JPS63121801A - 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 - Google Patents
合成樹脂製光学部品の反射防止膜Info
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- JPS63121801A JPS63121801A JP61268418A JP26841886A JPS63121801A JP S63121801 A JPS63121801 A JP S63121801A JP 61268418 A JP61268418 A JP 61268418A JP 26841886 A JP26841886 A JP 26841886A JP S63121801 A JPS63121801 A JP S63121801A
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- Japan
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- synthetic resin
- film
- antireflection film
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、合成樹脂製光学部品の反射防止膜に関する。
[従来の技術]
近年、レンズなどの光学部品の素材には、無機ガラスに
換えて、軽量でかつ加工の容易な合成樹脂が多く用いら
れるようになってきた。ところが、この合成樹脂製光学
部品は、無機ガラスを素材としたものと同様に光の反射
が大きく、例えばレンズ片面で約4%の反射率を有して
おり、また軟らかいために表面に傷が付き易いという問
題がある。このため、合成樹脂製光学部品には、硬化保
護を兼ねた反射防止膜を施す必要がある。
換えて、軽量でかつ加工の容易な合成樹脂が多く用いら
れるようになってきた。ところが、この合成樹脂製光学
部品は、無機ガラスを素材としたものと同様に光の反射
が大きく、例えばレンズ片面で約4%の反射率を有して
おり、また軟らかいために表面に傷が付き易いという問
題がある。このため、合成樹脂製光学部品には、硬化保
護を兼ねた反射防止膜を施す必要がある。
反射防止膜は、通常、真空蒸着法により形成するもので
、無機ガラス基板に蒸着膜を形成するには、200〜4
00℃で基板加熱を行って強固な蒸着膜を得ている。し
かしながら、合成樹脂は、200〜400℃で加熱する
と劣化9分解してしまうので、無機ガラスのような基板
加熱による蒸着膜形成は不可能である。
、無機ガラス基板に蒸着膜を形成するには、200〜4
00℃で基板加熱を行って強固な蒸着膜を得ている。し
かしながら、合成樹脂は、200〜400℃で加熱する
と劣化9分解してしまうので、無機ガラスのような基板
加熱による蒸着膜形成は不可能である。
そこで、従来は、例えば60℃以下の温度に保持した状
態の下で真空蒸着を行って、3層構造の反射防止膜を得
ていた。従来、この反射防止膜としては、例えば特開昭
59−204801号公報に開示されるように、合成樹
脂製光学部品の表面に、該表面側から順に第1層、第2
層及び第3層とし、第1層を5i02 、第2層をZr
O2及び第3層を5i02により形成したもの、または
第1層を5i02 。
態の下で真空蒸着を行って、3層構造の反射防止膜を得
ていた。従来、この反射防止膜としては、例えば特開昭
59−204801号公報に開示されるように、合成樹
脂製光学部品の表面に、該表面側から順に第1層、第2
層及び第3層とし、第1層を5i02 、第2層をZr
O2及び第3層を5i02により形成したもの、または
第1層を5i02 。
第2層をAl2O3及び第3層を5iOzとしたもの、
また特開昭60−129701号公報に開示されるよう
に、第1層をSiO2,第2Mを14gF2及び第3層
を5i02としたもの等がある。
また特開昭60−129701号公報に開示されるよう
に、第1層をSiO2,第2Mを14gF2及び第3層
を5i02としたもの等がある。
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、上記従来の各反射防止膜は、初期性能で
のクラックの発生はないものの、分光反射率がいずれも
0.5%以上(λ=780〜820nm)であり、可視
波長領域での反射防止膜ではあるが、反射防止効果とし
ては充分ではなかった。また、耐久性試験(60”0.
95%。
のクラックの発生はないものの、分光反射率がいずれも
0.5%以上(λ=780〜820nm)であり、可視
波長領域での反射防止膜ではあるが、反射防止効果とし
ては充分ではなかった。また、耐久性試験(60”0.
