JPS5893145A - シヤドウマスクの製造方法 - Google Patents
シヤドウマスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS5893145A JPS5893145A JP56190538A JP19053881A JPS5893145A JP S5893145 A JPS5893145 A JP S5893145A JP 56190538 A JP56190538 A JP 56190538A JP 19053881 A JP19053881 A JP 19053881A JP S5893145 A JPS5893145 A JP S5893145A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shadow mask
- predetermined
- resist film
- nickel plating
- blackening
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
- H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2209/00—Apparatus and processes for manufacture of discharge tubes
- H01J2209/01—Generalised techniques
- H01J2209/012—Coating
- H01J2209/015—Machines therefor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明はカラー受像管に装着されるシャドウマスクの製
造方法に係Ｄｓ＊ｖｃ高品質であ）、より安価なシャド
ウマスクを得ること・が可能なシャドウマスクＯ擬造方
法Ｅ１ｍするものである口発例の技術的背景 カラー受像管に装着されるシャドウ！スクＯＩｌ造方法
は過雷次のようにして製造されている。
造方法に係Ｄｓ＊ｖｃ高品質であ）、より安価なシャド
ウマスクを得ること・が可能なシャドウマスクＯ擬造方
法Ｅ１ｍするものである口発例の技術的背景 カラー受像管に装着されるシャドウ！スクＯＩｌ造方法
は過雷次のようにして製造されている。
即ち、軟鉄からなる長尺のシャドウマスク素材の両Ｉｉ
Ｋレジスト膜を被着形成する・次にこのレジスト膜の被
着形成されたシャドウマスク素材の両面に所定パターン
Ｏネガ原板管密着、露光し、ネｌ原板の透光部に対応す
るレジスト膜を光硬化するコ次にレジスト膜の未硬化部
１＊＊除去稜党硬化部の耐エツチング部屋を行なった後
、両面よシスプレイ法などによりエツチング液管かけレ
ジスト膜の除去された部分をエツチング除去し、矩彫状
中ドツシ状の電子ビーム通過孔部を穿設する。
Ｋレジスト膜を被着形成する・次にこのレジスト膜の被
着形成されたシャドウマスク素材の両面に所定パターン
Ｏネガ原板管密着、露光し、ネｌ原板の透光部に対応す
るレジスト膜を光硬化するコ次にレジスト膜の未硬化部
１＊＊除去稜党硬化部の耐エツチング部屋を行なった後
、両面よシスプレイ法などによりエツチング液管かけレ
ジスト膜の除去された部分をエツチング除去し、矩彫状
中ドツシ状の電子ビーム通過孔部を穿設する。
次に党硬化部のレジスト膜を除去し、水洗乾燥工Ｓｔ経
てシャドウマスク素材にフラットマスク及びピックオフ
線を設ける・次に仁のピックオフ線によ砂シャドウマス
ク素材からフラットマスク管ビックオフする・次にフラ
ットマスクを所定球面にプレス成形、黒化、スタビ炉通
しなどの賭工程を経てシャドウマスク會完成する・ ζＯａｔシャドウマスクの製造方法により形成されたシ
ャドウマスクは前述しえよう・Ｋ黒化、スタビ炉通しな
どをプレス成形後行なうえめ設備や工＠が煩雑になるし
、黒化膜は絶縁物である良め、！メタフレームなどにｍ
接するととかなかなかむずかしく、かっこ０１１接時に
スプラッシユが発生するなどの問題点がある・ こｏｅ＊＊として発明者らはジグドウマスクと！スフフ
レームとからなるフレームマスク系に予めニッケルめっ
きｔｏ、５〜３．０μ論し、次いで黒化処ｍｔ行ない所
定の形状に組立てる方法や製造コストＯ低減化の丸めに
プレス成形後に行なう黒化処理をプレス成形前の焼鈍時
