JPS6116440B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6116440B2 JPS6116440B2 JP23389482A JP23389482A JPS6116440B2 JP S6116440 B2 JPS6116440 B2 JP S6116440B2 JP 23389482 A JP23389482 A JP 23389482A JP 23389482 A JP23389482 A JP 23389482A JP S6116440 B2 JPS6116440 B2 JP S6116440B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- tank
- plating
- concentration
- amount
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
本発明はメツキ溶特に不溶解電極型電気メツキ
におけるメツキ浴の濃度の自動制御方法に関す
る。 鉛等の不溶性電極を用いた鋼板の電気メツキ設
備においては、安定なメツキ性を維持するために
メツキ浴濃度を一定に保つことが重要である。特
に亜鉛と鉄の合金メツキを行う場合には、より厳
しくそれぞれの金属イオン濃度を一定に保つ必要
がある。 従来、亜鉛単独の電気メツキにおけるメツキ浴
濃度制御は、たとえば特公昭53−24897号公報に
みられるように、金属溶解槽内に適当量の亜鉛塊
を入れておき、メツキ液循環タンクと金属溶解槽
の間にメツキ液を循環させ、その循環流量を調節
したり、ON−OFFすることにより行われてい
た。 ところが、亜鉛と鉄の合金電気メツキを行うに
当り、鉄の溶解を行う場合、金属溶解槽へのメツ
キ液循環を長時間停止すれば難溶性の水酸化鉄の
析出が生じ、その析出に要する時間は溶解槽内の
鉄の量や、メツキ浴組成により異なるが、一旦析
出すると操業不能の事態にもなりかねない。この
ことから、メツキ液循環タンクと溶解槽間のメツ
キ液は、短時間の停止を除き、水酸化鉄析出防止
の理由から常時循環させる必要がある。従つて亜
鉛と鉄の合金メツキを行う場合は、前記従来の濃
度制御方法は適当でなく本質的に矛盾を含むこと
になる。 本発明の目的は、金属溶解槽内にメツキ液を常
時循環させることが必要な電気メツキにおいて
も、メツキ浴の金属イオン濃度を厳密に制御する
ことが可能な方法を提供することにあり、この目
的を達成するための本発明のメツキ浴濃度の自動
制御方法は、メツキ液循環タンクと、該メツキ液
循環タンクへの水、薬液、酸液の補給装置と、金
属溶解槽と、該金属溶解槽への金属投入装置とを
有し、前記メツキ液循環タンクと金属溶解槽の間
の循環路に金属溶解槽をバイパスさせるための弁
を設けた不溶解性電極型電気メツキ設備における
電気メツキにおいて、メツキ電流値を用いて算出
した消費金属量と、前記水、薬液、酸液の補給量
に見合う金属量と、メツキ液中の金属イオン濃度
の測定値と目標値との差に応じて算出した補正金
属量との合計金属量を前記金属投入装置より金属
溶解槽へ投入し、金属イオン濃度の測定値が目標
範囲を超えたときは前記弁を操作して金属溶解槽
をバイパスすることを特徴とするものである。以
下図面にもとづき本発明を詳しく説明する。 図面は、本発明方法を実施する電気メツキ設備
の構成の１例を示す。なお図面には、一点鎖線で
囲んだ装置（群）を１組しか図示していないが、
亜鉛と鉄の合金メツキを行う設備においてはこの
装置（群）が２組設置されている。しかし濃度制
御はそれぞれの金属（亜鉛、鉄）イオンに着目し
て独立に行えばよいから以下図面にもとづく説明