95%。
150HR170’0.80%、150)(R180℃
、60%、150HR1温度サイク、II/(+70℃
〜−30℃;2回))後では、全ての反射防止膜にクラ
ックが発生してしまい1分光反射率も初期性能と同様に
満足できるものではなかった。
、60%、150HR1温度サイク、II/(+70℃
〜−30℃;2回))後では、全ての反射防止膜にクラ
ックが発生してしまい1分光反射率も初期性能と同様に
満足できるものではなかった。
[問題点を解決するための手段]
上記従来の問題点を解決するために、本発明は1合成樹
脂製光学部品の表面に、該表面側から順に第1層、第2
層及び第3層の3層構造で形成した合成樹脂製光学部品
の反射防止膜において、前記第1層を二酸化ケイ素(S
in)、前記第2層を二酸化セリウム(CeOz) 、
前記第3層を二酸化ケイ素(Si02)により形成した
ものである。
脂製光学部品の表面に、該表面側から順に第1層、第2
層及び第3層の3層構造で形成した合成樹脂製光学部品
の反射防止膜において、前記第1層を二酸化ケイ素(S
in)、前記第2層を二酸化セリウム(CeOz) 、
前記第3層を二酸化ケイ素(Si02)により形成した
ものである。
[作用]
かかる構成の合成樹脂製光学部品の反射防止膜において
、クラック(膜割れ)防止については、合成樹脂との密
着作用が大きいSiOが寄与しており、膜応力による各
膜層又は3層全体での膜破壊の防止には、SiD (
圧縮応力)とCeO2(引張応力)と5i02(圧縮応
力)とのバランス構成が寄与している。一方、分光反射
率については、各膜層の屈折率、膜厚の設定により調整
し得るものである。
、クラック(膜割れ)防止については、合成樹脂との密
着作用が大きいSiOが寄与しており、膜応力による各
膜層又は3層全体での膜破壊の防止には、SiD (
圧縮応力)とCeO2(引張応力)と5i02(圧縮応
力)とのバランス構成が寄与している。一方、分光反射
率については、各膜層の屈折率、膜厚の設定により調整
し得るものである。
[実施例]
(第1実施例)
各膜層は、I X I 0−5Torrよりも高真空の
真空゛ 槽内において常温(例えば23〜25℃)で電
子銃蒸着法又は抵抗加熱法によって真空蒸着した。
真空゛ 槽内において常温(例えば23〜25℃)で電
子銃蒸着法又は抵抗加熱法によって真空蒸着した。
合成樹脂製光学部品は、第1図に示すように、基板lを
アクリル樹脂により形成した。基板1の表面には、Si
Oからなる第1層2を蒸着し、第1層2上には、CeO
2からなる第2層3を蒸着し、さらに第2層3上には、
5i02からなる第3層4を蒸着した0本実施例におけ
る各層の屈折率及び機械的膜厚(ms)は、表1に示す
ように設けた。
アクリル樹脂により形成した。基板1の表面には、Si
Oからなる第1層2を蒸着し、第1層2上には、CeO
2からなる第2層3を蒸着し、さらに第2層3上には、
5i02からなる第3層4を蒸着した0本実施例におけ
る各層の屈折率及び機械的膜厚(ms)は、表1に示す
ように設けた。
表 1
ここに、第1層2のSiOは、常温での真空蒸着であっ
ても、5i02と比較してアクリル樹脂との親和性・密
着性が良好でアモルファス化し易いため、脆性向上作用
として働く。また、第2層3のGeO2は、第1層2及
び第3層4の圧縮応力に対して膜応力(引張応力)とな
って、キャンセル膜として働き、全体として膜応力緩和
作用が働いている。
ても、5i02と比較してアクリル樹脂との親和性・密
着性が良好でアモルファス化し易いため、脆性向上作用
として働く。また、第2層3のGeO2は、第1層2及
び第3層4の圧縮応力に対して膜応力(引張応力)とな
って、キャンセル膜として働き、全体として膜応力緩和
作用が働いている。
(第2実施例)
前記第1実施例と同様の反射防止膜を得た。ただし、本
実施例における各層の屈折率及び機械的膜圧(n■)は
、表2に示すように設けた。
実施例における各層の屈折率及び機械的膜圧(n■)は
、表2に示すように設けた。
表 2
上記第1及び第2実施例で得た反射防止膜について、初
期性能でのクラック発生状況及び分光反射率、または耐
久性能でのクラック発生状況及び耐久試験後の分光反射
率を調べ、その結果を表3に示した。なお、比較のため
に従来の反射防止膜についても同一条件で性能試験を行
い、その結果を表3に併記した。
期性能でのクラック発生状況及び分光反射率、または耐
久性能でのクラック発生状況及び耐久試験後の分光反射
率を調べ、その結果を表3に示した。なお、比較のため
に従来の反射防止膜についても同一条件で性能試験を行
い、その結果を表3に併記した。
表 3
従来例1〜3の反射防止膜構造を表4に示す。
表 4
また1表3中、耐久性能試験a −dの加熱、加湿時間
