JPS59117724A

JPS59117724A - 磁気ヘツド

Info

Publication number: JPS59117724A
Application number: JP23294982A
Authority: JP
Inventors: Akio Konuki; 小貫　明男; Toshihiko Ota; 大田　俊彦
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1982-12-24
Filing date: 1982-12-24
Publication date: 1984-07-07

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の技術分野］本発明は、ＶＴＲ、磁気ディスク等に用いられる磁気へ
、７ドに関する。

〔発明の技術的背景〕

磁気記録の技術は、現在、記録密度の高密度化に伴ない
、ＶＴＲ、磁気ディスク等の分野まで波及している。

また磁気記録媒体としては、メタルテープ。

蒸着テープ等の高抗磁力のものが開発されている。

そこでこのような高抗磁力の記録媒体を十分磁化できる
高磁束密度、エディカレントロスを抑える高抵抗および
低ノイズ等の特長を備えた非晶質合金材料（以下、アモ
ルファスと称する）が磁気へラドコアに使用する金属磁
性材料として着目されている。このアモルファスは一般
に液体急冷法等によシ薄帯状に作製されることは既に知
られているところである。

第１図は磁気ヘッドの一例を示すもので、薄帯状のアモ
ルファスよシなる磁気へラドコア１をガラス、セラミッ
ク等の非磁性基板２，２間に介挿して三者を有機接着剤
を介して接合し、一体化した構成のものである。また、
この磁気ヘッドは第１のコア４と第２のコア５とを接合
してなるも９で、両コア４，５間にはギャップ（ギャッ
プ長ｇ）６が形成され、また前記磁気へラドコア１の幅
をトラック幅Ｔｗとしている。

そして第１のコア４の、第２のコア５に対する接合面に
は巻線７を巻回するだめの巻線溝８が形成され、この巻
線溝８より先端側にヘッドデプスｄｏが得られるように
設定されている。また、第１のコア４および第２のコア
５の各外側面に、巻線７の位置規制のための巻線位置規
制溝９゜１０が設けられている。

そして、この種の磁気ヘッドの製造方法は次の通りであ
る。

まず、第２図のごとく表面形状およびその大きさを略同
−にしたアモルファス薄帯１′と非磁性基板２′とを複
数枚ずつ交互に配置する。なお非磁性基板２′の厚さｔ
□とアモルファス薄帯１′の厚さｔＭとの関係は１．　
＞　１Ｍとする。そしてこれらを有機接着剤を介して接
合し、一体化する。

このようにして第３図のごとく完成した積層ブロックを
同図中の点線ａの位置より内・外周切断機等を用いて二
等分割し、第１．第２のコアブロック１１．１２とする
。

次に、これら第１．第２のコアブロック１１゜１２の互
いの対向面１１ｈ、１２ａを鏡面ラッピング加工により
平滑に仕上げ、第１のコアブロック１１には、対向面１
１ａの両級部にそれぞれ巻線溝８，８を平行に形成する
。そして、第１のコアブロック１１または第２のコアブ
ロック１２のいずれか一方の対向面１１ａまたは１２ｍ
に非磁性材料１３をスパッタリング等により付着させ、
または両対向面１１ａ、１２ａ間に薄板を挾んで第５図
のような所定のギャップ６（ギャップ長ｇ）が得られる
ようにした状態で、第１のコアブロック１１と第２のコ
アブロック１２とを接合する。このとき、各コアブロッ
ク１１．１２内のアモルファス薄帯１／、１／は有機接
着剤を介して互いに突合され、かつ接着される。

このようにして再び一体化された接着ブロックの左右側
面両縁部にそれぞれ巻線位置規制溝９．９”、１０．１
０を形成したのち、第５図中に示す点線すの位置よシ二
等分割し、さらに点線Ｃ２Ｃのごとくテープ摺接面をラ
ッピングチーブ、砥石加工等を用いて略球面状に形成す
る。次に、点線ｄ・・・の位置よシ各非磁性基板２′・
・・の中心部にて分割し、それぞれに巻線７を巻回すれ
ば、第１図に示す磁気ヘッドとなる。ここで、アモルフ
ァス薄帯よシなる磁気へラドコア１の厚さ方向に計った
磁気ヘッドの厚さ寸法Ｐ８は、Ｐｓ−ｔＭ＋ｔＨである
。