では亜鉛と鉄を特に区別せず金属として説明す
る。 循環タンク１のメツキ液はポンプ２によりメツ
キ槽４へ送られ、メツキに供された後、循環タン
ク１へ還流される。一方、ポンプ１２により常時
メツキ液が循環タンク１から金属溶解槽１３に送
られ、沈澱槽１５、ポンプ１６を経て循環タンク
１へ戻り、メツキ槽４で消費された金属を補給す
る。弁Ｖ−１，Ｖ−２は流路切替弁である。補給
される金属は金属投入装置１４から金属溶解槽１
３へ投入され、溶解される。 メツキの進行にともない、被メツキ液材である
鋼ストリツプ５によりメツキ液が持ち去られるこ
とにより循環タンク１の液位が低下する。この液
位を液面計６で測定し、液位が予め設定された低
いレベル“Ｌ”まで低下すると液面・酸濃度制御
装置８により、水タンク９、薬液タンク１０の弁
Ｖ−３，Ｖ−４を開いて水および薬液を一定量づ
つ補給する。一方、循環タンク１内の遊離硫酸濃
度を濃度計７で測定し、目標濃度になるように液
面・酸濃度制御装置８により硫酸タンク１１の弁
Ｖ−５を開いて補給する。この一連の動作を、循
環タンク１の液位が予め設定された高いレベル
“Ｈ”に達するまで繰返す。ここで、フリー硫酸
濃度の代りにPH値の管理を行つてもよい。 金属投入量は、メツキ液濃度制御装置１９によ
り演算する。通常溶解槽への金属の投入は間欠的
に投入する方式が一般的であり、一定時間々隔Ｔ
（分）毎に切出しを行ない平均切出し量は１回毎
の投入量を加減することにより調節する。 本発明においては、１回毎の投入金属量Ｍ
（Kg）は次式により求める。 Ｍ＝Ｍf1＋Ｍf2＋Ｍb ………(1) Ｍf1は投入時間々隔Ｔ（分）内にメツキ槽４で
消費された金属量（Kg）であり、次式により算出
する。 Ｍf1＝Ｋf1・∫Ｔ ０Idt ………(2) ここでＩはメツキ電流の実測値で、これをＴ分
間積分したものに比例係数Ｋf1を乗じた値がメツ
キのために消費された金属量になる。 Ｍf2は循環タンク１の液補充が行われたとき、
それに見合う金属量（Kg）であり、次式により算
出する。 Ｍf2＝Ｋf2・Ｖ ………(3) ここでＶは、循環タンク１の液位を上昇させる
ために補充された液の量であり、液面計６の測定
値より算出する。液補充が行われないときはＶは
零である。 Ｖ＝Ｓ・（L2−L1） ………(4) ここにＳは循環タンク１の断面積、L1、L2は
液補充前後の液位である。なお、補充液量Ｖは
水、薬液、硫酸の各系統に流量計をつけて実測し
てもよい。 Ｋf2は金属イオンの目標濃度に応じて定まる係
数である。Ｍbは、循環タンク１の出側に設けた
金属イオン分析計３で一定の時間々隔Ｔ（分）毎
に測定した濃度Ｃnと目標濃度Ｃrとの差に応じて
算出された値であり、例えば良く知られた次式の
PID演算を行う。 ここで、Ｋp、Ｔi、Ｔdはそれぞれ比例ゲイ
ン、積分時間、微分時間である。ejは今回測定時
の濃度差であり、 ej＝Ｃr−Ｃn ………(6) である。ｅj-1は前回測定時の濃度差である。
におけるメツキ浴の濃度の自動制御方法に関す
る。 鉛等の不溶性電極を用いた鋼板の電気メツキ設
備においては、安定なメツキ性を維持するために
メツキ浴濃度を一定に保つことが重要である。特
に亜鉛と鉄の合金メツキを行う場合には、より厳
しくそれぞれの金属イオン濃度を一定に保つ必要
がある。 従来、亜鉛単独の電気メツキにおけるメツキ浴
濃度制御は、たとえば特公昭53−24897号公報に
みられるように、金属溶解槽内に適当量の亜鉛塊
を入れておき、メツキ液循環タンクと金属溶解槽
の間にメツキ液を循環させ、その循環流量を調節
したり、ON−OFFすることにより行われてい
た。 ところが、亜鉛と鉄の合金電気メツキを行うに
当り、鉄の溶解を行う場合、金属溶解槽へのメツ