は、 a:60℃、95%、150HR b;70℃、80%、150HR c;80℃、60%、150HR d;温度サイクル(+70℃〜−30℃)を2回 とした。
は、 a:60℃、95%、150HR b;70℃、80%、150HR c;80℃、60%、150HR d;温度サイクル(+70℃〜−30℃)を2回 とした。
第2図から第7図までは、それぞれ横軸に波長(nm)
、縦軸に分光反射率(%)をとったもので、分光反射率
特性図である。
、縦軸に分光反射率(%)をとったもので、分光反射率
特性図である。
第2図及び第3図において、破線5は第1゜2実施例に
おける基板lのみの分光反射率、実線6は第1実施例に
おいて第1層2を蒸着したときの分光反射率、実線7は
第1実施例において第2層3まで蒸着したときの分光反
射率、鎖線8は第2実施例において第1層2を蒸着した
ときの分光反射率、鎖線9は第2実施例において第2層
3まで蒸着したときの分光反射率を示す。
おける基板lのみの分光反射率、実線6は第1実施例に
おいて第1層2を蒸着したときの分光反射率、実線7は
第1実施例において第2層3まで蒸着したときの分光反
射率、鎖線8は第2実施例において第1層2を蒸着した
ときの分光反射率、鎖線9は第2実施例において第2層
3まで蒸着したときの分光反射率を示す。
また、第4図において、実線10は第1実施例における
反射防止膜の初期性能での分光反射率、破線11はその
反射防止膜の耐久性能試験□ (70℃、80%、1
50HR)後での分光反射率を示す。第5図において、
実線12は第2実施例における反射防止膜の初期性能で
の分光反射率、破!1113はその反射防止膜の耐久性
能試験(70℃、80%、150HR)後での分光反射
率を示す。
反射防止膜の初期性能での分光反射率、破線11はその
反射防止膜の耐久性能試験□ (70℃、80%、1
50HR)後での分光反射率を示す。第5図において、
実線12は第2実施例における反射防止膜の初期性能で
の分光反射率、破!1113はその反射防止膜の耐久性
能試験(70℃、80%、150HR)後での分光反射
率を示す。
第6図及び第7図において、実線14,15゜16は、
それぞれ従来例1,2.3における反射防止膜の初期性
能での分光反射率を示す。
それぞれ従来例1,2.3における反射防止膜の初期性
能での分光反射率を示す。
ここで、第4図の実線10から判るように、第1実施例
の反射防止膜は、初期性能で0゜05%(入=800n
m)の分光反射率を示し、波長域λ= 780〜820
!I11でも0.03%(λ=780nm)、0.16
%(λ=820nm)であり、表3にも示したように充
分に分光反射率0゜5%以下を満足している。一方、耐
久性能試験後では、第1層2の経時変化が心配されたが
、第4図の実線11から判るように、耐久性能試験前と
ほとんど変化なく、波長域λ=780〜820nmで分
光反射率0.5%以下を充分に満足している。
の反射防止膜は、初期性能で0゜05%(入=800n
m)の分光反射率を示し、波長域λ= 780〜820
!I11でも0.03%(λ=780nm)、0.16
%(λ=820nm)であり、表3にも示したように充
分に分光反射率0゜5%以下を満足している。一方、耐
久性能試験後では、第1層2の経時変化が心配されたが
、第4図の実線11から判るように、耐久性能試験前と
ほとんど変化なく、波長域λ=780〜820nmで分
光反射率0.5%以下を充分に満足している。
また、第5図の実線12から判るように、第2実施例の
反射防止膜は、初期性能で0゜09%(λ=800nm
)の分光反射率を示し、波長域λ= 780〜820n
mでも0.09%(入=780nm)、0.17%(λ
=820nm)であり、第1実施例と同様に充分に分光
反射率0゜5%以下を満足している。さらに、耐久性能
試験前とほとんど変化なく、波長域λ=780〜820
nmで分光反射率0.5%を充分に満足している。
反射防止膜は、初期性能で0゜09%(λ=800nm
)の分光反射率を示し、波長域λ= 780〜820n
mでも0.09%(入=780nm)、0.17%(λ
=820nm)であり、第1実施例と同様に充分に分光
反射率0゜5%以下を満足している。さらに、耐久性能
試験前とほとんど変化なく、波長域λ=780〜820
nmで分光反射率0.5%を充分に満足している。
これに対し、第6図及び第7図の実線14゜15.16
から判るように、従来例1,2.3の各反射防止膜は、
いずれも初期性能時点で既に分光反射率が0.5%以上
であり、好ましくなかった。
から判るように、従来例1,2.3の各反射防止膜は、
いずれも初期性能時点で既に分光反射率が0.5%以上
であり、好ましくなかった。
なお、前記各実施例では、第1層2及び第2層3の機械
