JPS591255B2 - ジニトロナフタリン - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はジニトロナフタリン異性体の混合物から１，５
−および１，８−ジニトロナフタリンを単離するための
方法に関する。

ナフタリンをたとえば濃硝酸と硫酸の混合物でニトロ化
するとき、ジニトロナフタリン異性体の混合物を得るこ
とは公知である（ホーベンーウニイル（ＨＯｕｂｅｎ−
Ｗｅｙｌ）、［有機化学の方法（ＭｅｔｈＯｄｅｎｄｅ
ｒＯｒｇａｎｉｓｃｈｅｎＣｈｅｍｉｅ）」、１０／１
巻、４９４頁（１９７１年））。

これらの混合物から１，５−および１，８−ジニトロナ
フタリンを得るために多くの方法が知られている。それ
ゆえ、たとえば混合物をジクロルエチレンに溶解させ、
分別冷却によつて熱溶液からまず１，５成分を５０℃で
析出分離し、そして次に戸液の濃縮後、１，８成分を室
温で析出分離することが可能である（ドイツ公開公報第
１６１８１０９号）。２つのジニトロナフタリンの有機
溶媒中の溶解度の差はまたそのような混合物の分離に対
するさらに２つの公知の方法で用いられ、使用する溶媒
はジメチルホルムアミド（フランス特許第１３２０２５
０号）およびアセトン〔特公昭４７−２３９１８号（特
願昭４１−２５５１号）〕である。

ケミツシエス・ツエントラルブラツト（Ｃｈｅｍｉｓｃ
ｈｅｓＺｅｎｔｒａｌｂｌａｔｔ）、（１９３８年）、
第１巻、５８７頁には、１，８−ジニトロナフタリンを
ベンゼンまたは無水酢酸からの再結晶によつて精製する
方法が記載されている。ケミカル・アブストラクト（Ｃ
ｈｅｍｉｃａｌＡｂｓｔｒａｃｔｓ）、第４３巻、（１
９４９年）、６１９０頁から、２つのジニトロナフタリ
ンの濃硫酸中への溶解性の差を分離に利用する方法が知
られている。

さらにドイツ公開公報１６１８１０９号から、異性体混
合物を部分的に硝酸に溶解させ、次に冷却し、水で希釈
することによつて成分の分別析出を行うことが公知であ
る。少なくとも２つの成分を含んでいるジニトロナフタ
リン異性体の混合物から１，５−および１，８−ジニト
ロナフタリンを分離するにあたり、異性体混合物を順次
にジニトロナフタリンに対する極性の大きい溶媒と極性
の小さい溶媒とで処理し、この場合大部分未溶解のまま
残る１，５−ジニトロナフタリンを除外して、異性体混
合物を最初に極性の大きい溶媒に溶解させ、続いて残り
の異性体混合物を、極性の大きい溶媒を除いた後、１，
８−ジニトロナフタリンが大部分不溶性残渣として残る
ように高温で極性の小さい芳香族溶媒で処理するという
方法が見いだされた。

１，５−および１，８−ジニトロナフタリンのみからな
る混合物、および１，５−および１，８−ジニトロナフ
タリンに加えて不純物もまた含んでいる混合物の両方と
も本発明の方法に対して用いることができる。

可能な不純物は本質的にほかのジニトロナフタリン、モ
ノ一およびトリ−ニトロナフタリンおよび樹脂状残渣で
ある。１，５−／１，８−ジニトロナフタリン混合物中
の不純物の割合は一般に３０％よりも大きくてはならず
、好ましくは２０％以下である。

本発明の方法に対して用いられるようなジニトロナフタ
リンの混合物はたとえば少なくとも１０％、好ましくは
少なくとも２０％、多くとも９８％の１，５−ジニトロ
ナフタリンと少なくとも２％、好ましくは少なくとも５
（１６、多くとも９０％の１，８−ジニトロナフタリン
とを含んでいる。

ジニトロナフタリン異性体の混合物はたとえばナフタリ
ンを濃硫酸と硝酸でニトロ化するとき生成する。この製
造法を用いて、本質的に最終生成物として１，５−およ
び１，８−ジニトロナフタリンと樹脂状残渣からなる混
合物を得る（ビオス・レポート（ＢｌＯＳＲｅｐＯｒｔ
）１１５２、４５頁）。本発明の方法に対して極性の大
きい溶媒として用いることができる溶媒は、たとえば２
０℃において約６−２００１好ましくは７ー７５、特に
１０−６０の誘電率を有する化合物である。

