一方、露光部
の感光性樹脂114は膨潤せず、現像液を通過させない
ため、下の金属系薄@7Qみが画像を形成した吹口で残
る。
の感光性樹脂114は膨潤せず、現像液を通過させない
ため、下の金属系薄@7Qみが画像を形成した吹口で残
る。
以下に実施例を挙げ1本発明を更に具体v#に説明する
。
。
参考例1゜
厚さ100μの二輪延伸ポリエチレンテレフタレート、
フィルムの表面を洗浄、乾燥し九〇ち、抵抗加熱方式の
真空蒸着器により10−ゝTorrオーダー真空下でア
ルミニウムを厚さ0.05μに蒸着させた。このアルミ
ニウム蒸着ポリエステルフィル’Aを六a本スクリーン
@製DENSITOMETERDM−256で測定した
ところ光学濃度は2.4であった。
フィルムの表面を洗浄、乾燥し九〇ち、抵抗加熱方式の
真空蒸着器により10−ゝTorrオーダー真空下でア
ルミニウムを厚さ0.05μに蒸着させた。このアルミ
ニウム蒸着ポリエステルフィル’Aを六a本スクリーン
@製DENSITOMETERDM−256で測定した
ところ光学濃度は2.4であった。
つぎに表−IK示す・組成からなる感光性樹脂の溶液を
作製し、それぞれ上記アルミニウム蒸着ポリエステルフ
ィルム上にリバースコーターにて厚さ3μにコーティン
グした。さらKこの感光性樹脂上に、リバースコーター
号て表−2の組成物溶液をコーティングし、厚さ2μの
保護層を有する試料1.2の着色金属系画像形成性材料
と金属系画像形成性材料を作成した。
作製し、それぞれ上記アルミニウム蒸着ポリエステルフ
ィルム上にリバースコーターにて厚さ3μにコーティン
グした。さらKこの感光性樹脂上に、リバースコーター
号て表−2の組成物溶液をコーティングし、厚さ2μの
保護層を有する試料1.2の着色金属系画像形成性材料
と金属系画像形成性材料を作成した。
試料IFi表面は黒色で、裏面は蒸着アルミニウムの金
属光沢かあ、、りた。
属光沢かあ、、りた。
表 1
注(1) メータ9に酸メテルリII9に酸・アタ響
ル酸−鵞−エチルヘキシル共重合体(4615:80*
ルー)(2) 住IEスリーエム社展 表 −2 実施例1゜ 参考例1で得られた。試料1の着色金属系画像形成性材
料に文字および画線からなるネーム用ネガフィルムを用
いて超高圧水銀灯(3m−rots>Kて各々8秒露光
し、水洗したのち、水酸化バリウム40f/Jの水溶液
38℃中に浸漬した。約1分30秒浸漬後水洗乾燥した
。この着色声属系画像形成物をポリエステルフィルム側
から見たところ、原図に比べて同じ像を持つネームラベ
ルが得られた。しかも解像力が良く、エツジの切れも良
かった。
ル酸−鵞−エチルヘキシル共重合体(4615:80*
ルー)(2) 住IEスリーエム社展 表 −2 実施例1゜ 参考例1で得られた。試料1の着色金属系画像形成性材
料に文字および画線からなるネーム用ネガフィルムを用
いて超高圧水銀灯(3m−rots>Kて各々8秒露光
し、水洗したのち、水酸化バリウム40f/Jの水溶液
38℃中に浸漬した。約1分30秒浸漬後水洗乾燥した
。この着色声属系画像形成物をポリエステルフィルム側
から見たところ、原図に比べて同じ像を持つネームラベ
ルが得られた。しかも解像力が良く、エツジの切れも良
かった。
実施例2゜
参考例1で得られた試料2の金属系画像形成性材料に画
線からなする図形の描かれたネガフィルムを用いて超高
圧水銀灯(311,70cm )にて各々8秒露光し、
水洗したのち、水酸化カルVウムの飽和溶液500dK
水酸化ナトリウム0.8 F 、亜塩素酸ナトリウム0
.5f・、リン酸三ナトリウム0.82を加えた30℃
の溶液に約3分浸漬後、水洗乾燥した。
線からなする図形の描かれたネガフィルムを用いて超高
圧水銀灯(311,70cm )にて各々8秒露光し、
水洗したのち、水酸化カルVウムの飽和溶液500dK
水酸化ナトリウム0.8 F 、亜塩素酸ナトリウム0
.5f・、リン酸三ナトリウム0.82を加えた30℃
の溶液に約3分浸漬後、水洗乾燥した。
得ら昨た金属系画像形成物は、蒸着アルミニウムの光透
光層と蒸着ア阪ミニウムのない光透過層よりなり、被写
の第2原図に利用できた。この金属画像形成物は解像力
が良く、ヱツνの切れも良かった。
光層と蒸着ア阪ミニウムのない光透過層よりなり、被写
の第2原図に利用できた。この金属画像形成物は解像力
が良く、ヱツνの切れも良かった。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明で用いる金・属系画像形成性材料の断面
図、第2図は第1図で示した材料を露光した状態の断面
図、13図#i第2図で示した材料を現像した後の本発