キ液循環を長時間停止すれば難溶性の水酸化鉄の
析出が生じ、その析出に要する時間は溶解槽内の
鉄の量や、メツキ浴組成により異なるが、一旦析
出すると操業不能の事態にもなりかねない。この
ことから、メツキ液循環タンクと溶解槽間のメツ
キ液は、短時間の停止を除き、水酸化鉄析出防止
の理由から常時循環させる必要がある。従つて亜
鉛と鉄の合金メツキを行う場合は、前記従来の濃
度制御方法は適当でなく本質的に矛盾を含むこと
になる。 本発明の目的は、金属溶解槽内にメツキ液を常
時循環させることが必要な電気メツキにおいて
も、メツキ浴の金属イオン濃度を厳密に制御する
ことが可能な方法を提供することにあり、この目
的を達成するための本発明のメツキ浴濃度の自動
制御方法は、メツキ液循環タンクと、該メツキ液
循環タンクへの水、薬液、酸液の補給装置と、金
属溶解槽と、該金属溶解槽への金属投入装置とを
有し、前記メツキ液循環タンクと金属溶解槽の間
の循環路に金属溶解槽をバイパスさせるための弁
を設けた不溶解性電極型電気メツキ設備における
電気メツキにおいて、メツキ電流値を用いて算出
した消費金属量と、前記水、薬液、酸液の補給量
に見合う金属量と、メツキ液中の金属イオン濃度
の測定値と目標値との差に応じて算出した補正金
属量との合計金属量を前記金属投入装置より金属
溶解槽へ投入し、金属イオン濃度の測定値が目標
範囲を超えたときは前記弁を操作して金属溶解槽
をバイパスすることを特徴とするものである。以
下図面にもとづき本発明を詳しく説明する。 図面は、本発明方法を実施する電気メツキ設備
の構成の１例を示す。なお図面には、一点鎖線で
囲んだ装置（群）を１組しか図示していないが、
亜鉛と鉄の合金メツキを行う設備においてはこの
装置（群）が２組設置されている。しかし濃度制
御はそれぞれの金属（亜鉛、鉄）イオンに着目し
て独立に行えばよいから以下図面にもとづく説明
では亜鉛と鉄を特に区別せず金属として説明す
る。 循環タンク１のメツキ液はポンプ２によりメツ
キ槽４へ送られ、メツキに供された後、循環タン
ク１へ還流される。一方、ポンプ１２により常時
メツキ液が循環タンク１から金属溶解槽１３に送
られ、沈澱槽１５、ポンプ１６を経て循環タンク
１へ戻り、メツキ槽４で消費された金属を補給す
る。弁Ｖ−１，Ｖ−２は流路切替弁である。補給
される金属は金属投入装置１４から金属溶解槽１
３へ投入され、溶解される。 メツキの進行にともない、被メツキ液材である
鋼ストリツプ５によりメツキ液が持ち去られるこ
とにより循環タンク１の液位が低下する。この液
位を液面計６で測定し、液位が予め設定された低
いレベル“Ｌ”まで低下すると液面・酸濃度制御
装置８により、水タンク９、薬液タンク１０の弁
Ｖ−３，Ｖ−４を開いて水および薬液を一定量づ
つ補給する。一方、循環タンク１内の遊離硫酸濃
度を濃度計７で測定し、目標濃度になるように液
面・酸濃度制御装置８により硫酸タンク１１の弁
Ｖ−５を開いて補給する。この一連の動作を、循
環タンク１の液位が予め設定された高いレベル
“Ｈ”に達するまで繰返す。ここで、フリー硫酸
濃度の代りにPH値の管理を行つてもよい。 金属投入量は、メツキ液濃度制御装置１９によ
り演算する。通常溶解槽への金属の投入は間欠的
に投入する方式が一般的であり、一定時間々隔Ｔ
（分）毎に切出しを行ない平均切出し量は１回毎
の投入量を加減することにより調節する。 本発明においては、１回毎の投入金属量Ｍ
（Kg）は次式により求める。 Ｍ＝Ｍf1＋Ｍf2＋Ｍb ………(1) Ｍf1は投入時間々隔Ｔ（分）内にメツキ槽４で
消費された金属量（Kg）であり、次式により算出
する。 Ｍf1＝Ｋf1・∫Ｔ ０Idt ………(2) ここでＩはメツキ電流の実測値で、これをＴ分