示すことができる極性の大きい溶媒の例は、ジメチルス
ルホン、エチルブチルスルホン、メチルエチルスルホン
、エチル−Ｔｅｒｔ−ブチルスルホン、プロピル−１ｓ
０−ペンチルスルホンおよびメチルヘキシルスルホンの
ような直鎖または枝分れＣ１〜Ｃ５アルキルスルホン、
チアーシクロプロピル一１，１−ジオキシド、チアーシ
クロブチル一１，１−ジオキシド（スルホラン）、チア
ーシクロペンチル一１，１−ジオキシド、チアーシクロ
ヘキシル一１，１−ジオキシド、チアーシクロヘブチル
一１，１−ジオキシドおよびチアーシクロオクチル一１
，１−ジオキシドのような式ゝ５、−ーー′４ 〔式中、ｎは３−７の数字であつてよい〕の環状スルホ
ン、ε一カプロラクタムおよびＮ−メチルピロリドンの
ような式〔式中ｍは３−８の数字であつてよく、Ｒは水
素またはＣ１−Ｃ６アルキル基であつてよい〕のラクタ
ム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルム
アニリド、ホルムアニリドおよびアセトアミド、および
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドのようなカルボン酸アミ
ド、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、１，１，
２，２−テトラクロロエタン、１，１，１−トリクロロ
エタンおよび１，２−ジクロロプロパンのような炭素原
子数１−６のハロゲン化脂肪族炭化水素、およびアセト
ン、メチルエチルケトン、ＩｓＯ−プロピルブチルケト
ン、ジペンチルケトン、ＩｓＯ−ヘキシルメチルケトン
、シクロペンチルケトン、シクロヘキシルケトン、シク
ロヘプチルケトン、３，４−ジメチルシクロヘキシルケ
トンおよび４−エチルシクロヘキシルケトンのような式
〔式中、Ｒ１およびＲ２は同一または異なつており、直
鎖または枝分れＣ１−Ｃ６アルキル基を表わすか、また
は基（式中０は数字４，５または６を表わし、適宜Ｃ１
−Ｃ３アルキル基によつて置換されてもよい環を形成す
る）によつて結合されている〕のケトンである。

それに加えて示すことができる極性の大きい溶媒の例は
クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、４−クロロト
ルエン、３，４−ジクロロトルエン、ニトロベンゼン、
ｏ−ニトロトルエン、ｍ−ニトロトルエン、ｐ−ニトロ
トルエン、ニトロメタン、０−ニトロクロロベンゼン、
ｍ−ニトロクロロベンゼン、ｐ−ニトロクロロベンゼン
、ベンゾニトリル、トルオニトリル、アセトニトリル、
β−ヒドロキシプロピオニトリル、ジメチルスルホキシ
ド、ジフエニルスルホキシドおよび酢酸エチルである。

本発明の方法に対する極性の大きい溶媒として好ましい
溶媒はスルホラン、ε一カプロラクタムおよびアセトン
である。

極性の大きい溶媒は単独でも混合物としてでも用いるこ
とができる。

極性の大きい溶媒が水を含むこともまた可能である。本
発明の方法において極性の小さい芳香族溶媒としてあげ
ることができる溶媒は、２０℃において１．５−６、好
ましくは２−５、特に２．２−４．５の誘電率を有する
化合物である。

示すことができる極性の小さい溶媒の例は、ベンゼン、
トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメン、テトラ
リン、ジエチルベンゼン、ｏ−メチルエチルベンゼン、
ｎ−プロピルベンゼン、ジプロピルベンゼン、１−メチ
ルナフタリン、ｐ−ジクロロベンゼン、１−クロロナフ
タリン、１，２，４−トリクロロベンゼンおよび２−ク
ロロトルエンのような式〔式中Ｒ３，Ｒ４およびＲ５は
同一または異なつており、水素、塩素またはＣ１−Ｃ６
アルキル基を表わし、Ｒ６およびＲ７は同一または異な
つており、水素またはＣ１−Ｃ６アルキル基を表わすか
、または基とともに結合して適宜メチルおよび／または
エチル基によつて置換されていてもよい環を形成する〕
の芳香族化合物およびアニソール、フエネトール、ジフ
エニルエーテル、トリルメチルエーテルおよびジトリル
エーテルのような芳香族エーテルである。

