JPS59104065A - 遠心乾燥装置 - Google Patents
遠心乾燥装置Info
- Publication number
- JPS59104065A JPS59104065A JP21174082A JP21174082A JPS59104065A JP S59104065 A JPS59104065 A JP S59104065A JP 21174082 A JP21174082 A JP 21174082A JP 21174082 A JP21174082 A JP 21174082A JP S59104065 A JPS59104065 A JP S59104065A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carrier
- drying device
- rotation
- centrifugal
- centrifugal drying
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 6
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 241000257465 Echinoidea Species 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
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- 241001071861 Lethrinus genivittatus Species 0.000 description 1
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Landscapes
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は薄板の遠心乾燥装置に関する。
従来、半導体装置−の製造に用いられるウェハやマスク
等の薄板の乾燥は、薄板表面に付着している水を遠心力
により除去する方法によって行なわれて（・る。以下薄
板としてウエノ・を例に挙げて説明する。
等の薄板の乾燥は、薄板表面に付着している水を遠心力
により除去する方法によって行なわれて（・る。以下薄
板としてウエノ・を例に挙げて説明する。
この遠心力を用いる方法では、複数枚のウニ／％をキャ
リアに収納し、これを遠心乾燥装置に固定したのら、数
分間高速で回転しウェハ上の水を除去する。
リアに収納し、これを遠心乾燥装置に固定したのら、数
分間高速で回転しウェハ上の水を除去する。
遠心乾燥装置に固定されるキャリアの数は、回転バラン
ス、作業能率等から４個以上のものが多く用いられてい
る。
ス、作業能率等から４個以上のものが多く用いられてい
る。
第１図は従来の遠心乾燥装置の一例の平面図である。同
図において、ウニ／Ｓｌを収納した４個のキャリア２が
、回転中心４を軸対称として回転ホルダ３に固定されて
いる。なお、５は遠心乾燥装置の外壁である。１個のキ
ャリア２に例えば２５枚のウェハ１を収納できるとすれ
ば、一度に１００枚のウェハの乾燥が可能である。しか
しながら装置が大型となり、広い設Ｍ場所を必要とする
と共に、簡単に移転できない欠点がある。
図において、ウニ／Ｓｌを収納した４個のキャリア２が
、回転中心４を軸対称として回転ホルダ３に固定されて
いる。なお、５は遠心乾燥装置の外壁である。１個のキ
ャリア２に例えば２５枚のウェハ１を収納できるとすれ
ば、一度に１００枚のウェハの乾燥が可能である。しか
しながら装置が大型となり、広い設Ｍ場所を必要とする
と共に、簡単に移転できない欠点がある。
最近、少量のウェハを扱う場合に便利な様に、１個のキ
ャリアを固定できる小型の遠心乾燥装置が用（・られる
ようになった。
ャリアを固定できる小型の遠心乾燥装置が用（・られる
ようになった。
第２図は従来の小型の遠心乾燥装置の平面図である。同
図にお（・て１個のキャリア２は装置の中上部に固定さ
れるため装置とは極めて／」へ型となっている。しかし
ながら、この小型の遠心乾燥装置では、ウェハ１上に回
転中心４があるため、この部分に水分が残り乾燥が不完
全に１よるという欠点を有する。
図にお（・て１個のキャリア２は装置の中上部に固定さ
れるため装置とは極めて／」へ型となっている。しかし
ながら、この小型の遠心乾燥装置では、ウェハ１上に回
転中心４があるため、この部分に水分が残り乾燥が不完
全に１よるという欠点を有する。
本発明の目的は、上記欠点を除去し、薄板上に回転の中
心が位置せず、乾燥２り″−冗全に行なえる小型の遠心
乾燥装置？提供することにある。
心が位置せず、乾燥２り″−冗全に行なえる小型の遠心
乾燥装置？提供することにある。
本発明の遠心乾燥装置は、ゆ数枚の薄板を一定間隔をお
いて保持する１個のキャリアを前記薄板が回転中心ρ・
らはずれるように設置可能な設を部と、この設置部に対
応して設けられたバランブーとを有する回転ホルダーと
を・含んで構成される。
いて保持する１個のキャリアを前記薄板が回転中心ρ・
らはずれるように設置可能な設を部と、この設置部に対
応して設けられたバランブーとを有する回転ホルダーと
を・含んで構成される。
本発明によれば、薄板上に回転中心が位置しない様にキ
ャリアを固定できる設置部を有するため全ての薄板を完
全に乾燥することができ、かつ小型の装置と１よる。
ャリアを固定できる設置部を有するため全ての薄板を完
全に乾燥することができ、かつ小型の装置と１よる。
次に本発明を実施例を用いて詳細に説明する。
第３図は本発明の一実施例の平面図である。
第３図にお（・て、ウェハ１が収納された１個のキャリ
ア２は回転ホルダー３内の設置部７内におかれ、固定治
具等により回転ホルダーに固定されている。一方、回転
中心４の反対側には重量の調節可能なバランサー６が固
定されて（・る。この〕くランサー６はウェハ１の収納
されたキャリア２０重さとバランスをとるために設置さ
れており、例えば、ウェハ５枚及び１０枚分の重さを増