に同時に行なう方法を先に出願しえ・ 背景技術の問題点 しかしながらシャドウマスタに限定すればニッケルめっ
きの前処理のうちの弱酸洗浄により電子ビーム通過孔部
が大きくなるため、この広がり分を差し引い光電子ビー
ム通過孔部を形成し、ニッケルめりＩＪ６理を行なう必
要がある。その結果電子ビーム通過孔部寸法のばらつき
がや中大きくなるという問題点がある・また黒化と焼鈍
との同時処理はそれなりに省エネルギー効果１有するも
のの熱処理〇九め０７ｊツトマスクの積重ね作業中入炉
中出炉作業などのわずられしい工程があるし−を友積重
ねのえめに黒化膜厚の社らつきが大暑く、一部は再黒化
しなければならない問題点がちる・発明の目的 ・
。
てシャドウマスク素材にフラットマスク及びピックオフ
線を設ける・次に仁のピックオフ線によ砂シャドウマス
ク素材からフラットマスク管ビックオフする・次にフラ
ットマスクを所定球面にプレス成形、黒化、スタビ炉通
しなどの賭工程を経てシャドウマスク會完成する・ ζＯａｔシャドウマスクの製造方法により形成されたシ
ャドウマスクは前述しえよう・Ｋ黒化、スタビ炉通しな
どをプレス成形後行なうえめ設備や工＠が煩雑になるし
、黒化膜は絶縁物である良め、！メタフレームなどにｍ
接するととかなかなかむずかしく、かっこ０１１接時に
スプラッシユが発生するなどの問題点がある・ こｏｅ＊＊として発明者らはジグドウマスクと！スフフ
レームとからなるフレームマスク系に予めニッケルめっ
きｔｏ、５〜３．０μ論し、次いで黒化処ｍｔ行ない所
定の形状に組立てる方法や製造コストＯ低減化の丸めに
プレス成形後に行なう黒化処理をプレス成形前の焼鈍時
に同時に行なう方法を先に出願しえ・ 背景技術の問題点 しかしながらシャドウマスタに限定すればニッケルめっ
きの前処理のうちの弱酸洗浄により電子ビーム通過孔部
が大きくなるため、この広がり分を差し引い光電子ビー
ム通過孔部を形成し、ニッケルめりＩＪ６理を行なう必
要がある。その結果電子ビーム通過孔部寸法のばらつき
がや中大きくなるという問題点がある・また黒化と焼鈍
との同時処理はそれなりに省エネルギー効果１有するも
のの熱処理〇九め０７ｊツトマスクの積重ね作業中入炉
中出炉作業などのわずられしい工程があるし−を友積重
ねのえめに黒化膜厚の社らつきが大暑く、一部は再黒化
しなければならない問題点がちる・発明の目的 ・
。
本発明は前述した諸問題点に銖みなされたものであり、
これら諸゛問題点を解消すると共に、よシ高品質なシャ
゛ドウマスク管低コストで提供するととが可能なシャド
ウマスクの製造方法を提供する仁とを目的としている。
これら諸゛問題点を解消すると共に、よシ高品質なシャ
゛ドウマスク管低コストで提供するととが可能なシャド
ウマスクの製造方法を提供する仁とを目的としている。
発明の概要
即ち、本発明は篇光工鵬、現像工程を経て、両支部の所
定位置にレジスト膜が被着された長尺のシャドウマスク
素材をエツチング、水洗する工程と、レジスト膜を除去
水洗する工程と、所定厚のニッケルめっきを施すニッケ
ルめっき工程及び水洗工程と、水蒸気またはｃｏ、ガス
を含む雰囲気中で焼鈍と悪化処！ｌを同時に行なう熱処
履工程とを所定の移動速度で通過させるようにしたこと
１−特徴としている。
定位置にレジスト膜が被着された長尺のシャドウマスク
素材をエツチング、水洗する工程と、レジスト膜を除去
水洗する工程と、所定厚のニッケルめっきを施すニッケ
ルめっき工程及び水洗工程と、水蒸気またはｃｏ、ガス
を含む雰囲気中で焼鈍と悪化処！ｌを同時に行なう熱処
履工程とを所定の移動速度で通過させるようにしたこと
１−特徴としている。
本発明の実施例
次に本発明のシャドウマスクの製造方法の１実” 麹例
を図により説明する。
を図により説明する。
即ち、両支部にレジスト膜を被着形成し、露光１径、視
線工程を経て両支部の所定位置にレジスト膜が被着され
た長大のシャドウマスク素材（１）をリール（りよりそ
れぞれ１対のローＩ）（ＬＸｈＸＢｇ）（３４Ｘ３１）
で所定の移動速度により移動させるが、この楊合ｐ−ラ
（３１Ｘ３糞）間にはエツチングｉｉ ＩＩ（４）と第
１の水洗装置（５）が設けられシャドウマスク素材（１
）に長方形状ｔえは円形状の電子ビーム通過孔部を穿設
するようＫｎつているＯ１九ローラ（３，）（３ｓ）ｆ
ｌａＫ ｔ’ｉ ＠ｓ シスト＊１−除去するレジスト
膜除去装置（６）と第２の水洗装置（刀が設けられ、レ
ジスト膜を除去するようになっている・ｔえローラ（３