本発明の方法に対して極性の小さい芳香族溶媒として好
ましい溶媒はトルエンとキシレンである。

極性の小さい芳香族溶媒は単独でも混合物としても用い
ることができる。本発明の方法の特定の具体例において
、１，５−ジニトロナフタリンはスルホランで処理する
ことによつて分離し、１，８−ジニトロナフタリンはト
ルエンによる処理によつて分離する。

本発明の方法は次のように行うことができる。

第一段階において、ナフタリンまたは１−ニトロナフタ
リンのニトロ化の間に生成するジニトロナフタリンの混
合物を極性の大きい溶媒に溶解させる。ジニトロナフタ
リンの混合物はさらに処理と乾燥することなしに用いる
ことができる。極性の大きい溶媒の量と、必要に応じて
、水の量および温度は、すべての副生成物および１，８
−ジニトロナフタリンが完全に溶解され、１，５−ジニ
トロナフタリンだけが残渣として残るように選ぶ。１，
５−ジニトロナフタリンはそれ自体公知の方法でたとえ
ばＦ過によつて分離することができる。

一般に、分離は２『Ｃ−１５０℃、好ましくは４００−
１１０℃の温度で、０．１一約５バール、好ましくは０
．５−１．５バールの圧力で行う。

本発明の方法によつて分離するために用いられる極性の
大きい溶媒の量は混合物中に存在する１，８−ジニトロ
ナフタリンの量の１．２−２０倍、好ましくは１．４−
１５倍である。一般に、分離されるべき混合物の含水量
は５０重量％より多くてはならない。

過剰の水は蒸留によつて分離されるべき混合物から除く
ことができる。本発明の方法の好ましい具体例において
、全混合物中に０．１−２５重量％、好ましくは０．５
一２０重量％、特に１．５−１５重量％の含水量が１，
５−ジニトロナフタリンを分離するときに用いられる。

極性の大きい溶媒中に溶解しなかつた１，５−ジニトロ
ナフタリンを分解した後、分離されなかつたジニトロナ
フタリン異性体は極性の大きい溶媒から固体として得る
ことができる。

固体はたとえば極性の大きい溶媒を留去することによつ
て単離することができる。本発明の方法の第二段階にお
いて、極性の大きい溶媒によつて分離することができな
かつたジニトロナフタリンは極性の小さい芳香族溶媒に
よつて処理する。

極性の小さい芳香族溶媒の量と温度はすべての副生成物
が完全に溶解され、１，８−ジニトイナフタリンだけが
残渣として残るように選ぶ。本方法のとくに有利な具体
例において、高沸点の極性の小さい芳香族溶媒を、１，
５−ジニトロナフタリンを分離した後に残る極性の大き
い溶媒中のジニトロナフタリン異性体の溶液に加え、次
に極性の大きい溶媒を留去することによつてジニトロナ
フタリン異性体の中間の分離なしですませることが可能
である。

一般に、分離は４００Ｃ−１５０℃、好ましくは５０に
Ｃ−１３０℃、特に７『Ｃ−１０００Ｃの温度で、０．
１−５バール、好ましくは０．５−１。

５バールの圧力で行う。

極性の小さい芳香族溶媒の量は混合物中に存在する１，
８−ジニトロナフタリンの量の１−２０倍、好ましくは
２，５−７倍である。

極性の小さい芳香族溶媒中に溶解しなかつた１，８−ジ
ニトロナフタリンはそれ自体公知の方法で、たとえばＦ
過によつて分離する。

また多量の１，５−および１，８−ジニトロナフタリン
を含んでいる残渣は極性の小さい芳香族溶媒から得る。

残渣の一部またはかなりの量はふたたび新しい分離で用
いることができる。本発明の方法は不連続的および連続
的の両方で行うことができる。

本発明の方法を連続的に行うとき、ジニトロナフタリン
の混合物は順次にジニトロナフタリンに対する極性の大
きい溶媒および極性の小さい芳香族溶媒で処理し、最初
のプロセス工程においてはジニトロナフタリンの混合物
を極性の大きい溶媒に溶解させ、１，５−ジニトロナフ
タリンだけが大部分未溶解のまま残り、第二のプロセス
段階において、残りのジニトロナフタリン混合物は、極
性の大きい溶媒の除去後、高温で極性の小さい芳香族溶
媒によつて１，８−ジニトロナフタリンが大部分不溶性
残渣として残るように処理し、極性の小さい芳香族溶媒
の分離後、残りのジニトロナフタリン混合物は最初のプ
ロセス段階に戻す。

