JPS59146428A - 磁気ヘツドコアの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドコアの製造方法Info
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- JPS59146428A JPS59146428A JP2098083A JP2098083A JPS59146428A JP S59146428 A JPS59146428 A JP S59146428A JP 2098083 A JP2098083 A JP 2098083A JP 2098083 A JP2098083 A JP 2098083A JP S59146428 A JPS59146428 A JP S59146428A
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- core
- film
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Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 9
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims abstract description 8
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims abstract description 8
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000003466 welding Methods 0.000 claims description 9
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 2
- 208000003028 Stuttering Diseases 0.000 claims 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 abstract description 14
- 238000002844 melting Methods 0.000 abstract description 13
- 230000008018 melting Effects 0.000 abstract description 13
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 abstract description 11
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 3
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 2
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 abstract 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 229910004077 HF-HNO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
この発明は、磁気記録を行うヘッドコアの製造技術に関
するものである。
するものである。
従来より磁気記録を行わせるＶＴＲやコンピュータ等の
磁気ヘッドは、高飽和磁化，低保持力，良好な周波数特
性を示す材質の強磁性体コアを必要とし、Ｍｎ−Ｚｎ系
フェライトが実用に供されている。しかしフェライトで
は、特に高飽和磁束密度が限界に達しているので、最近
ではセンダスト等の合金系材料に換りつつある。しかし
ながら、これら合金系材料は、ビッカース強度が５００
前後であり、フェライトの６００〜７００に比べて低く
、そのため耐磨耗性に難があった。しかも合金素材料は
、加工技術が未だ確率しておらず、加工変質が起り易く
、さらに量産性の点でもフェライトに及ばない弱点があ
った。また特にコアに関しては、ガラス溶着法により組
付けする際に巻線挿通窓に溶着ガラスが不要に被着して
、巻線挿通作業性を低下させる実装上の問題があった。
磁気ヘッドは、高飽和磁化，低保持力，良好な周波数特
性を示す材質の強磁性体コアを必要とし、Ｍｎ−Ｚｎ系
フェライトが実用に供されている。しかしフェライトで
は、特に高飽和磁束密度が限界に達しているので、最近
ではセンダスト等の合金系材料に換りつつある。しかし
ながら、これら合金系材料は、ビッカース強度が５００
前後であり、フェライトの６００〜７００に比べて低く
、そのため耐磨耗性に難があった。しかも合金素材料は
、加工技術が未だ確率しておらず、加工変質が起り易く
、さらに量産性の点でもフェライトに及ばない弱点があ
った。また特にコアに関しては、ガラス溶着法により組
付けする際に巻線挿通窓に溶着ガラスが不要に被着して
、巻線挿通作業性を低下させる実装上の問題があった。
そこで、この発明は、センダスト等の強度性体合金材料
を、非磁性体補強基板へスパッタリング法等によって薄
膜形成させたコアブロックと他の非磁性体補強基板とを
ガラス溶着させて組付けする手段を利用し、予め巻線挿
通用窓部に、ガラス接着材を埋設しておき、接着時に窓
部内のガラス接着材を排出・除去させる方法としたもの
である。
を、非磁性体補強基板へスパッタリング法等によって薄
膜形成させたコアブロックと他の非磁性体補強基板とを
ガラス溶着させて組付けする手段を利用し、予め巻線挿
通用窓部に、ガラス接着材を埋設しておき、接着時に窓
部内のガラス接着材を排出・除去させる方法としたもの
である。
よって、この発明は、後述の実施例から明らかな通り、
従来の合金系材料を用いる磁気ヘッドコアが有していた
、耐磨耗性，加工変質，量産性，そして巻線挿通作業性
等の諸欠点を全て解決できる優れた長所がある。
従来の合金系材料を用いる磁気ヘッドコアが有していた
、耐磨耗性，加工変質，量産性，そして巻線挿通作業性
等の諸欠点を全て解決できる優れた長所がある。
この発明の最良の形態は、次に説明する実施例より明白
となるであろう。