間積分したものに比例係数Ｋf1を乗じた値がメツ
キのために消費された金属量になる。 Ｍf2は循環タンク１の液補充が行われたとき、
それに見合う金属量（Kg）であり、次式により算
出する。 Ｍf2＝Ｋf2・Ｖ ………(3) ここでＶは、循環タンク１の液位を上昇させる
ために補充された液の量であり、液面計６の測定
値より算出する。液補充が行われないときはＶは
零である。 Ｖ＝Ｓ・（L2−L1） ………(4) ここにＳは循環タンク１の断面積、L1、L2は
液補充前後の液位である。なお、補充液量Ｖは
水、薬液、硫酸の各系統に流量計をつけて実測し
てもよい。 Ｋf2は金属イオンの目標濃度に応じて定まる係
数である。Ｍbは、循環タンク１の出側に設けた
金属イオン分析計３で一定の時間々隔Ｔ（分）毎
に測定した濃度Ｃnと目標濃度Ｃrとの差に応じて
算出された値であり、例えば良く知られた次式の
PID演算を行う。 ここで、Ｋp、Ｔi、Ｔdはそれぞれ比例ゲイ
ン、積分時間、微分時間である。ejは今回測定時
の濃度差であり、 ej＝Ｃr−Ｃn ………(6) である。ｅj-1は前回測定時の濃度差である。
【式】は制御を開始してから毎回測定毎に、そ
のときの偏差を合計した値である。Ｍf1、Ｍf2は
フイードフオワード的に投入する量であり、Ｍb
は濃度の実測値にもとづいたフイードバツク項で
ある。循環タンクの大きさを十分に大きくしてお
けばＭf1、Ｍf2の項を考慮しなくてもＭbのみで制
御することも可能ではあるが、濃度の変動が大き
くかつ、金属イオン分析計３が故障すれば全く制
御が不能になる。Ｍf1、Ｍf2項を加えることによ
り外乱に対しても強く、濃度変化を小さく抑える
ことが出来る。 以上で金属投入量Ｍが演算され、金属投入装置
１４に投入指令が出されＴ分毎に投入される。一
方、金属溶解槽１３における金属の溶解速度と遊
離硫酸濃度変動とは相補的に密接な関係にある。
例えば亜鉛の場合次のような化学反応に基づく。 Zn＋H2SO4→ZnSO4＋H2↑
（金属溶解槽１３内反応） Zn2+＋H2O→Zn＋2H+＋１／２O2↑ （メツキ槽４内反 応） 従つて、遊離硫酸濃度の一時的な変動を押さえ
るためには、弁Ｖ−１およびＶ−２の開度を調節
して金属の溶解速度を金属の投入間隔Ｔ分内で平
均化することが有効である。弁Ｖ−１，Ｖ−２の
開度は金属溶解槽１３内の金属残量及び金属投入
量Ｍによるテーブル又は経験式によつて定める。
また、操業条件の変化により、メツキ消費量が減
少し、メツキ液中の金属イオン濃度が上昇するこ
ともあるので、金属イオン分析計３の測定値が目
標値より上昇したら弁Ｖ−１を全閉し、同時に弁
Ｖ−２を全開して金属溶解槽をバイパスし、濃度
のあがりすぎを防止する。 以上のような制御を円滑に行うには、循環タン
ク１と金属溶解槽１３および沈澱槽１５との循環
をできるだけ一定に保つ必要があるが、このため
にはポンプ１６の後に調節弁を設け（図示は省略
してある）、沈澱槽１５の液位の定値制御を行う
ことによつてポンプ１２，１６の起動／停止の頻
度を小さくすることが有効である。 本発明の方法は金属は必要な量だけ補給する方
式であるので、異常な操業とならない限り、金属
溶解槽１３をメツキ液がバイパスされる時間が長
くなることは無い。 本実施例設備で本発明方法を実施した結果、例
えば濃度変動は±１ｇ/以内に収まり、メツキ
液がバイパスされる期間中、水酸化鉄の析出が始
まる時間に比べ1/20程度と問題なく小さいことが
確認された。 さて、(2)式の比例係数Ｋf1は、メツキ電流効率
や設備の操業条件により若干変動する。従つて(2)
式のＭf1は本質的に誤差を持つている。そこでＫ
