JPS59116400A - メツキ浴濃度の自動制御方法 - Google Patents
メツキ浴濃度の自動制御方法Info
- Publication number
- JPS59116400A JPS59116400A JP23389482A JP23389482A JPS59116400A JP S59116400 A JPS59116400 A JP S59116400A JP 23389482 A JP23389482 A JP 23389482A JP 23389482 A JP23389482 A JP 23389482A JP S59116400 A JPS59116400 A JP S59116400A
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- Japan
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- metal
- plating
- tank
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はメッキ浴特に不溶解電極型電気メッキにおける
メッキ浴の濃度の自動制御方法に関する。
メッキ浴の濃度の自動制御方法に関する。
鉛等の不溶性電極を用いた鋼板の電気メツキ設備におい
ては、安定なメッキ性を維持するだめにメッキ浴濃度を
一定に保つことが重要である。特に亜鉛と鉄の合金メッ
キを行う場合には、より厳しくそれぞれの金属イオン濃
度を一定に保つ必要がある。
ては、安定なメッキ性を維持するだめにメッキ浴濃度を
一定に保つことが重要である。特に亜鉛と鉄の合金メッ
キを行う場合には、より厳しくそれぞれの金属イオン濃
度を一定に保つ必要がある。
従来、亜鉛単独の電気メッキにおけるメッキ浴濃度制御
は、たとえは特公昭５３−２４８９７号公報にみられる
ように、金、属溶解槽内に適当量の亜鉛塊を入れておき
、メッキ液循環タンクと金属溶解槽の間にメッキ液を循
環させ、その循環流量を調節したり、０Ｎ−ＯＦＦする
ことによシ行われていた。
は、たとえは特公昭５３−２４８９７号公報にみられる
ように、金、属溶解槽内に適当量の亜鉛塊を入れておき
、メッキ液循環タンクと金属溶解槽の間にメッキ液を循
環させ、その循環流量を調節したり、０Ｎ−ＯＦＦする
ことによシ行われていた。
ところが、亜鉛と鉄の合金電気メッキを行うに当シ、鉄
の溶解を行う場合、金属溶解槽へのメッキ液循環を長時
間停止すれは離溶性の水酸化鉄の析出が生じ、その析出
に要する時間は溶解槽内の鉄の量や、メッキ浴組成によ
シ異なるが、一旦析出すると操業不能の事態にも々ｐか
ねない。このことから、メッキ液循環タンクと溶解槽間
のメッキ液は、短時間の停止を除き、水酸化鉄析出防止
の理由から常時循環させる必要がある。従って亜鉛と鉄
の合金メッキを行う場合は、前記従来の濃度制御方法は
適当でなく本質的に矛盾を含むことになる。
の溶解を行う場合、金属溶解槽へのメッキ液循環を長時
間停止すれは離溶性の水酸化鉄の析出が生じ、その析出
に要する時間は溶解槽内の鉄の量や、メッキ浴組成によ
シ異なるが、一旦析出すると操業不能の事態にも々ｐか
ねない。このことから、メッキ液循環タンクと溶解槽間
のメッキ液は、短時間の停止を除き、水酸化鉄析出防止
の理由から常時循環させる必要がある。従って亜鉛と鉄
の合金メッキを行う場合は、前記従来の濃度制御方法は
適当でなく本質的に矛盾を含むことになる。
本発明の目的は、金属溶解槽内にメッキ液を常時循環さ
せることが必要な電気メッキにおいても、メッキ浴の金
属イオン濃度を厳密に制仙ｊすることが可能な方法を提
供することにあＱｌこの目的を達成するための本発明の
メッキ浴濃度の自動制御方法は、メッキ液循環タンクと
、該メッキ液循環タンクへの水、薬液、酸液の補給装置
と、金属溶解槽と、該金属浴）９イ慴への金属投入装置
とを有し、前記メッキ液循環タンクと金属溶解槽の間の