ジニトロナフタリンのかなりの量および一部は最初のプ
ロセス段階に戻すことができる。本発明の方法は１，５
−および１，８−ジニトロナフタリンを高収率で製造す
ることを可能にする。

このようにして得られたジニトロナフタリンは事実上異
性体不純物を含まない。１，５−および１，８−ジニト
ロナフタリンは対応するアミノ化合物に還元することが
できる（ヒオズ（ＢｌＯＳ）１１５２，．４６．２２，
４８−５４頁）。

アミノ化合物は染料およびポリウレタンの中間物質であ
る。実施例 １ １，８−ジニトロナフタリン５７．２重量％、１，５−
ジニトロナフタリン３８．７重量％、１−６−ジニトロ
ナフタリン１．５重量％、１，７−ジニトロナフタリン
０．３重量％、１−ニトロナフタリン１．５重量％およ
びトリニトロナフタリン異性体０．３重量％からなるジ
ニトロナフタリン混合物４８０９をアセトン１，５００
ｍ１中にけん濁させ、けん濁液を１．５時間加熱還流す
る。

次にそれを５７℃に冷却し、わずかな真空下でろ過し、
フイルタ一上の物質を全体で４５０ｍ１のアセトンで洗
う。融点２１６−２１７℃の純度９９．５（ｆ）の１，
５−ジニトロナフタリン１３０．７９を得る。済液およ
びアセトン洗液を合せ、ロータリーエバポレーターで濃
縮乾固させる。得られた固形生成物をトルエン１，２２
０ｍ１中にけん濁させ、そしてこのけん濁物を１００℃
に加温し、次いで７０゜Ｃに冷却した後更に３０分間撹
拌する。沈殿した１，８−ジニトロナフタリンを加熱さ
れた吸引淵器によつて単離し、トルエン５００ｍ１で洗
浄しそして空気中で吸引乾燥させる。融点１７０〜１７
１気Ｃかつ純度９９．６％の１，８−ジニトロナフタリ
ン１９４．０９が得られる。ジニトロナフタリン混合物
８８．９９がＯ℃に冷却するとＦ液から結晶し、結晶化
プロセスに戻す。

トルエンの蒸留後残つている残渣（６３９）はすてる。
実施例 ２ １，８−ジニトロナフタリン５７．２重量％、１，５−
ジニトロナフタリン３８，７重量％、１，６−ジニトロ
ナフタリン１．５重量％、１，７−ジニトロナフタリン
０．３重量％、１−ニトロナフタリン１．５重量％およ
びトリニトロナフタリン異性体０．３重量％からなるジ
ニトロナフタリン混合物４８０９をアセトン１，５００
ｍ１中にけん濁させ、けん濁液を１．５時間加熱還流す
る。

次にそれを５．７℃に冷却し、溶解しなかつた物質をわ
ずかな真空下で済別し、全体で４５０ｍ１のアセトンで
洗う。融点２１６−２１７℃の純度９９．４％の１，５
−ジニトロナフタリン１３０．１９を得る。淵液および
アセトンは一緒にし、アセトンのほぼ半分を留去し、次
にキシレン７００ａを加え、アセトンの残りはデフレグ
メータ一付きの５０？カラムを通して留去する。９０℃
に冷却すると、１，８−ジニトロナフタリンがキシレン
溶液から結晶化し、済別し、３００ｍ１のキシレンで洗
う。

融点１７０−１７１℃の純度９９．６％のジニトロナフ
タリン１８５．５９を得る。キシレン溶液は約４００ｍ
１に濃縮し、室温に冷却する。

１，５−／１，８−ジニトロナフタリン混合物１２４．
６９を戸別により単離し、結晶化プロセスに戻す。

副成物はキシレンに溶解して残つており、これとともに
プロセスサイクルから除く。実施例 ３１，８−ジニト
ロナフタリン６０．３重量％、１，５−ジニトロナフタ
リン３３．３重量％、１，６−ジニトロナフタリン１．
０重量％、１，７−ジニトロナフタリン０．６重量％、
１，３，８−トリニトロナフタリン１．７重量％、１，
４，５−トリニトロナフタリン０．８重量％、１，３，
５−トリニトロナフタリン〈０．１重量％およびモノニ
トロナフタリン１．０重量％からなるジニトロナフタリ
ン混合物２６０９を含水ε一カプロラクタム（含水率２
０重量（ｆ））４００ｍＺ中にけん濁させ、けん濁液は
加熱沸とうさせる。