的膜厚をそれぞれ30又は31nmとしたが、例えば2
0nm程度であっても同様の効果を得ることができる。
的膜厚をそれぞれ30又は31nmとしたが、例えば2
0nm程度であっても同様の効果を得ることができる。
すなわち、第1層2及び第2層3の機械的膜厚5011
11以下であれば、基材lの膨張に追従でき、特に、第
1層2の機械的膜厚50r+m以下であると分光反射率
の経時変化を著しく抑制することができる。
11以下であれば、基材lの膨張に追従でき、特に、第
1層2の機械的膜厚50r+m以下であると分光反射率
の経時変化を著しく抑制することができる。
[発明の効果]
以上のように、本発明の合成樹脂製光学部品の反射防止
膜によれば、3層構造の第1層をSiO。
膜によれば、3層構造の第1層をSiO。
第2層をCeO2*第3層を5i02により形成してい
るので、初期性能では勿論のこと、耐久性能試験後であ
ってもクシツクの発生がなく、しかも分光反射率0.5
%以下を充分に満足することができる。
るので、初期性能では勿論のこと、耐久性能試験後であ
ってもクシツクの発生がなく、しかも分光反射率0.5
%以下を充分に満足することができる。
第1図は本発明の反射防止膜の3層構造を示す縦断正面
図、第2図及び第3図は第1及び第2実施例の反射防止
膜製造過程での分光反射率特性図、第4図は第1実施例
の反射防止膜の分光反射率特性図、第5図は第2実施例
の反射防止膜の分光反射率特性図、第6図及び第7図は
従来例1゜2.3の反射防止膜の分光特性図である。 1・・・基板(アクリル樹脂) 2・・・第1層(SiO) 3・・・第2層(Ce02) 4・・・第3層(SiO2) 特許出願人 オリンパス光学工業株式会社第2図 波 長 手続補正書(自発) 昭和62年1月8日 !、事件の表示 昭和61年特許願第268418号 2、発明の名称 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都渋谷区幡ケ谷2丁目43番2号名 称
(037)オリンパス光学工業株式会社代表者 下
山敏部 4、代 理 人 7、補正の内容 (1) 明細書第6頁に記載する表1を別紙の通り補
正する。 (2明細書第7頁に記載する表2を別紙の通り補正する
。 (3)明細書第9頁に記載する表4を別紙の通り補正す
る。 (4)図面中第6図および第7図を別紙補正図面の通り
補正する。 8、添付書類の目録 (1)別 紙 1 通 (の 補正図面 1 通
別 紙 表 1 表 2 表 4 第7図 波 長 波 長
図、第2図及び第3図は第1及び第2実施例の反射防止
膜製造過程での分光反射率特性図、第4図は第1実施例
の反射防止膜の分光反射率特性図、第5図は第2実施例
の反射防止膜の分光反射率特性図、第6図及び第7図は
従来例1゜2.3の反射防止膜の分光特性図である。 1・・・基板(アクリル樹脂) 2・・・第1層(SiO) 3・・・第2層(Ce02) 4・・・第3層(SiO2) 特許出願人 オリンパス光学工業株式会社第2図 波 長 手続補正書(自発) 昭和62年1月8日 !、事件の表示 昭和61年特許願第268418号 2、発明の名称 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都渋谷区幡ケ谷2丁目43番2号名 称
(037)オリンパス光学工業株式会社代表者 下
山敏部 4、代 理 人 7、補正の内容 (1) 明細書第6頁に記載する表1を別紙の通り補
正する。 (2明細書第7頁に記載する表2を別紙の通り補正する
。 (3)明細書第9頁に記載する表4を別紙の通り補正す
る。 (4)図面中第6図および第7図を別紙補正図面の通り
補正する。 8、添付書類の目録 (1)別 紙 1 通 (の 補正図面 1 通
別 紙 表 1 表 2 表 4 第7図 波 長 波 長
Claims (2)
- (1)合成樹脂製光学部品の表面に、該表面側から順に
第1層、第2層及び第3層の3層構造で形成した合成樹
脂製光学部品の反射防止膜において、前記第1層は一酸
化ケイ素からなり、前記第2層は二酸化セリウムからな
り、前記第3層は二酸化ケイ素からなることを特徴とす
る合成樹脂製光学部品の反射防止膜。 - (2)前記第1層及び第2層の各機械的膜厚はそれぞれ
50nm以下であることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の合成樹脂製光学部品の反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61268418A JPS63121801A (ja) | 1986-11-11 | 1986-11-11 | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61268418A JPS63121801A (ja) | 1986-11-11 | 1986-11-11 | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63121801A true JPS63121801A (ja) | 1988-05-25 |