烏）（３４）間には普数個の案内用四−ラ（Ｂ）によシ
ニツ′ケルめっき液（９）中に導びかれ光電子ビーム通
過孔部の穿設され光シャドウマスク素材（１）の両生＊
に対設するように陽極板ａ・が設けられ、シャドウマス
ク素材（１）の両支部に所定厚さ、例えば０．５〜３．
０ｓのニッケルめっき管施すニッケルめっき装置■と第
３の水洗装置鰭が設けられている・更に四−２（３４Ｘ
３１）間Ｋｔｊ矢印０３方向からｃｏ、ガスマタは水蒸
気を導入し、ニッケルめっきされ大シャドウマスク素材
を焼鈍−と悪化処理１行なう黒化鼻処理装置ａＪが設け
られている■とれらを通過したフラットマスクＯ形成さ
れたシャドウマスク素材（１）はビックオ７工ＳｔＳて
、７ラツ）マスクが抜き申られこＯフラットアスクはプ
レス成形されシャドウマスクが完成する・ 仁のようにシャドウマスク素材のエツチング工程、レジ
スト膜除去工ＩＮＫ続いてニッケルめっき工程、熱部理
工Ｓｔ−貫して行なうことにょ〉従来のシャドウマスク
素材のニッケルめっき工場で必要であつえローディング
、アンローディング、電解脱脂、水洗、ＩＩＷＩＲ処理
、水洗、乾燥、など０諸工１が全く不要となるばか）で
なく、電子ビーム通過孔部Ｏ寸法の変化がなくなるため
、最終的にシャドウマスクの品質向上、歩留向上管もえ
もした。ｔた従来の黒化兼用焼鈍で必要であった７２ツ
トマスクのローディジグ、アンローディング、積重ねな
どの作業が不要とな〕、更に炉に入れるブックトマスク
遮積重ねてな％Ａ丸め黒化膜厚の不均一が非常に小さく
なった０ このＪ１１％旭理炉内０１ＦＩＩ気ガスの組成はシャド
ウマスク素材の焼鈍４Ｉ性に合わせて選定し光Ｓ＊域に
より適轟に選べばよいし、また予めニッケルめつｔｉを
施しであるため、黒化膜厚が薄くてもカラー受像管の製
造工程中の加熱工程におｉても錆の発生がないため追加
の黒化処理管必要とせず、完全な黒化兼焼鈍が可能とな
つえ０ 発明の効果 上述のように本発明のシャドウマスクの製造方法によれ
ばカッ−受像管に装着されるシャドウマスクの製造コス
トを低減化させるだゆでなく、電子ビーム通過孔部の寸
法精度Ｏ向上、晶化膜厚Ｏ均一化が得られるＯでシャド
ウマスクのみならず、カラー受像管の画面の品位を向上
させることが可能となつ九・
線工程を経て両支部の所定位置にレジスト膜が被着され
た長大のシャドウマスク素材（１）をリール（りよりそ
れぞれ１対のローＩ）（ＬＸｈＸＢｇ）（３４Ｘ３１）
で所定の移動速度により移動させるが、この楊合ｐ−ラ
（３１Ｘ３糞）間にはエツチングｉｉ ＩＩ（４）と第
１の水洗装置（５）が設けられシャドウマスク素材（１
）に長方形状ｔえは円形状の電子ビーム通過孔部を穿設
するようＫｎつているＯ１九ローラ（３，）（３ｓ）ｆ
ｌａＫ ｔ’ｉ ＠ｓ シスト＊１−除去するレジスト
膜除去装置（６）と第２の水洗装置（刀が設けられ、レ
ジスト膜を除去するようになっている・ｔえローラ（３
烏）（３４）間には普数個の案内用四−ラ（Ｂ）によシ
ニツ′ケルめっき液（９）中に導びかれ光電子ビーム通
過孔部の穿設され光シャドウマスク素材（１）の両生＊
に対設するように陽極板ａ・が設けられ、シャドウマス
ク素材（１）の両支部に所定厚さ、例えば０．５〜３．
０ｓのニッケルめっき管施すニッケルめっき装置■と第
３の水洗装置鰭が設けられている・更に四−２（３４Ｘ
３１）間Ｋｔｊ矢印０３方向からｃｏ、ガスマタは水蒸
気を導入し、ニッケルめっきされ大シャドウマスク素材
を焼鈍−と悪化処理１行なう黒化鼻処理装置ａＪが設け
られている■とれらを通過したフラットマスクＯ形成さ
れたシャドウマスク素材（１）はビックオ７工ＳｔＳて
、７ラツ）マスクが抜き申られこＯフラットアスクはプ
レス成形されシャドウマスクが完成する・ 仁のようにシャドウマスク素材のエツチング工程、レジ
スト膜除去工ＩＮＫ続いてニッケルめっき工程、熱部理
工Ｓｔ−貫して行なうことにょ〉従来のシャドウマスク
素材のニッケルめっき工場で必要であつえローディング
、アンローディング、電解脱脂、水洗、ＩＩＷＩＲ処理
、水洗、乾燥、など０諸工１が全く不要となるばか）で
なく、電子ビーム通過孔部Ｏ寸法の変化がなくなるため
、最終的にシャドウマスクの品質向上、歩留向上管もえ
もした。ｔた従来の黒化兼用焼鈍で必要であった７２ツ
トマスクのローディジグ、アンローディング、積重ねな
どの作業が不要とな〕、更に炉に入れるブックトマスク
