JPS5892786A - ロ−タリ−方式反応炉 - Google Patents
ロ−タリ−方式反応炉Info
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- JPS5892786A JPS5892786A JP18886881A JP18886881A JPS5892786A JP S5892786 A JPS5892786 A JP S5892786A JP 18886881 A JP18886881 A JP 18886881A JP 18886881 A JP18886881 A JP 18886881A JP S5892786 A JPS5892786 A JP S5892786A
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Landscapes
- Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
- Crucibles And Fluidized-Bed Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は窒化けい素粉＊、！にα型窒化けい素粉末を
能率よくかつ高収率で得られるようにした改良形ロータ
リ一方式の反応炉に関する屯のである。
能率よくかつ高収率で得られるようにした改良形ロータ
リ一方式の反応炉に関する屯のである。
窒化けい素、とくにα聖書化けｉ素（α型８１、Ｎ４）
の焼結体は機械強度も高くまた耐スポール性本あってセ
ラ電、り構造体として今日各方面から注目されているた
め、そＯ素原料である電化けい素粉末の製造についても
各種の研究、提案がなされている。特願昭５０−１１３
７６２、特願１８５１−７６９４、特願昭５１−１５０
８０２、特願ｉ８５２−１６０３７、特願昭５２−４８
３７３がその例である。しかしながらこれらの提案はい
づれも窒化けい素粉末の製造法に関するものみである。
の焼結体は機械強度も高くまた耐スポール性本あってセ
ラ電、り構造体として今日各方面から注目されているた
め、そＯ素原料である電化けい素粉末の製造についても
各種の研究、提案がなされている。特願昭５０−１１３
７６２、特願１８５１−７６９４、特願昭５１−１５０
８０２、特願ｉ８５２−１６０３７、特願昭５２−４８
３７３がその例である。しかしながらこれらの提案はい
づれも窒化けい素粉末の製造法に関するものみである。
ところで窒化けい素粉末の製造に於ける問題点は１その
麹法自体の他にその製造時使用される反応炉の構造にも
従来から各種指摘され、効率は改めて窒化けい素粉体Ｏ
能率的な製造と併せてこれに最適な反応炉の開発に向は
處努めた結果、ここに次の三つの発明を完成したもので
ある。
麹法自体の他にその製造時使用される反応炉の構造にも
従来から各種指摘され、効率は改めて窒化けい素粉体Ｏ
能率的な製造と併せてこれに最適な反応炉の開発に向は
處努めた結果、ここに次の三つの発明を完成したもので
ある。
すなわちその＠ｌの発明は、一端に原料粉投入口を、他
端に反応生成物の最出口を設け、内部をＮ、ガス雰囲気
としたロータリーチ為−ブを傾斜させ、これを転動させ
つつその反応賊に設は九加熱装置で投入口から取出口へ
と移送される原料を加熱・反応させるようにした窒化け
い素粉末製造用反応炉において、炉壁に固着した反応副
生物の掻取装置をロータリーチ五−！内に装着したこと
を特徴とした・−；リ一方式反応炉であり、！！ｇ２の
発明は第１の発明になる反応炉において掻取装置を設け
る代りに当該炉に装着される加熱装置を、反応副生物の
固着する炉壁の外周に移動可能としたことを特徴とし、
また＠３の発明は同じく掻取装置を設ける代りに反応副
生物の固着する局部の炉壁を多孔質とし、ここに窒素ガ
スの吹込孔を設けたことを特徴とするものである。以下
にこれらの発明について図示したそれぞれの実施例にも
とづいて説明する。
端に反応生成物の最出口を設け、内部をＮ、ガス雰囲気
としたロータリーチ為−ブを傾斜させ、これを転動させ
つつその反応賊に設は九加熱装置で投入口から取出口へ