f1を学習し、より真値に近づければ濃度制御精度
も一層向上し、もし金属イオン分析計３が故障し
ても短時間なら(1)式のＭf1、Ｍf2項のみで金属溶
解槽への金属の切出し操業を継続することが出来
る。 Ｋf1の学習は例えば次のように指数平滑法を用
い、適当な時間々隔Ｐ分（前記時間々隔Ｔの整数
倍）毎に行う。
フイードフオワード的に投入する量であり、Ｍb
は濃度の実測値にもとづいたフイードバツク項で
ある。循環タンクの大きさを十分に大きくしてお
けばＭf1、Ｍf2の項を考慮しなくてもＭbのみで制
御することも可能ではあるが、濃度の変動が大き
くかつ、金属イオン分析計３が故障すれば全く制
御が不能になる。Ｍf1、Ｍf2項を加えることによ
り外乱に対しても強く、濃度変化を小さく抑える
ことが出来る。 以上で金属投入量Ｍが演算され、金属投入装置
１４に投入指令が出されＴ分毎に投入される。一
方、金属溶解槽１３における金属の溶解速度と遊
離硫酸濃度変動とは相補的に密接な関係にある。
例えば亜鉛の場合次のような化学反応に基づく。 Zn＋H2SO4→ZnSO4＋H2↑
（金属溶解槽１３内反応） Zn2+＋H2O→Zn＋2H+＋１／２O2↑ （メツキ槽４内反 応） 従つて、遊離硫酸濃度の一時的な変動を押さえ
るためには、弁Ｖ−１およびＶ−２の開度を調節
して金属の溶解速度を金属の投入間隔Ｔ分内で平
均化することが有効である。弁Ｖ−１，Ｖ−２の
開度は金属溶解槽１３内の金属残量及び金属投入
量Ｍによるテーブル又は経験式によつて定める。
また、操業条件の変化により、メツキ消費量が減
少し、メツキ液中の金属イオン濃度が上昇するこ
ともあるので、金属イオン分析計３の測定値が目
標値より上昇したら弁Ｖ−１を全閉し、同時に弁
Ｖ−２を全開して金属溶解槽をバイパスし、濃度
のあがりすぎを防止する。 以上のような制御を円滑に行うには、循環タン
ク１と金属溶解槽１３および沈澱槽１５との循環
をできるだけ一定に保つ必要があるが、このため
にはポンプ１６の後に調節弁を設け（図示は省略
してある）、沈澱槽１５の液位の定値制御を行う
ことによつてポンプ１２，１６の起動／停止の頻
度を小さくすることが有効である。 本発明の方法は金属は必要な量だけ補給する方
式であるので、異常な操業とならない限り、金属
溶解槽１３をメツキ液がバイパスされる時間が長
くなることは無い。 本実施例設備で本発明方法を実施した結果、例
えば濃度変動は±１ｇ/以内に収まり、メツキ
液がバイパスされる期間中、水酸化鉄の析出が始
まる時間に比べ1/20程度と問題なく小さいことが
確認された。 さて、(2)式の比例係数Ｋf1は、メツキ電流効率
や設備の操業条件により若干変動する。従つて(2)
式のＭf1は本質的に誤差を持つている。そこでＫ
f1を学習し、より真値に近づければ濃度制御精度
も一層向上し、もし金属イオン分析計３が故障し
ても短時間なら(1)式のＭf1、Ｍf2項のみで金属溶
解槽への金属の切出し操業を継続することが出来
る。 Ｋf1の学習は例えば次のように指数平滑法を用
い、適当な時間々隔Ｐ分（前記時間々隔Ｔの整数
倍）毎に行う。
【式】はＫf1の今回推定値、
【式】は
Ｋf1の前回推定値、αは係数で０＜α＜１であ
る。 (2)式のＫf1は(7)式の
る。 (2)式のＫf1は(7)式の
【式】である。
【式】は次式により算出する。
ここで、∫Ｐ ０Idtは前回、今回間のメツキ電流の
積分値、
積分値、
【式】は学習期間内のＭf1
とＭbの実績合計値、Ｒo-1、Ｒoは前回および今
回の金属溶解槽１３内の金属残量で、金属レベル
計１７で測定される。 金属イオン分析計３は、螢光Ｘ線分析計等が主
に用いられる。近年分析計の信頼性は向上してい
るが、メツキ液中のスラリー等により、十分な保