循環路に金属溶解槽をバイパスさせるだめの弁を設けた
不溶解性電極型成気メッキ設備における電気メッキにお
いて、メッキ電流値を用いて鼻出した消費金属量と、前
配水、薬液、酸液の補給量に見会う金属量と、メッキ液
中の金属イオン濃度の測定値と目標値との差に応じて算
出した補正金属量との合計金属量を前記金属投入装置よ
シ金属溶解槽へ投入し、金属イオン濃度の測定値が目標
範囲を超えたときは前記弁を操作して金属溶解槽をバイ
パスすることを特徴とするものである。以下図面にもと
づき本発明の詳細な説明する。
せることが必要な電気メッキにおいても、メッキ浴の金
属イオン濃度を厳密に制仙ｊすることが可能な方法を提
供することにあＱｌこの目的を達成するための本発明の
メッキ浴濃度の自動制御方法は、メッキ液循環タンクと
、該メッキ液循環タンクへの水、薬液、酸液の補給装置
と、金属溶解槽と、該金属浴）９イ慴への金属投入装置
とを有し、前記メッキ液循環タンクと金属溶解槽の間の
循環路に金属溶解槽をバイパスさせるだめの弁を設けた
不溶解性電極型成気メッキ設備における電気メッキにお
いて、メッキ電流値を用いて鼻出した消費金属量と、前
配水、薬液、酸液の補給量に見会う金属量と、メッキ液
中の金属イオン濃度の測定値と目標値との差に応じて算
出した補正金属量との合計金属量を前記金属投入装置よ
シ金属溶解槽へ投入し、金属イオン濃度の測定値が目標
範囲を超えたときは前記弁を操作して金属溶解槽をバイ
パスすることを特徴とするものである。以下図面にもと
づき本発明の詳細な説明する。
図面は、本発明方法を実ｊｔ＝する電気メツキ設備の構
成の１例を示す。なお図面には、一点鎖線で囲んだ装置
（群）を１組しか図示していないが、亜鉛と鉄の合金メ
ッキを行う設備においてはこの装置（＃）が２！＃ｉ設
置されている。しかし濃度制御はそれぞれの金属（亜鉛
、鉄）イオンに着目して独立に行えはよいから、以下図
面にもとづく説明では亜鉛と鉄を特に区別せず金属とし
て説明する。
成の１例を示す。なお図面には、一点鎖線で囲んだ装置
（群）を１組しか図示していないが、亜鉛と鉄の合金メ
ッキを行う設備においてはこの装置（＃）が２！＃ｉ設
置されている。しかし濃度制御はそれぞれの金属（亜鉛
、鉄）イオンに着目して独立に行えはよいから、以下図
面にもとづく説明では亜鉛と鉄を特に区別せず金属とし
て説明する。
循環タンク１のメッキ液はポンプ２によりメッキ槽４へ
送られ、メッキに供はれた後、循環タンク１へ還流され
る。一方、ポンプ１２によシ常時メッキ液が循環タンク
１から金属溶解槽１３に送られ、沈澱槽１５、ポンプ１
６を経て循環タンクｌへ戻シ、メッキ槽４で消費された
金属を補給する。弁Ｖ−１，Ｖ−２は流路切替弁である
。補給される金属は金属投入装置１４から金属溶解槽１
３へ投入され、溶解される。
送られ、メッキに供はれた後、循環タンク１へ還流され
る。一方、ポンプ１２によシ常時メッキ液が循環タンク
１から金属溶解槽１３に送られ、沈澱槽１５、ポンプ１
６を経て循環タンクｌへ戻シ、メッキ槽４で消費された
金属を補給する。弁Ｖ−１，Ｖ−２は流路切替弁である
。補給される金属は金属投入装置１４から金属溶解槽１
３へ投入され、溶解される。
メッキの進行にともない、被メッキ材である鋼ストリッ
プ５によシメッキ液が持ち去られることによシ循環タン
クｌの液位が低下する。この液位を液面計６で測定し、
液位が予め設定された低いレベル″Ｌ＃まで低下すると
液面・酸ａ度制御装置８によシ、水タンク９．薬液タン
ク１０の弁Ｖ −３、Ｖ−４を開いて水および薬液を一
定量づつ補給する。一方、循環タンク１内の遊離硫酸濃
度を＃置針７で測定し、目標濃度になるように液面・酸
濃度制御装置８によ’）４ｊｍ酸タンク１１の弁Ｖ −
５を開いて補給する。この一連の動作を、循環タンクｌ
の液位が予め設定きれた高いレベル゛ｆ（”に達ブーる
まで繰返す。ここで、フリー硫酸一度の代少にＰｉ−１
値の管理を行ってもよい。
プ５によシメッキ液が持ち去られることによシ循環タン