と移送される原料を加熱・反応させるようにした窒化け
い素粉末製造用反応炉において、炉壁に固着した反応副
生物の掻取装置をロータリーチ五−！内に装着したこと
を特徴とした・−；リ一方式反応炉であり、！！ｇ２の
発明は第１の発明になる反応炉において掻取装置を設け
る代りに当該炉に装着される加熱装置を、反応副生物の
固着する炉壁の外周に移動可能としたことを特徴とし、
また＠３の発明は同じく掻取装置を設ける代りに反応副
生物の固着する局部の炉壁を多孔質とし、ここに窒素ガ
スの吹込孔を設けたことを特徴とするものである。以下
にこれらの発明について図示したそれぞれの実施例にも
とづいて説明する。
第１図は本願の第１の発明の実施例を示すものである。
同図にお、、いてＬは炉体であって、この炉は全体がロ
ータリーチ凰−プで出来ている。
ータリーチ凰−プで出来ている。
筒状黒鉛容器で構成される炉本体２は全体が傾斜して配
置され、その外側は断熱材３で被覆されている。炉本体
の両側蓋４１ｅ４１には原料の投入口５、反応生成物の
取出口６が設けられである。炉内を窒素雰囲気に保つた
め、反応生成物の堆出口側にＮ、ガスの導入口１を設け
、これよりＮ、ガスを対人する。８は高周波誘導フィル
であって、炉本体２の反応ゾーンの外周に固着されてい
る０ｇは排ガス排出口である。
置され、その外側は断熱材３で被覆されている。炉本体
の両側蓋４１ｅ４１には原料の投入口５、反応生成物の
取出口６が設けられである。炉内を窒素雰囲気に保つた
め、反応生成物の堆出口側にＮ、ガスの導入口１を設け
、これよりＮ、ガスを対人する。８は高周波誘導フィル
であって、炉本体２の反応ゾーンの外周に固着されてい
る０ｇは排ガス排出口である。
１０はとＯ発明において％に設けた反応副生物の掻取−
置である。この発明における炉体は長手方向の中心軸を
中心に回転もしくは３６ｏ＠以内で回動自在、便には適
宜な振動を与える図示しない装置に連結されている。こ
の発明になる反応炉は以上の通〉であるが、これの運転
は以下の通りである。
置である。この発明における炉体は長手方向の中心軸を
中心に回転もしくは３６ｏ＠以内で回動自在、便には適
宜な振動を与える図示しない装置に連結されている。こ
の発明になる反応炉は以上の通〉であるが、これの運転
は以下の通りである。
＊＊コイル１に通電して炉内を加熱状態にしたのちガス
の導入口ｒよりＮ重ガスを炉内に導入しつつ原料投入口
５より原料を投入する。これと同時に炉体を回転もしく
は回動させることＫよって投入原料が炉内で転動するよ
うＫする。
の導入口ｒよりＮ重ガスを炉内に導入しつつ原料投入口
５より原料を投入する。これと同時に炉体を回転もしく
は回動させることＫよって投入原料が炉内で転動するよ
うＫする。
本発明に用いる原料は、例えばシリカ粉末あるいは５ｉ
−ｏ成分を含む化合物粉末及びカーがン粉末に窒化けい
素粉末、炭化けい素粉末及び酸窒化けい素粉末のうち少
なくとも１１１１１を添加して混合原料粉末を調整し、
これを短径が３０−以下に造粒したものを用いる。ｔた
加熱温度はシリカの還元・窒化反応が満足して行なわれ
るよう通常１３００〜１５５０℃とする。炉体の回転・
転勤速度は炉内温度、原料供給量その他によって異なる
が、遅すぎると原料の良好な転勤状態が得られず、また
速ぎると造粒粒子の破壊を生じこれら双方の条件を満足
するａ度で定める。このような条件下で連続的に原料を
供給すると、投入原料は炉内を投入口から取出口に至る
間に傾斜した炉体内で流動層を形成しつつ反応しながら
順次取出口に転送され、窒化けい素粉末が取出口６よシ
連続的に得られる。炉体の転動は３６０°以上の回転は
もちろん、３６０”以内の回動の外炉体に適宜な振動を
与えることでもよい。以上の如くして長期にわたりてシ
リカの還元・窒化反応を行っていくと、炉内壁には８１
Ｃを主成分とする反応副生物が固結して来る。この反応
副生物は加熱装置の設けられている反応ゾーンでは蒸気
化しているものの、これが排ガス排出ロクより大気中に
排出される直前に冷却されて固着され炉内壁上部に固結
されて堆積される。
−ｏ成分を含む化合物粉末及びカーがン粉末に窒化けい