次にそれは９０℃に冷却し、この温度でさらに３０分間
かきまぜ、溶解しなかつた物質を次に加熱吸引フイルタ
一を用いて分離し、まず含水ε一カプロラクタム（濃度
８０％）２９０ｍｉで、次に水７４０ｍ１で洗う。乾燥
後、融点２１７℃の純度９９．５（ｆ）の１，５−ジニ
トロナフタリン６１．１９を得る。洗浄水および淵液は
一緒にし、沈殿した生成物は淵別し、水５００ｍ１で洗
い、トルエン７００ｍ１中にけん濁させる。

けん濁液は沸とうするまで加熱し、水は水分離器で共沸
によつて分離する。混合物は次に７０゜Ｃに冷却し、沈
殿した結晶は加熱した吸収フイルタ一を用いて沢別し、
トルエン２４０ｍ１で洗い、結晶を通して空気を吸引す
ることによつて乾燥する。融点１７１−１７２℃の純度
９９．６％のジニトロナフタリン１１０ｆ！を得る。０
℃に冷却後、ジニトロナフタリン混合物４９．４９が戸
液から結晶する。

実施例 ４ １，８−ジニトロナフタリン５７．９重量％、１，５−
ジニトロナフタリン４０．１重量％、１，６−ジニトロ
ナフタリン０．１重量％、１，７−ジニトロナフタリン
０５１重量％、１，３，８−トリニトロナフタリン０．
１重量％、１，４，５−トリニトロナフタリン０．１重
量％、１，３，５−トリニトロナフタリン０．１重量％
およびモノニトロナフタリン１重量％からなる水でしめ
つたジニトロナフタリン混合物６７８９をスルホラン（
濃度９５％）５００７ｒＬ１中にけん濁させる。

次にかま温度が１２９℃に達するまで水を留去し、次に
けん濁液を８０℃に冷却し、この温度で３０分間かきま
ぜ、沈殿した１，５−ジニトロナフタリンを加熱した吸
引フイルタ一を用いて戸別する。フイルターケーキはま
ず含水スルホラン（濃度９５％）２９０Ｔｆ１１で、次
に水１，１００ｄで洗う。乾燥後、融点２１６−２１７
℃の純度９９．４（１１）の１，５−ジニトロナフタリ
ン１２８．４９を得る。洗浄水と済液は一緒にし、沈殿
した粗１，８−ジニトロナフタリンは淵別し、水５００
ｄで洗う。

しめつたフイルターケーキはトルエン１，２６０ｍ１，
にけん濁させ、水を水分離器で共沸蒸留によつて分離す
る。次にけん濁液は７０℃で冷却し、この温度で３０分
間かきまぜ、１，８−ジニトロナフタリンを加熱した吸
引フイルタ一を用いて淵別し、トルエン３００ｍ１で洗
う。融点１７０−１７１、Ｃの純度９９．５（１６の１
，８−ジニトロナフタリン１８２．５ｆ１を得る。０℃
において１，５−／１，８−ジニトロナフタリン混合物
８３．２９が済液から結晶する。

含水スルホラン母液から水を蒸留した後、スルホランは
ふたたび結晶化に用いることができる。実施例 ５ １，５−ジニトロナフタリン６０．１重量％、１１，８
−ジニトロナフタリン３９．３重量％、１，６−ジニト
ロナフタリン０．２重量％、１−ニトロナフタリン０．
２重量％および未同定の化合物０．２重量％からなるジ
ニトロナフタリン１５０９を１，２−ジクロロエタン４
３０ｍ１にけん濁させ、けん濁液をかきまぜながら還流
下で１時間加熱する。

５２℃に冷却後、けん濁液は１０分間かきまぜ、晶出し
た１，５−ジニトロナフタリンを加熱した吸引フイルタ
一を用いて淵別し、１，２−ジクロロエタン３００ＷＬ
Ｉで洗う。

純度９９．５（ｆｌ）の１，５−ジニトロナフタリン７
８．８９（収率８７．４％に対応）を得る。１，２−ジ
クロロエタンは真空で蒸留し、得られた残渣はクメン７
４０ｍ１中にけん濁させる。

けん濁液はジニトロナフタリン混合物が溶解するまで１
２０℃であたため、次に溶液を８０℃に冷却し、この温
度で３０分間かきまぜる。溶解しなかつた１，８−ジニ
トロナフタリンからなる残渣は次に８０℃に加熱した吸
引フイルタ一を用いてＦ別し、クメン２００ｍ１で洗う
。乾燥後、純度９９．４％の１，８−ジニトロナフタリ
ン４０．４９を得る。淵液はクメンを留去することによ
つて１５０７１１１に濃縮する。