遮積重ねてな％Ａ丸め黒化膜厚の不均一が非常に小さく
なった０ このＪ１１％旭理炉内０１ＦＩＩ気ガスの組成はシャド
ウマスク素材の焼鈍４Ｉ性に合わせて選定し光Ｓ＊域に
より適轟に選べばよいし、また予めニッケルめつｔｉを
施しであるため、黒化膜厚が薄くてもカラー受像管の製
造工程中の加熱工程におｉても錆の発生がないため追加
の黒化処理管必要とせず、完全な黒化兼焼鈍が可能とな
つえ０ 発明の効果 上述のように本発明のシャドウマスクの製造方法によれ
ばカッ−受像管に装着されるシャドウマスクの製造コス
トを低減化させるだゆでなく、電子ビーム通過孔部の寸
法精度Ｏ向上、晶化膜厚Ｏ均一化が得られるＯでシャド
ウマスクのみならず、カラー受像管の画面の品位を向上
させることが可能となつ九・
図は本実Ｗ１４０シャドウマスクＯ゛製造方法Ｏ−実施
例に用いられる一連Ｏ処ｌ装置を示す説明用簡略断函図
であるｅ １・・・シャドウアスク素材 ４・・・エツチング鉄量
５、？、ｕ・・・水洗装置 ６・・・レジスジ膜除去
装置１】・・・ニッケルめつｉｉ装置１４・・・黒化、
熱処理糾置代理人 弁理士 井 上 −男
例に用いられる一連Ｏ処ｌ装置を示す説明用簡略断函図
であるｅ １・・・シャドウアスク素材 ４・・・エツチング鉄量
５、？、ｕ・・・水洗装置 ６・・・レジスジ膜除去
装置１】・・・ニッケルめつｉｉ装置１４・・・黒化、
熱処理糾置代理人 弁理士 井 上 −男
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１） 両生爾に、レジスト膜を被着形威し、露光工程
、ａＳ工＠を経て前記両生面の所定位置にレジスト膜が
形成された長大のシャドウマス、り素材ｔエツチング装
置及び第１０水洗装置によ〕所定の電子ビー五通過孔部
を穿設する工程と、レジスト除＊装置及び第２０水洗装
置によ〕残存するレジスト膜を除去する工程と、ニッケ
ルめっき装置及び第３０水洗装置によ〕前記両生１ｉｉ
Ｋ所定厚のニッケルめっき層を形成する工程と、所定雰
囲気を有すゐ黒化、熱鵡理装置によ〕焼鈍、黒化する工
程と１ｍ次所定の速度で通過させることｔ特徴とするシ
ャドウマスクの製造方法 （２１所定厚のニッケルめっき層が０．５〜３．０μで
あることｔ４！徴とする特許請求の範囲第１項記載のシ
ャドウマスクの製造方法 （３）所定雰囲気が水蒸気またはＣＯ！ガスを含む雰囲
気である仁とを特徴とする特許請求のＩｉ囲落第１項え
は第２項記載のシャドクマスクＯ製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56190538A JPS5893145A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | シヤドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56190538A JPS5893145A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | シヤドウマスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5893145A true JPS5893145A (ja) | 1983-06-02 |
| JPH0222974B2 JPH0222974B2 (ja) | 1990-05-22 |
Family
ID=16259745
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56190538A Granted JPS5893145A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | シヤドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5893145A (ja) |
-
1981
- 1981-11-30 JP JP56190538A patent/JPS5893145A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0222974B2 (ja) | 1990-05-22 |
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