クｌの液位が低下する。この液位を液面計６で測定し、
液位が予め設定された低いレベル″Ｌ＃まで低下すると
液面・酸ａ度制御装置８によシ、水タンク９．薬液タン
ク１０の弁Ｖ −３、Ｖ−４を開いて水および薬液を一
定量づつ補給する。一方、循環タンク１内の遊離硫酸濃
度を＃置針７で測定し、目標濃度になるように液面・酸
濃度制御装置８によ’）４ｊｍ酸タンク１１の弁Ｖ −
５を開いて補給する。この一連の動作を、循環タンクｌ
の液位が予め設定きれた高いレベル゛ｆ（”に達ブーる
まで繰返す。ここで、フリー硫酸一度の代少にＰｉ−１
値の管理を行ってもよい。
釡属投入量は、メッキ液ａ度制御装置１９によシ演算す
る。通常溶解槽への金属の投入は間欠的に投入する方式
が一般的であシ、一定時間々＠Ｔ（分）毎に４グ出しを
行ない平均切出し量は１回毎の投入量を加減することに
より調節する。
る。通常溶解槽への金属の投入は間欠的に投入する方式
が一般的であシ、一定時間々＠Ｔ（分）毎に４グ出しを
行ない平均切出し量は１回毎の投入量を加減することに
より調節する。
本発明においては、１回毎の投入金属量Ｍ（袷）は次式
により求める。
により求める。
Ｍ＝Ｍｆ１＋Ｍｆ２＋Ｍｂ ・・・
・・・・・・（１）Ｍｈは投入時間々隔Ｔ（分）内にメ
ッキ槽４で消費された金属量（ｋｇ）であシ、次式によ
シ算出する。
・・・・・・（１）Ｍｈは投入時間々隔Ｔ（分）内にメ
ッキ槽４で消費された金属量（ｋｇ）であシ、次式によ
シ算出する。
Ｍｆｔ ”” Ｋｆｘ ’ ｆ、、 Ｉｄｔ
・・・・・・・・・（２）ここで■はメッ
キ′ｍ流の実測値で、これ′ｆ：Ｔ分間積分したものに
比例係数Ｋｆ□を乗じた値がメッキのために消費された
金属量になる。
・・・・・・・・・（２）ここで■はメッ
キ′ｍ流の実測値で、これ′ｆ：Ｔ分間積分したものに
比例係数Ｋｆ□を乗じた値がメッキのために消費された
金属量になる。
１ＶＬｆ２は循環タンク１の液補充が行われたとき、そ
れに見合う金属量（梅）であシ、次式によ）算出する。
れに見合う金属量（梅）であシ、次式によ）算出する。
１°ｄｆ２ ＝ Ｋｆ２− Ｖ
−・−（３）ここでＶは、循環タンクｌの液位全
上昇させるために薄光された液の量であシ、液面ａ十６
の測定値よシ算出する。液補充が行われないときはＶは
零である。
−・−（３）ここでＶは、循環タンクｌの液位全
上昇させるために薄光された液の量であシ、液面ａ十６
の測定値よシ算出する。液補充が行われないときはＶは
零である。
Ｖ ＝ Ｓ ・ （Ｌ２ − Ｌｓ ）
−
曲・（４）ここにＳは循環タンクｌの断面積、Ｌ４ ｒ
Ｌ２は液補充前後の液位である。々お、補充液量Ｖは
水、薬液、硫酸の各糸紐に流星Ｍ１をつけて実測しても
よい。
−
曲・（４）ここにＳは循環タンクｌの断面積、Ｌ４ ｒ
Ｌ２は液補充前後の液位である。々お、補充液量Ｖは
水、薬液、硫酸の各糸紐に流星Ｍ１をつけて実測しても
よい。
Ｋｆ２は金４イオンの目１娯嬌度に応じて定まる係数で
ある。Ａ４ｂは、循環タンクｌの出側に設けた金属イオ
ン分析計３で一定の時間々噛Ｔ（分）毎に測定した濃度
Ｃｍと目標濃度Ｃｒとの差に応じて算出された該であり
、例えば良く知られた次式のＰＩＩ）演界を行う。
ある。Ａ４ｂは、循環タンクｌの出側に設けた金属イオ
ン分析計３で一定の時間々噛Ｔ（分）毎に測定した濃度
Ｃｍと目標濃度Ｃｒとの差に応じて算出された該であり
、例えば良く知られた次式のＰＩＩ）演界を行う。
ｊ
Ｍｂ ”Ｋｐ （ｅ ｊ ＋−Σｅｉ ＋ Ｔｄ（ｅｊ
−ｅ、−１） −＝−＝＝（５）Ｔｉ ＋＝ｓ ここで、Ｋｐ 、 Ｔｉ ｅ Ｔｄはそれぞれ比例ゲイ
ン、積分時間、微分時間である。ｅｊは今回測定時の濃
度差でろシ、 ｅｊ＝Ｃｒ−ｃｍ・・曲・・・（６） である。ｅ、−４は前回１ＥＩ１１定時の痩度差である
。
−ｅ、−１） −＝−＝＝（５）Ｔｉ ＋＝ｓ ここで、Ｋｐ 、 Ｔｉ ｅ Ｔｄはそれぞれ比例ゲイ
ン、積分時間、微分時間である。ｅｊは今回測定時の濃
度差でろシ、 ｅｊ＝Ｃｒ−ｃｍ・・曲・・・（６） である。ｅ、−４は前回１ＥＩ１１定時の痩度差である