Family
ID=17458208
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61268418A Pending JPS63121801A (ja) | 1986-11-11 | 1986-11-11 | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63121801A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02230101A (ja) * | 1989-03-02 | 1990-09-12 | Kyocera Corp | 合成樹脂光学部品の反射防止膜 |
| JPH0836101A (ja) * | 1994-07-22 | 1996-02-06 | Victor Co Of Japan Ltd | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 |
| US6972136B2 (en) * | 2003-05-23 | 2005-12-06 | Optima, Inc. | Ultra low residual reflection, low stress lens coating and vacuum deposition method for making the same |
| GB2462604A (en) * | 2008-08-11 | 2010-02-17 | Toshiba Res Europ Ltd | Thin film structure for use in bioassay applications |
| WO2018174049A1 (ja) * | 2017-03-24 | 2018-09-27 | Hoya株式会社 | 撥水性反射防止膜付きレンズ及びその製造方法 |
-
1986
- 1986-11-11 JP JP61268418A patent/JPS63121801A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02230101A (ja) * | 1989-03-02 | 1990-09-12 | Kyocera Corp | 合成樹脂光学部品の反射防止膜 |
| JPH0836101A (ja) * | 1994-07-22 | 1996-02-06 | Victor Co Of Japan Ltd | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 |
| US6972136B2 (en) * | 2003-05-23 | 2005-12-06 | Optima, Inc. | Ultra low residual reflection, low stress lens coating and vacuum deposition method for making the same |
| US7311938B2 (en) | 2003-05-23 | 2007-12-25 | Optima, Inc. | Ultra low residual reflection, low stress lens coating |
| GB2462604A (en) * | 2008-08-11 | 2010-02-17 | Toshiba Res Europ Ltd | Thin film structure for use in bioassay applications |
| GB2462604B (en) * | 2008-08-11 | 2011-08-10 | Toshiba Res Europ Ltd | Thin film structure and method for fabricating a thin film structure |
| WO2018174049A1 (ja) * | 2017-03-24 | 2018-09-27 | Hoya株式会社 | 撥水性反射防止膜付きレンズ及びその製造方法 |
| JP2018159892A (ja) * | 2017-03-24 | 2018-10-11 | Hoya株式会社 | 撥水性反射防止膜付きレンズ及びその製造方法 |
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