守を行わないと安定した稼動が出来ず、一般の工
業計器に比べ、幾分不安定であり、分析計異常時
のバツクアツプを考えておくことは有益である。
一般に複数金属イオンを含む溶液の濃度と比重の
関係は、厳密には線形ではないが、標準組成を中
心にして各成分の小さな変化範囲では、比重と各
金属イオン濃度は線形化出来る。 ここで、σ：メツキ液の比重 a0，ａi：係数 ｃi：複数の分析計で測定している金属イオン濃
度 分析計が正常なとき金属イオン濃度ｃiおよび
比重ρを適当な時間々隔Ｈ（分）毎に測定し、そ
の都度係数a0、ａiを推定することにより、a0、ａ
iをより真値に近づけておく。そして複数の分析
計のうちの１つが故障し、１つの金属イオン濃度
が測定不能になつた場合、最新のa0、ａiおよび
比重の実測値を用いて(9)式より測定不能になつた
金属イオン濃度を逆算することにより、当該金属
イオン濃度を求めることができる。 以上のように本発明によれば、金属溶解槽と循
環タンク間に常時メツキ液を循環させる必要があ
る電気メツキにおいても、メツキ浴中の金属イオ
ン濃度を精度よく、かつ安定して制御することが
できる。
回の金属溶解槽１３内の金属残量で、金属レベル
計１７で測定される。 金属イオン分析計３は、螢光Ｘ線分析計等が主
に用いられる。近年分析計の信頼性は向上してい
るが、メツキ液中のスラリー等により、十分な保
守を行わないと安定した稼動が出来ず、一般の工
業計器に比べ、幾分不安定であり、分析計異常時
のバツクアツプを考えておくことは有益である。
一般に複数金属イオンを含む溶液の濃度と比重の
関係は、厳密には線形ではないが、標準組成を中
心にして各成分の小さな変化範囲では、比重と各
金属イオン濃度は線形化出来る。 ここで、σ：メツキ液の比重 a0，ａi：係数 ｃi：複数の分析計で測定している金属イオン濃
度 分析計が正常なとき金属イオン濃度ｃiおよび
比重ρを適当な時間々隔Ｈ（分）毎に測定し、そ
の都度係数a0、ａiを推定することにより、a0、ａ
iをより真値に近づけておく。そして複数の分析
計のうちの１つが故障し、１つの金属イオン濃度
が測定不能になつた場合、最新のa0、ａiおよび
比重の実測値を用いて(9)式より測定不能になつた
金属イオン濃度を逆算することにより、当該金属
イオン濃度を求めることができる。 以上のように本発明によれば、金属溶解槽と循
環タンク間に常時メツキ液を循環させる必要があ
る電気メツキにおいても、メツキ浴中の金属イオ
ン濃度を精度よく、かつ安定して制御することが
できる。
図面は本発明方法を実施する電気メツキ設備の
構成例を示す図である。 １：循環タンク、２：ポンプ、３：金属イオン
分析計、４：メツキ槽、５：鋼ストリツプ、６：
液面計、７：濃度計、８：液面、酸濃度制御装
置、９：水タンク、１０：薬液タンク、１１：硫
酸タンク、１２：ポンプ、１３：金属溶解槽、１
４：金属投入装置、１５：沈澱槽、１６：ポン
プ、１７：金属レベル計、１８：比重計、１９：
メツキ液濃度制御装置、Ｖ−１〜Ｖ−５：バル
ブ。
構成例を示す図である。 １：循環タンク、２：ポンプ、３：金属イオン
分析計、４：メツキ槽、５：鋼ストリツプ、６：
液面計、７：濃度計、８：液面、酸濃度制御装
置、９：水タンク、１０：薬液タンク、１１：硫
酸タンク、１２：ポンプ、１３：金属溶解槽、１
４：金属投入装置、１５：沈澱槽、１６：ポン
プ、１７：金属レベル計、１８：比重計、１９：
メツキ液濃度制御装置、Ｖ−１〜Ｖ−５：バル
ブ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ メツキ液循環タンクと、該メツキ液循環タン
クへの水、薬液、酸液の補給装置と、金属溶解槽