〔背景技術の問題点〕

以上のごとく形成された磁気ヘッドは、有機接着剤によ
る接着強度に問題があシ、製造過程において有機接着剤
による接着部が剥離する事故が多々発生していた。まだ
、特にアモルファスは結晶化温度が低く　（２００〜５
ｏｏ℃）、このため、高温加熱を必要とするガラス接着
工程が困難となっていた。さらに、第２図ないし第３図
のごとく非磁性基板２′・・・とアモルファス薄帯１′
・・・とを交互に配置して積層接着する際、アモルファ
ス薄帯１′の対向面積は非磁性基板２′よシ大きくして
おかなければならない不具合もあった。これは、積層接
着加圧時に接着剤の流動によりアモルファス薄帯１′の
位置ずれが生じてしまうからである。

〔発明の目的〕

本発明はこのような事情にもとづいてなされたもので、
その目的は、非磁性基板と磁気へラドコア用の薄帯状金
属磁性材料（たとえばアモルファス薄帯）とを積層接着
する際に金属磁性材料の位置ずれを防止することができ
、かつ有機接着剤による接着強度を向上させることがで
きる磁気ヘッドを提供することにある。

〔発明の概要〕

本発明の磁気ヘッドは、有機接着剤が非磁性基板同志の
接合に対しては接着強度が大きいことに着目し、非磁性
基板の接合面に金属磁性材料を嵌合させる位置決め溝を
設け、この位置決め溝内に金属磁性材料を嵌合させ、か
つ接着して構成されている。

したがって積層接着する際に金属磁性材料の位置ずれを
防止できるとともに、非磁性基板同志が有機接着剤を介
して接着される面積が存在することにより、接着強度が
向上するのである。

〔発明の効果〕

本発明によれば、非磁性基板と薄帯状の金属磁性材料と
の有機接着剤による接着強度が向上し、積層接着時にお
ける金属性材料の位置ずれも防止でき、これによって磁
気ヘッド製造過程における歩留を８０チ以上改善するこ
とができだ。また、金属磁性材料の種類、形状等に関す
る制約条件も減少し、製造が容易となシ、製造コストの
低下をはかることも可能となった。

〔発明の実施例〕

以下、第６図ないし第１０図を参照して本発明の一実施
例を説明する。なお第６図ないし第９図は磁気ヘッドの
製造過程を順を追って示すものであり、第１０図は完成
した磁気ヘッドを示すものである。

そこでこれらの図に従い、磁気ヘッドの製造過程を順を
追って説明する。

まず、第６図のごとく形成された薄帯状の金属磁性材料
たとえば非晶質合金材料（以下、アモルファス薄帯と称
する）２１と非磁性基板２２とを多数用意する。上記非
磁性基板２２の一方の面には位置決め溝２３．２３が平
行に設けられている。各位置決め溝２３の幅寸法Ｗ６と
アモルファス薄帯２１の幅寸法ＷＡとは等しいか、わず
かに溝２３の幅Ｗ８を広くする。また、各位置決め溝２
３の深さ寸法ｄＨとアモルファス２１の厚さ寸法ｄＡと
は等しいか、わずかにアモルファス薄帯２１の厚さ寸法
ｄＡを厚くする。なお、位置決め溝２３の加工は、外周
刃加工機等による。

そして、各位置決め溝２３の内面に有機接着剤を塗布し
、各溝２３ごとにアモルファス２１を嵌合させる。

次に、このように構成されたものを、アモルファス２１
側を上にして、有機接着剤を介在させながら第７図に示
すように必要枚数積層し、最上位には溝２３の形成され
ていない、しかも外形寸法は前記非磁性基板２２と等し
い非磁性基板２２′を重ねて、これらを一体に加圧接着
する。そしてこのように一体化されたものを、第７図中
に示す点線ｅ・・・の位置より切断し、規定厚さ寸法Ｐ
。のコアブロック２４を得る。なお、このときの切断は
、内・外周刃加工機等による。

第８図は第７図までの工程により形成された２つのコア
ブロックすなわち第１のコアブロック２４ａと第２のコ
アブロック２４ｂとを対向させた図である。そこで、次
はこれら第１．第２のコアブロック２４ａ、２４ｂの各
対向面２５ａ。