。
ときの偏差を合計した値である。Ｍｆ□、Ｍ４２はフィ
ードフォワード的に投入する量であ、９、Ｍｂｆ、を濃
度の実測値にもとづいたフィードバック環である。
ードフォワード的に投入する量であ、９、Ｍｂｆ、を濃
度の実測値にもとづいたフィードバック環である。
循環タンクの大きさを十分に大きくしておけばＭｆｌ
＋Ｍｆ２の項を考慮しなくてもＭｂのみで制御すること
も可能ではあるが、濃度の変動が大きくかつ、金属イオ
ン分析計３が故障すれは全く制御が不能になる。Ｍｆｌ
＋Ｍｆ２項を加えることによシ外乱に対しても強く、
濃度変化を小さく抑えることが出来る。
＋Ｍｆ２の項を考慮しなくてもＭｂのみで制御すること
も可能ではあるが、濃度の変動が大きくかつ、金属イオ
ン分析計３が故障すれは全く制御が不能になる。Ｍｆｌ
＋Ｍｆ２項を加えることによシ外乱に対しても強く、
濃度変化を小さく抑えることが出来る。
以上で金属投入量Ｍが演算され、金属投入装置１４に投
入指令が出されＴ−分毎に投入される。また、操業条件
の変化により、メッキ消費蓋が減少し、メッキ液中の金
属イオンぴ度が上・昇することもめるので、金属イオン
分析計３の測・定値が１：１標値上り上昇したら弁Ｖ−
１を全閉し、同時に弁■−２を全開して金属溶解槽をバ
イパスし、濃度のあがシすぎを防止する。
入指令が出されＴ−分毎に投入される。また、操業条件
の変化により、メッキ消費蓋が減少し、メッキ液中の金
属イオンぴ度が上・昇することもめるので、金属イオン
分析計３の測・定値が１：１標値上り上昇したら弁Ｖ−
１を全閉し、同時に弁■−２を全開して金属溶解槽をバ
イパスし、濃度のあがシすぎを防止する。
本発明の方法は金属は必要な量だけ補給する方式である
ので、異常な操業とならない限シ、金属溶解槽１３をメ
ッキ液がバイパスされる時間が長くなることは無い。
ので、異常な操業とならない限シ、金属溶解槽１３をメ
ッキ液がバイパスされる時間が長くなることは無い。
本実施例設備で本発明方法を実施した結果、例えば鉄の
濃度変動は±１ｇ１ｔ以内に収まシ、メッキ液がバイパ
スされる時間中、水酸化鉄の析出が始まる時間に比べ１
／２０程度と問題なく小さいことが確認された。
濃度変動は±１ｇ１ｔ以内に収まシ、メッキ液がバイパ
スされる時間中、水酸化鉄の析出が始まる時間に比べ１
／２０程度と問題なく小さいことが確認された。
はて、（２）式の比例係数Ｋｆ、は、メッキ電流効率や
設備の操業条件によシ若干変動する。従って（２）式の
Ｍｆｌは本質的に誤差を持っている。そこでＫｔ、を学
習し、よシ真値に近づければａ夏制仰循度も一層向上し
、もし金属イオン分析計３が故障しても短時間なら（１
）式のＲＬｒ１１Ｍ１２項のみで金属溶解槽への金属の
切出し操業を継続することが出来る。
設備の操業条件によシ若干変動する。従って（２）式の
Ｍｆｌは本質的に誤差を持っている。そこでＫｔ、を学
習し、よシ真値に近づければａ夏制仰循度も一層向上し
、もし金属イオン分析計３が故障しても短時間なら（１
）式のＲＬｒ１１Ｍ１２項のみで金属溶解槽への金属の
切出し操業を継続することが出来る。
Ｋｆｌの学習は例えば次のように指数平滑法を用い、適
当な時間々隔Ｐ分（前記時間々隔Ｔの整数倍）毎に行う
。
当な時間々隔Ｐ分（前記時間々隔Ｔの整数倍）毎に行う
。
／＼
（Ｋｆｌ）ｎはＫｆｌの今回推定値、（Ｋｆｌ ）ｎ−
１はＫ ｆ １の前回推定値、αは係数でＯ〈α〈１で
ある。
１はＫ ｆ １の前回推定値、αは係数でＯ〈α〈１で
ある。
（２）式のＫｔ、は（７）式の（１９）ｍ＋ １である
。（１＞ ）ｎは次式によシ算出する。
。（１＞ ）ｎは次式によシ算出する。
ここで、ｆＰＩｄｔは前回、今回間のメッキ電流の積分
値、Σ（Ｍｆ１＋Ｍｂ）ｊは学習期間内のＭｆｌとＭｂ
の実ｊ＝１ 績合計値、Ｒｎ−１，Ｒｎは前回および今回の金属溶解
槽１３内の金属残量で、金属レベル劃１７で測定される
。
値、Σ（Ｍｆ１＋Ｍｂ）ｊは学習期間内のＭｆｌとＭｂ