素粉末、炭化けい素粉末及び酸窒化けい素粉末のうち少
なくとも１１１１１を添加して混合原料粉末を調整し、
これを短径が３０−以下に造粒したものを用いる。ｔた
加熱温度はシリカの還元・窒化反応が満足して行なわれ
るよう通常１３００〜１５５０℃とする。炉体の回転・
転勤速度は炉内温度、原料供給量その他によって異なる
が、遅すぎると原料の良好な転勤状態が得られず、また
速ぎると造粒粒子の破壊を生じこれら双方の条件を満足
するａ度で定める。このような条件下で連続的に原料を
供給すると、投入原料は炉内を投入口から取出口に至る
間に傾斜した炉体内で流動層を形成しつつ反応しながら
順次取出口に転送され、窒化けい素粉末が取出口６よシ
連続的に得られる。炉体の転動は３６０°以上の回転は
もちろん、３６０”以内の回動の外炉体に適宜な振動を
与えることでもよい。以上の如くして長期にわたりてシ
リカの還元・窒化反応を行っていくと、炉内壁には８１
Ｃを主成分とする反応副生物が固結して来る。この反応
副生物は加熱装置の設けられている反応ゾーンでは蒸気
化しているものの、これが排ガス排出ロクより大気中に
排出される直前に冷却されて固着され炉内壁上部に固結
されて堆積される。
実験の結果によれば、これによって炉内径はＶｌ ０に
もなって原料およびＮ３ブスのスムース−＆流通を著る
しく阻害し、結果として反応に悪影響を及ぼしている。
もなって原料およびＮ３ブスのスムース−＆流通を著る
しく阻害し、結果として反応に悪影響を及ぼしている。
そこで本発明ではかかる場合、運転を中止し、掻取装置
１０を用いて前記反応副生物を掻取り、これを加熱しつ
つ蒸気化し、ここにＮ、ガスを導入するととによってこ
れらを排出口１０より炉外に排出する。そして再び運転
を再開すればこれらの問題は容易に解消される。
１０を用いて前記反応副生物を掻取り、これを加熱しつ
つ蒸気化し、ここにＮ、ガスを導入するととによってこ
れらを排出口１０より炉外に排出する。そして再び運転
を再開すればこれらの問題は容易に解消される。
第２ａは本願第２の発明の実施例を図示したものである
。この発明では第１の発明の如く掻取装置を設けること
なく、移−形加熱誘導コイル１１を炉体外周にそっと摺
動させて、これを反応ゾーンから反応副生物の固結領域
外周に移を稼動させる仁とによって、冷却して炉内壁に
固結し九反応剛生物紘溶融し、さらに加熱するととによ
って蒸気化してこれらは排気口９より炉外に排出される
。そこで再び運転を再開すればよい・なお、第２の発明
は、第１の発明において掻取装置を除去し代Ｋｌｔ、誘
導加熱装置を移動可能とした外は第１の発明と同様な構
造で、従って同様に稼動される。
。この発明では第１の発明の如く掻取装置を設けること
なく、移−形加熱誘導コイル１１を炉体外周にそっと摺
動させて、これを反応ゾーンから反応副生物の固結領域
外周に移を稼動させる仁とによって、冷却して炉内壁に
固結し九反応剛生物紘溶融し、さらに加熱するととによ
って蒸気化してこれらは排気口９より炉外に排出される
。そこで再び運転を再開すればよい・なお、第２の発明
は、第１の発明において掻取装置を除去し代Ｋｌｔ、誘
導加熱装置を移動可能とした外は第１の発明と同様な構
造で、従って同様に稼動される。
第３の発明の実施例を示したのが第３図である。この発
明も炉内壁に耐着し九反広副生物の除去装置を別途設け
たもので、この点を除くと第１ 、ＩＩＩＥ２の発明と
同様である。＠３の発明における反応副生物の除去唸第
３図に示されているように１炉内壁の副生物固着個所に
多孔質レンｆｌｌを嵌装し、これよ１ｈガスを常時對。
明も炉内壁に耐着し九反広副生物の除去装置を別途設け
たもので、この点を除くと第１ 、ＩＩＩＥ２の発明と
同様である。＠３の発明における反応副生物の除去唸第
３図に示されているように１炉内壁の副生物固着個所に
多孔質レンｆｌｌを嵌装し、これよ１ｈガスを常時對。
入してお亀１、ヒこに反応副生物が固着しないようＫし
ておくもので−る。この場合は回転中宮Ｋ Ｎ ｓガス
を封入するようにリング状導入管を炉体の外周に設け１