と、該金属溶解槽への金属投入装置とを有し、前
記メツキ液循環タンクと金属溶解槽の間の循環路
に金属溶解槽をバイパスさせるための弁を設けた
不溶解性電極型電気メツキ設備における電気メツ
キにおいて、 メツキ電流値を用いて算出した消費金属量と、
前記水、薬液、酸液の補給量に見合う金属量と、
メツキ液中の金属イオン濃度の測定値と目標値と
の差に応じて算出した補正金属量との合計金属量
を前記金属投入装置より金属溶解槽へ投入し、金
属イオン濃度の測定値が目標範囲を越えたときは
前記弁を操作して金属溶解槽をバイパスすること
を特徴とするメツキ浴濃度の自動制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23389482A JPS59116400A (ja) | 1982-12-23 | 1982-12-23 | メツキ浴濃度の自動制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23389482A JPS59116400A (ja) | 1982-12-23 | 1982-12-23 | メツキ浴濃度の自動制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59116400A JPS59116400A (ja) | 1984-07-05 |
| JPS6116440B2 true JPS6116440B2 (ja) | 1986-04-30 |
Family
ID=16962230
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23389482A Granted JPS59116400A (ja) | 1982-12-23 | 1982-12-23 | メツキ浴濃度の自動制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59116400A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0247448U (ja) * | 1988-09-28 | 1990-03-30 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0776438B2 (ja) * | 1990-06-25 | 1995-08-16 | 住友金属工業株式会社 | Ｆｅ系合金電気メッキ装置のｐＨ制御装置 |
| KR20020038224A (ko) * | 2000-11-17 | 2002-05-23 | 이구택 | 강판비금면의 산화방지 및 금속석출물 제거장치 |
| KR101423024B1 (ko) * | 2014-03-26 | 2014-07-29 | 손치호 | 전해액 자동 분석을 통한 약품 투입 기능을 갖는 금속의 아노다이징 처리 시스템 |
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1982
- 1982-12-23 JP JP23389482A patent/JPS59116400A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0247448U (ja) * | 1988-09-28 | 1990-03-30 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59116400A (ja) | 1984-07-05 |
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