２５ｂを鏡面ラッピング加工等により平滑に仕上げ、さ
らに第１のコアブロック２４ａには、その対向面の両縁
部に巻線２７を巻回するだめの巻線溝２８．２８を平行
に形成する。そして第１のコアブロック２４ａまたは第
２のコアフロック２４ｂのいずれか一方の対向面２ｓａ
ｉたは２５ｂに、８１０２　、　ＺｒＯ２等の非磁性膜
２９をスＡツタリングや蒸着等により形成する。これは
第９図のように第１．第２のコアブロック２４ｍ、２４
ｂを接合した状態で、両コアブロック間に所定のギャッ
プ３０（ギャップ長ｇ）を得るだめである。そこで第１
．第２のコアブロック２４ｍ、２４ｂを、互いのアモル
ファス薄膜２１．２１同志を突合せるようにして有機接
着剤により接着する。

そして、第９図のごとく一体形成された接着ブロック３
１に、従来方法と同様の巻線位置規制溝３１，３１；３
２，３２を形成したのち、点線す。

Ｃに沿って切断し、略球面状のテープ摺接面を形成する
。このとき点線すに沿う切断面は各非磁性基板２２を第
６図に示す１対の位置決め溝２３．２３の中心位置で二
分する。また点線Ｃに沿う切断によシ、テープ摺接面に
アモルファス薄帯２１が露出して磁気へラドコアとなり
ヘッドデプスｄｘ　（第１０図参照）を得る。その後、
各非磁性基板２２の中心位置すなわち点線ｄに沿ってス
ライスピッチＰｓ＝ｔＨでスライスし、巻線２７を巻回
すると、第１０図に示す磁気へラドが得られる。

そして以上のような構成の磁気ヘッドは、１対の非磁性
基板２２．２２同志がアモルファス薄帯２１を介さず直
接接合する面積を有するので、有機接着剤による接着強
度が向上し、製造過程における接着部の剥離を防止する
ことかできる。また、位置決め溝２３にアモルファス薄
帯２１を嵌合させることにより、製造過程でのアモルフ
ァス薄帯２１の位置ずれを防止することができる。

なお、本発明は上記実施例に限定されるものではない。

たとえば第１１図に示すごとく、積層される各非磁性基
板２２の両面に深さｄ□１゜ｄＨ２なる位置決め溝を形
成し、互いに重なる２つの位置決め溝にアモルファス薄
帯２１を１枚ずつ嵌合させるようにしてもよい。このと
きアモルファス薄帯２１の厚さ寸法ｄＡとｄ、、　−１
−ｄＨ。

とは等しいか、、　　ｄＡをわずかに大とする。また、
輸＝６．としてもよいのは勿論である。なお、第１１図
は製造過程を示し、第１２図は完成された磁気ヘッドを
示している。そしてこの場合も前記実施例と同様の効果
が得られる。

また金属磁性材料としてはアモルファスに限らずセンダ
スト等の薄帯を使用してもよい。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第５図は従来例を示すもので、第１図は磁
気ヘッドの斜視図、第２図ないし第５図は磁気ヘッドの
製造過程を順を追って示す斜視図、第６図ないし第１０
図は本発明の一実施例を示すもので、第６図ないし第９
図は磁気ヘッドの製造過程を順を追って示す斜視図、第
１０図は完成した磁気ヘッドの斜視図、第１１図および
第１２図は他の実施例を示すもので、第１１図は磁気ヘ
ッドの製造過程を示す斜視図、第１２図は完成した磁気
ヘッドの斜視図である。２１・・・アモルファス薄帯（金属磁性材料）、２２・
・・非磁性基板、２３・・・位置決め溝、２４ａ・・・
第１のコアブロック、２４ｂ・・・第２のコアブロック
、ｇ・・・ギャップ長、Ｔｗ・・・トラック幅、ｄｌ・
・・ヘッドデプス。第１図第２図第４図　　　　　第５図第８図第１１　ｖ！Ｊｊ＋第１２図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）薄帯状の金属磁性材料よシなる磁気へラドコアと
、この磁気ヘッドコアをその厚み方向両側面よシ挾んで
磁気ヘッドコアを補強する１対の非磁性基板とを有機接
着剤で接着して一体化された磁気ヘッドにおいて、少な
くとも一方の非磁性基板に磁気へラドコアを嵌合してそ
の位置ずれ企防止する位置決め溝を設け、この位ぼ決め
溝以外の部位で非磁性基板同志を直接接着するようにし
たことを特徴とする６Ｒ気へラド。
（２）　　前記金属磁性材料を非晶質合金材料表したこ
とを特徴とする特許請求の範囲第（１２項記載の磁気へ
、ド。