ければ壜もないので、装置常連−車期特出来るので馨体
的にみればかえりて経済的である。
ておくもので−る。この場合は回転中宮Ｋ Ｎ ｓガス
を封入するようにリング状導入管を炉体の外周に設け１
ければ壜もないので、装置常連−車期特出来るので馨体
的にみればかえりて経済的である。
以上の如く本願発明によれば窒化けい素粉末の製造に轟
ってこれ壕でない新方式、即ち原料粉粒を転動しつつ還
元・窒化反応させることが出来るとともに、反応によっ
て生ずる反応副生物の除去も至って筒便に行なわれて常
に炉内を最嵐の状態に保つことが出来るので、反応効率
を格段に向上させる仁とが出来る。
ってこれ壕でない新方式、即ち原料粉粒を転動しつつ還
元・窒化反応させることが出来るとともに、反応によっ
て生ずる反応副生物の除去も至って筒便に行なわれて常
に炉内を最嵐の状態に保つことが出来るので、反応効率
を格段に向上させる仁とが出来る。
第１図ないし第３図はζＯ尭明の第１ないしＩｌ！３の
各ｌ実施例になる四−タリ一方式反応炉で、共にその側
断面図を示し九ものである。 １−炉体、２−炉本体、１−断熱材、４１ 。 ４ｓ−叢、５−・原料投入口、Ｃ−取出口、ｒ−Ｎ、ｆ
ス導入口、１−高周波誘導；イル、クー・排ｆｘ＠出口
、１０−掻取装装置、１１−移動形加熱誘導コイル、１
２−多孔質レンガ。 出願人代理人 弁理土鈴 圧式 彦 手続補正書 １．事件の表示 特願昭５６−１８８８６８号 ２ 発明の名称 ロータリ一方式反応炉 １ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 〒１６０東京都新宿区西新宿五丁目２６番２号表 自発
補正 翫 補正の対奏 明細書の発明の詳細な説明の欄 ａ 補正の内存 （１） 明細書中筒５頁１４行目から１６行目におい
て、「誘導コイル８に通電して炉内を加熱状態にしたの
ちガスの導入ロアよりＮｇガスを炉内に導入しつつ原料
投入口５より原料を投入する。」とあるを、［ガスの導
入ロアよりＮ、ガスも炉内に導入して炉内を穐雰囲気と
し、誘導コイル８に通電して炉内を加熱状態とし、原料
投入口５より原料を投入する。」と訂正する。 称 （２）明細書中筒６頁１３行目において、「移動鰺」と
あるを、「転勤状態粉体床」と訂正する。 （３）明細書中筒６頁１９行目において、ｒ ＳｉＣＪ
とあるをｒｓｉＯＪと訂正する。
各ｌ実施例になる四−タリ一方式反応炉で、共にその側
断面図を示し九ものである。 １−炉体、２−炉本体、１−断熱材、４１ 。 ４ｓ−叢、５−・原料投入口、Ｃ−取出口、ｒ−Ｎ、ｆ
ス導入口、１−高周波誘導；イル、クー・排ｆｘ＠出口
、１０−掻取装装置、１１−移動形加熱誘導コイル、１
２−多孔質レンガ。 出願人代理人 弁理土鈴 圧式 彦 手続補正書 １．事件の表示 特願昭５６−１８８８６８号 ２ 発明の名称 ロータリ一方式反応炉 １ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 〒１６０東京都新宿区西新宿五丁目２６番２号表 自発
補正 翫 補正の対奏 明細書の発明の詳細な説明の欄 ａ 補正の内存 （１） 明細書中筒５頁１４行目から１６行目におい
て、「誘導コイル８に通電して炉内を加熱状態にしたの
ちガスの導入ロアよりＮｇガスを炉内に導入しつつ原料
投入口５より原料を投入する。」とあるを、［ガスの導
入ロアよりＮ、ガスも炉内に導入して炉内を穐雰囲気と
し、誘導コイル８に通電して炉内を加熱状態とし、原料
投入口５より原料を投入する。」と訂正する。 称 （２）明細書中筒６頁１３行目において、「移動鰺」と
あるを、「転勤状態粉体床」と訂正する。 （３）明細書中筒６頁１９行目において、ｒ ＳｉＣＪ
とあるをｒｓｉＯＪと訂正する。
Claims (3)
- （１）一端に原料粉投入口を、他端に反応生成物の取出
口を設け、内部なＮ、、ガス雰囲気とした四−タリーチ
ェーデを傾斜させ、これを転動させつつその反応域に設
けた加熱装置で投入口から取出口へと移送される原料を
加熱反応させるようにした窒化けい素粉末製造用反応炉
において、炉壁に固着した反応副生物の掻取装置をロー
タリーチ島−プ内に装着したことを特徴とする四−タリ