減できるようになっている。５枚以下のウエノ・の増減
についてはキャリア２内にダミーのウェハな収納ずれば
よい。
ア２は回転ホルダー３内の設置部７内におかれ、固定治
具等により回転ホルダーに固定されている。一方、回転
中心４の反対側には重量の調節可能なバランサー６が固
定されて（・る。この〕くランサー６はウェハ１の収納
されたキャリア２０重さとバランスをとるために設置さ
れており、例えば、ウェハ５枚及び１０枚分の重さを増
減できるようになっている。５枚以下のウエノ・の増減
についてはキャリア２内にダミーのウェハな収納ずれば
よい。
回転ホルダー３は連結しているモーター（しｊ示せず）
を始動することにより高速に回転する。回転時間はモー
ターの回転速度により異るが、通常は１０分間前後であ
る。この回転にＪる遠心力によりウェハ１表面の水は、
第４図に示したキャリア２の孔８かも飛散しホルダー３
のすき間を通り遠心乾燥装置の外壁５に当って下降する
。ウエノ・１上には回転中心４が位置することがな（・
ので、ウェハ１に付着じた水は全て遠心力により除去さ
れるためウェハ１の乾燥は完全となる。
を始動することにより高速に回転する。回転時間はモー
ターの回転速度により異るが、通常は１０分間前後であ
る。この回転にＪる遠心力によりウェハ１表面の水は、
第４図に示したキャリア２の孔８かも飛散しホルダー３
のすき間を通り遠心乾燥装置の外壁５に当って下降する
。ウエノ・１上には回転中心４が位置することがな（・
ので、ウェハ１に付着じた水は全て遠心力により除去さ
れるためウェハ１の乾燥は完全となる。
半導体装置の製造工程では、ウエノ・の水洗工程は多（
・。ウェハの乾燥が不完全であると、水中の不純物が残
留し半導体素子の特性に悪影響を与えるが、本発明によ
れば少量のウエノ・の乾燥を完全に行うことができる。
・。ウェハの乾燥が不完全であると、水中の不純物が残
留し半導体素子の特性に悪影響を与えるが、本発明によ
れば少量のウエノ・の乾燥を完全に行うことができる。
上記実施例では、薄板としてウェハを用いて説明したが
、これに限定されるものではなく水洗後の乾燥を完全に
行う必要のある全ての薄板の乾燥に応用できる。
、これに限定されるものではなく水洗後の乾燥を完全に
行う必要のある全ての薄板の乾燥に応用できる。
以上詳細に説明したように、本発明によれば薄板の乾燥
が完全に行なえる小型の遠心乾燥装置が得られるのでそ
の効果は大きい。
が完全に行なえる小型の遠心乾燥装置が得られるのでそ
の効果は大きい。
第１図は従来の遠心乾燥装置の一例の平面図、第２図は
従来の小型の遠心乾燥装置の平面図、第３図は本発明の
一実施例の平面図、第４図はキャリアの平面図である。 １・・・ウェハ、２・・・キャリア、３・・・回転ホル
ダー、４・・・回転中心、５：・・９Ｓ壁、６・・・バ
ランサー、７・・・設置部。
従来の小型の遠心乾燥装置の平面図、第３図は本発明の
一実施例の平面図、第４図はキャリアの平面図である。 １・・・ウェハ、２・・・キャリア、３・・・回転ホル
ダー、４・・・回転中心、５：・・９Ｓ壁、６・・・バ
ランサー、７・・・設置部。
Claims (1)
- 複数枚の薄板を一定間隔をおいて保持する１個のキャリ
アを前記薄板が回転中心からはずれるように設置可能な
設置部と、該設置部と対応して設けられたバランサーと
を有する回転ホルダーとを含むことを特徴とする遠心乾
燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21174082A JPS59104065A (ja) | 1982-12-02 | 1982-12-02 | 遠心乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21174082A JPS59104065A (ja) | 1982-12-02 | 1982-12-02 | 遠心乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59104065A true JPS59104065A (ja) | 1984-06-15 |
Family
ID=16610797
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21174082A Pending JPS59104065A (ja) | 1982-12-02 | 1982-12-02 | 遠心乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59104065A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05283392A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | スピンドライヤー |
| USRE37627E1 (en) | 1986-06-12 | 2002-04-09 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Wafer centrifugal drying apparatus |
-
1982
- 1982-12-02 JP JP21174082A patent/JPS59104065A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE37627E1 (en) | 1986-06-12 | 2002-04-09 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Wafer centrifugal drying apparatus |
| JPH05283392A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | スピンドライヤー |
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