１，８−および１，５−ジニトロナフタリンからなる混
合物２８．５９を室温で沈降する。

このようにして得られた１，５−および１，８−ジニト
ロナフタリンの混合物２８．５９をふたたび１，２−ジ
クロロエタン１．３ｍ１にけん濁させ、けん濁液をかき
まぜながら１５分間加熱還流する。５２℃に冷却後、け
ん濁液を１０分間かきまぜ、晶出した１，５−ジニトロ
ナフタリンを加熱した吸引フイルタ一を用いて分離する
。

分離した１，５−ジニトロナフタリンを１，５−ジクロ
ロエタン５０ｍ１で洗う。純度９９．２％の１，５−ジ
ニトロナフタリン７．２９を得る。１，２−ジクロロエ
タンは真空で留去し、得られた残渣はクメン２３０ＷＬ
Ｉにけん濁させる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 少なくとも２種類の成分を含むジニトロナフタリン
   異性体の混合物から１，５−および１，８−ジニトロナ
   フタリンを単離するにあたり、異性体混合物をジニトロ
   ナフタリンに対する極性の大きい溶媒とアルキル化ベン
   ゼンで順次に処理し、この場合まず異性体の混合物を、
   大部分未溶解のまま残る１，５−ジニトロナフタリンを
   除外して、ケトン、ラクタム、スルホン及びハロゲン化
   脂肪族炭化水素よりなる群より選ばれた１又は２以上の
   極性の大きい溶媒中に溶解させ、続いて異性体の残りの
   混合物を、極性の大きい溶媒を除去した後、１，８−ジ
   ニトロナフタリンが大部分未溶解残渣として残るように
   高温でアルキル化ベンゼンで処理することを特徴とする
   方法。 ２ スルホラン、ε−カプロラクタムまたはアセトンを
   極性の大きい溶媒として用いることを特徴とする、特許
   請求の範囲第１項記載の方法。 ３ １，５−ジニトロナフタリンを２０−１５０℃で分
   離することを特徴とする、特許請求の範囲第１項又は第
   ２項記載の方法。 ４ トルエンまたはキシレンをアルキル化ベンゼンとし
   て用いることを特徴とする、特許請求の範囲第１−３項
   の何れかに記載の方法。 ５ アルキル化ベンゼンによる処理を４０−１５０℃の
   温度で行うことを特徴とする、特許請求の範囲第１−４
   項の何れかに記載の方法。 ６ １，５−ジニトロナフタリンをスルホランによる処
   理によつて分離し、１，８−ジニトロナフタリンをトル
   エンによる処理によつて分離することを特徴とする、特
   許請求の範囲第１−５項の何れかに記載の方法。 ７ 最初のプロセス工程において分離を０．１−２５重
   量部の水の存在下に行うことを特徴とする、特許請求の
   範囲第１−６項の何れかに記載の方法。 ８ １，５−ジニトロナフタリンを分離した後、高沸点
   のアルキル化ベンゼンをジニトロナフタリン異性体の極
   性の大きい溶媒中の溶液に加え、次に極性の大きい溶媒
   を留去することを特徴とする、特許請求の範囲第１−７
   項の何れかに記載の方法。 ９ 少なくとも１０％、多くて９８％の１，５−ジニト
   ロナフタリンと少なくとも２％、多くて９０％の１，８
   −ジニトロナフタリンを含んでいるジニトロナフタリン
   の異性体混合物を用いることを特徴とする、特許請求の
   範囲第１−８項の何れかに記載の方法。 １０ 連続操作において、最初のプロセス工程において
   はジニトロナフタリン異性体混合物を極性の大きい溶媒
   で処理した後、１，５−ジニトロナフタリンを未溶解残
   渣として実質的に分離し、そして極性の大きい溶媒を分
   離した後、第二のプロセス工程では高温でアルキル化ベ
   ンゼンで異性体の残りの混合物を処理した後、１，８−
   ジニトロナフタリンを未溶解残渣として実質的に分離し
   、そして次にまだ分離されていないジニトロナフタリン
   の一部またはかなりの量を最初のプロセス工程に戻すこ
   とを特徴とする、特許請求の範囲第１−９項の何れかに
   記載の方法。