一方式反応炉。 - （２）一端に原料粉投入口を、他端に反応生成物の取出
口を設け、内部をＮ、ガス雰囲気とし九ロータリーチ為
−プを傾斜させ、これを転勤させつつその反応域に設け
た加熱装置で投入口から取出口へと移送される原料を加
熱、反応させるようＫした窒化けい素粉末製造用反応炉
において、加熱装置を反応副生物の固着した炉壁の外周
に移動可能としたことを特徴とする四−タリ一方式反応
炉。 - （３） 一端に原料粉投入口を、他端に反応生成物の
取出口Ｖ゛設け、内部をＮ３ガス雰囲気と１゜たロータ
リーチ轟−プを傾斜させ、これを転動させつつその反応
域に設けた加熱装置で投入口から取出口へと移送される
原料を加熱、反応させるようにした窒化けい素粉末製造
用反応炉において、反応副生物の固着する局部の炉壁を
多し 孔質とし、こζ書素ガスの吹込孔を設けたことを特徴と
する四−タリ一方式反応炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18886881A JPS5892786A (ja) | 1981-11-25 | 1981-11-25 | ロ−タリ−方式反応炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18886881A JPS5892786A (ja) | 1981-11-25 | 1981-11-25 | ロ−タリ−方式反応炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5892786A true JPS5892786A (ja) | 1983-06-02 |
| JPS6243110B2 JPS6243110B2 (ja) | 1987-09-11 |
Family
ID=16231270
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18886881A Granted JPS5892786A (ja) | 1981-11-25 | 1981-11-25 | ロ−タリ−方式反応炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5892786A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015166077A (ja) * | 2014-02-17 | 2015-09-24 | 月島機械株式会社 | 流動層装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS47404U (ja) * | 1971-01-25 | 1972-08-02 | ||
| JPS566864U (ja) * | 1979-06-22 | 1981-01-21 | ||
| JPS5741677U (ja) * | 1980-08-20 | 1982-03-06 |
-
1981
- 1981-11-25 JP JP18886881A patent/JPS5892786A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS47404U (ja) * | 1971-01-25 | 1972-08-02 | ||
| JPS566864U (ja) * | 1979-06-22 | 1981-01-21 | ||
| JPS5741677U (ja) * | 1980-08-20 | 1982-03-06 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015166077A (ja) * | 2014-02-17 | 2015-09-24 | 月島機械株式会社 | 流動層装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6243110B2 (ja) | 1987-09-11 |
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