の実ｊ＝１ 績合計値、Ｒｎ−１，Ｒｎは前回および今回の金属溶解
槽１３内の金属残量で、金属レベル劃１７で測定される
。
金属イオン分析計３は、螢光Ｘ線分析計等が主に用いら
れる。近年分析計の信頼性は向上しているが、メッキ液
中のスラリー等により、十分な保守を行わない゛と安定
した稼動が出来ず、一般の工業計器に比べ、幾分不安定
であシ、分析計異常時のバックアップを考えておくこと
は有益である。
れる。近年分析計の信頼性は向上しているが、メッキ液
中のスラリー等により、十分な保守を行わない゛と安定
した稼動が出来ず、一般の工業計器に比べ、幾分不安定
であシ、分析計異常時のバックアップを考えておくこと
は有益である。
一般に複数金属イオンを含む溶液の４度こ比重の関係は
、厳密には線形ではないが、標準組成を中心にして各成
分の小さな変化範囲では、比重と各金属イオン濃度は線
形化出来る。
、厳密には線形ではないが、標準組成を中心にして各成
分の小さな変化範囲では、比重と各金属イオン濃度は線
形化出来る。
ρ＝Σａ ｉ ′ｃ ｉ 十ａｏ
””曲’ （９）ト＝１ ここで、ρ：メッキ液の比重 ａｏ、ａｉ：係数 Ｃ１：複数の分析計で測定している金属イオン濃度 分析計が正常なとき金属イオン接置ｅｉおよび比重ρを
適当な時間々隔Ｈ（分）毎に測定し、その都度係数＆ｏ
、＆ｉを推定することによシ、’ ｌ’ｏ ｒ ａｉを
よシ真櫃に近づけておく。そして複数の分析計のうちの
１つが故障し、１つの金属イオン（ユ度が測定不能にな
った場合、最新のａ（１，ａｉおよび比重の実測値を用
いて（９）式よシ測定不能になった金属イオン製置を逆
算することにより、当該金属イオン濃度を求めることが
できる。
””曲’ （９）ト＝１ ここで、ρ：メッキ液の比重 ａｏ、ａｉ：係数 Ｃ１：複数の分析計で測定している金属イオン濃度 分析計が正常なとき金属イオン接置ｅｉおよび比重ρを
適当な時間々隔Ｈ（分）毎に測定し、その都度係数＆ｏ
、＆ｉを推定することによシ、’ ｌ’ｏ ｒ ａｉを
よシ真櫃に近づけておく。そして複数の分析計のうちの
１つが故障し、１つの金属イオン（ユ度が測定不能にな
った場合、最新のａ（１，ａｉおよび比重の実測値を用
いて（９）式よシ測定不能になった金属イオン製置を逆
算することにより、当該金属イオン濃度を求めることが
できる。
以上のように本発明によれば、金属溶解槽と循環タンク
間に常時メッキ液を循環させる必要がある電気メッキに
おいても、メッキ浴中の金属イオン瀝度を精度よく、か
つ安定して制御するご′とができる。
間に常時メッキ液を循環させる必要がある電気メッキに
おいても、メッキ浴中の金属イオン瀝度を精度よく、か
つ安定して制御するご′とができる。
図面は本発明方法を実施する電気メツキ設備の構成例を
示す図である◇ １：循環タンク間 分析計、４：メッキ４’Ｊ、５ ： Ｔｈｉストリ、プ
、６：液面計、７：碗置針、８：液面、酸ｖｆ１度１ｂ
り御装置ｑ１９：水タンク、１０：薬液タンク、１１：
４Ａ敵タンク、１２：ポンプ、１３：金属溶屏僧、１４
：金属投入装置、１５：沈澱槽、１６：ポンプ、１７：
金属レベル計、１８：比重計、１９：メ。 キ液濃度制御装置、Ｖ−１〜Ｖ−５＝パルプ。 出願人 新日本Ｍ鉄株式会社
示す図である◇ １：循環タンク間 分析計、４：メッキ４’Ｊ、５ ： Ｔｈｉストリ、プ
、６：液面計、７：碗置針、８：液面、酸ｖｆ１度１ｂ
り御装置ｑ１９：水タンク、１０：薬液タンク、１１：
４Ａ敵タンク、１２：ポンプ、１３：金属溶屏僧、１４
：金属投入装置、１５：沈澱槽、１６：ポンプ、１７：
金属レベル計、１８：比重計、１９：メ。 キ液濃度制御装置、Ｖ−１〜Ｖ−５＝パルプ。 出願人 新日本Ｍ鉄株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 メッキ液循環タンクと、該メッキ液循環タンクへの水、
薬液、酸液の補給装置と、金槙溶解槽と、該金属溶解槽
への金属投入装置とを有し、前記メッキ液循環タンクと