明金属系画像形成物の断面図を示す。 II支持体 2:金属系薄層 3:感光性W脂層 4:感光性樹$1111の露光部 5:感光性四弓旨層の未露光部 6・金属系薄witi光部 7−:金属系薄層の摩露光部 特許出願人 東洋紡績株式会社
図、第2図は第1図で示した材料を露光した状態の断面
図、13図#i第2図で示した材料を現像した後の本発
明金属系画像形成物の断面図を示す。 II支持体 2:金属系薄層 3:感光性W脂層 4:感光性樹$1111の露光部 5:感光性四弓旨層の未露光部 6・金属系薄witi光部 7−:金属系薄層の摩露光部 特許出願人 東洋紡績株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、支持体上に%画像を形成している金属系薄−1その
上Kl像を有する感光性SOW層よりなることを特徴と
する金属系画像形成物。 2、 感光性11詣層が、アルカリ土類金属含有アルカ
リ性水溶液に不溶性である特許請求の範囲第1項記載の
金属系画像形成物。 3、感光性−脂層が染料および/ま九は顔料で着色され
ている特許請求の範囲第1項および第2項記載の金属系
画像形成物・ 4、支持体と金属系薄層との間に、染料および/を九は
顔料で着色されているか、もしくは着色されていないl
lllll層が設けられている特許請求の範囲第1礪な
いq第3項記載の金属系画像形成物。 5、感光性lll1w層の上に接着層が設けられている
特許請求の範囲第1項ないし第4項記載の金属系画像形
成物。 6、接着−の上忙、保護1および/lたは離形層が設け
られている特許請求の範囲第1項ないし第5項の金属系
画像形成物・ 7、゛支持体上に、金属系薄層と、アルカリ土類金属含
有アルカリ性水溶液に不溶性の感光性樹鴫旨春とを設け
た金属系画像形成性材料の金属画像形成方決において、
金属系画像形成性材料を露光し九のち、アルカリ土類金
属含有アルカリ性水溶液に含浸して金属系薄層のみを現
像することを特徴とする金属系画像形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56182905A JPS5883849A (ja) | 1981-11-13 | 1981-11-13 | 金属系画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56182905A JPS5883849A (ja) | 1981-11-13 | 1981-11-13 | 金属系画像形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5883849A true JPS5883849A (ja) | 1983-05-19 |
| JPH0348502B2 JPH0348502B2 (ja) | 1991-07-24 |
Family
ID=16126422
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56182905A Granted JPS5883849A (ja) | 1981-11-13 | 1981-11-13 | 金属系画像形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5883849A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5011022A (ja) * | 1973-05-29 | 1975-02-04 | ||
| JPS5062403A (ja) * | 1973-10-01 | 1975-05-28 | ||
| JPS51135641A (en) * | 1975-05-20 | 1976-11-24 | Kimoto & Co Ltd | Photosensitive film |
-
1981
- 1981-11-13 JP JP56182905A patent/JPS5883849A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5011022A (ja) * | 1973-05-29 | 1975-02-04 | ||
| JPS5062403A (ja) * | 1973-10-01 | 1975-05-28 | ||
| JPS51135641A (en) * | 1975-05-20 | 1976-11-24 | Kimoto & Co Ltd | Photosensitive film |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0348502B2 (ja) | 1991-07-24 |
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