金属溶解槽の間の循環路に金属溶解槽？バイパスさせる
ための弁を設けた不溶解性電極型電気メツキ設備におけ
る電気メッキにおいて、 メッキ電流値を用いて算出した消費金属量と、前記水、
薬液、酸液の補給量に見合う金属量と、メッキ液中の金
属イオン濃度の測定値と目標値との差に応じて算出した
補正金属量との合計金属量を前記金属投入装置よシ金属
溶解槽へ投入し、金属イオン濃度の測定値が目標範囲を
超えたときは前記弁を操作して金属溶解槽をバイパスす
ることを特徴とするメッキ浴濃度の自動制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23389482A JPS59116400A (ja) | 1982-12-23 | 1982-12-23 | メツキ浴濃度の自動制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23389482A JPS59116400A (ja) | 1982-12-23 | 1982-12-23 | メツキ浴濃度の自動制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59116400A true JPS59116400A (ja) | 1984-07-05 |
| JPS6116440B2 JPS6116440B2 (ja) | 1986-04-30 |
Family
ID=16962230
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23389482A Granted JPS59116400A (ja) | 1982-12-23 | 1982-12-23 | メツキ浴濃度の自動制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59116400A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0456796A (ja) * | 1990-06-25 | 1992-02-24 | Sumitomo Metal Ind Ltd | Ｆｅ系合金電気メッキ装置のｐＨ制御装置 |
| KR20020038224A (ko) * | 2000-11-17 | 2002-05-23 | 이구택 | 강판비금면의 산화방지 및 금속석출물 제거장치 |
| CN106133202A (zh) * | 2014-03-26 | 2016-11-16 | 孙治镐 | 具有利用电解液自动分析的药品投入功能的金属的阳极氧化处理系统 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0247448U (ja) * | 1988-09-28 | 1990-03-30 |
-
1982
- 1982-12-23 JP JP23389482A patent/JPS59116400A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0456796A (ja) * | 1990-06-25 | 1992-02-24 | Sumitomo Metal Ind Ltd | Ｆｅ系合金電気メッキ装置のｐＨ制御装置 |
| KR20020038224A (ko) * | 2000-11-17 | 2002-05-23 | 이구택 | 강판비금면의 산화방지 및 금속석출물 제거장치 |
| CN106133202A (zh) * | 2014-03-26 | 2016-11-16 | 孙治镐 | 具有利用电解液自动分析的药品投入功能的金属的阳极氧化处理系统 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6116440B2 (ja) | 1986-04-30 |
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