となるであろう。
第１図〜第８図は、この発明の一実施例を示す磁気ヘッ
ドコアの各製造工程での斜視図又は正面図である。まず
第１図は、非磁性体補強基板としての高融点ガラス基板
１の斜視図で、長手方向に沿って巻線挿通用窓部形成の
ための切欠き溝２が予め形成されている。さてこの実施
例では、上述のガラス基板１を用意して、まず第２図の
ように、切欠き溝２内面全含む上面へ組成比がＡｌ５〜
７、Ｓｉ８〜１０Ｆｅ残部名ωｔ％のセンダスト合金薄
膜３を１０−２Ｔｏｒｒ程度のＡｒ雰囲気中で高周波ス
パッタリング法によって所定の膜厚に付着させる。この
センダスト合金薄膜３は強磁性体コアの役割を果すもの
であり、溶融ガラスに対する濡れ性は良くないが、この
発明では、後述の通りこの点をむしろ活用している。つ
ぎに、第３図に示すように、センダスト合金薄膜３の切
欠き溝内面２′に、ガラス溶着材として低融点ガラス４
を溶着盛付けし、センダスト合金薄膜３の平坦面５と同
一平面全形成するように研磨する。
ドコアの各製造工程での斜視図又は正面図である。まず
第１図は、非磁性体補強基板としての高融点ガラス基板
１の斜視図で、長手方向に沿って巻線挿通用窓部形成の
ための切欠き溝２が予め形成されている。さてこの実施
例では、上述のガラス基板１を用意して、まず第２図の
ように、切欠き溝２内面全含む上面へ組成比がＡｌ５〜
７、Ｓｉ８〜１０Ｆｅ残部名ωｔ％のセンダスト合金薄
膜３を１０−２Ｔｏｒｒ程度のＡｒ雰囲気中で高周波ス
パッタリング法によって所定の膜厚に付着させる。この
センダスト合金薄膜３は強磁性体コアの役割を果すもの
であり、溶融ガラスに対する濡れ性は良くないが、この
発明では、後述の通りこの点をむしろ活用している。つ
ぎに、第３図に示すように、センダスト合金薄膜３の切
欠き溝内面２′に、ガラス溶着材として低融点ガラス４
を溶着盛付けし、センダスト合金薄膜３の平坦面５と同
一平面全形成するように研磨する。
その後、第４図のように、センダスト合金薄膜３の上面
に、レジストを、スピンナーで塗□し、フォトリゾグラ
フィ技術によりマスキングを行う。
に、レジストを、スピンナーで塗□し、フォトリゾグラ
フィ技術によりマスキングを行う。
そしてＨＦ−ＨＮＯ３系エツチング液に浸漬することに
よって、第５図のように、狭帯域平坦面５上のマスキン
グされなかった部分の薄膜を除去する。
よって、第５図のように、狭帯域平坦面５上のマスキン
グされなかった部分の薄膜を除去する。
それから、第６図のように酸化物材料で低融点ガラス４
と親和性が良いギャップスペーサとしてＳｉＯ２７を高
融点ガラス１′、１′、４・・・・・及び薄膜５，５，
・・・・・・上へ、スパッタリング法により付着させる
。
と親和性が良いギャップスペーサとしてＳｉＯ２７を高
融点ガラス１′、１′、４・・・・・及び薄膜５，５，
・・・・・・上へ、スパッタリング法により付着させる
。
ここで薄膜５，５，・・・・・・上のＳｉＯ，７は、完
成したコアの磁気的キャップを形成する。
成したコアの磁気的キャップを形成する。
そしてさらに、センダスト合金薄膜３と同様にして、第
７図のようにセンダスト合金薄膜８を全面に付着形成し
、その狭帯域平坦面９の高融点ガラス１′，１′，・・
・・・と対向する部分を、薄膜５，５，・・・・・形成
と同様にしてエツチング除去する。最後にセンダスト合
金薄膜８上に、高融点ガラス基板１と同一材質の基板１
０を準備して、第８図のように今度は基板１０と薄膜８
との間隙を低融点ガラス４′で詰め加熱圧層させながら
、逆に切欠き溝内面２′に埋設されていた低融点ガラス
４を排出・除去させて窓部１１を形成する。
７図のようにセンダスト合金薄膜８を全面に付着形成し
、その狭帯域平坦面９の高融点ガラス１′，１′，・・
・・・と対向する部分を、薄膜５，５，・・・・・形成
と同様にしてエツチング除去する。最後にセンダスト合
金薄膜８上に、高融点ガラス基板１と同一材質の基板１
０を準備して、第８図のように今度は基板１０と薄膜８
との間隙を低融点ガラス４′で詰め加熱圧層させながら
、逆に切欠き溝内面２′に埋設されていた低融点ガラス
４を排出・除去させて窓部１１を形成する。
上述した中で高融点ガラス基板１，１０及び低融点ガラ
ス４の材質選定は重要で、例えば、ガラス難加点が６０
０℃及び３７７℃のコーニング社の＃８１６１ガラス及
び＃８４６．３ガラスが適切である。
ス４の材質選定は重要で、例えば、ガラス難加点が６０
０℃及び３７７℃のコーニング社の＃８１６１ガラス及
び＃８４６．３ガラスが適切である。
また、低融点ガラス４を排出・除去させるには、薄膜３
及び８とは先述の通り濡れ性が良くないので、不活性ガ
スをノズルより噴射して除去したり、或いは耐熱性の突
き棒で排出させたりすることができる。
及び８とは先述の通り濡れ性が良くないので、不活性ガ
スをノズルより噴射して除去したり、或いは耐熱性の突
き棒で排出させたりすることができる。
この発明は、以上の実施例からも判るように、コアを形
成する強磁性体薄膜は、非磁性体補強基板へスパッタリ
ング法等により付着されるので膜厚設定や磁気的ギャッ
プ形成が容易かつ精度良くでき、しかもコア組付けを加
熱圧層してガラス溶着させるとともに、不要なガラス溶
着材を除去するので、窓部が確実に作れ、巻線挿通作業
性及び量産性が向上するのである。
成する強磁性体薄膜は、非磁性体補強基板へスパッタリ
ング法等により付着されるので膜厚設定や磁気的ギャッ
プ形成が容易かつ精度良くでき、しかもコア組付けを加
熱圧層してガラス溶着させるとともに、不要なガラス溶
着材を除去するので、窓部が確実に作れ、巻線挿通作業
性及び量産性が向上するのである。
第１図〜第８図は、この発明の一実施例を示す磁気ヘッ
ドコアの各工程における斜視図又は正面図である。 １，１０・・・・・・非磁性体補強基板、３，８・・・
・・・強磁性捧薄膜、 ４，４′・・・ガラス溶着材、 ７・・・・・・ギャップスペーサ、 １１・・・窓部。 第１図２ ］ 第２図第３図 １ 第４図 ７６′ ４１．３ 第５図 ］′３ 第７図
ドコアの各工程における斜視図又は正面図である。 １，１０・・・・・・非磁性体補強基板、３，８・・・
・・・強磁性捧薄膜、 ４，４′・・・ガラス溶着材、 ７・・・・・・ギャップスペーサ、 １１・・・窓部。 第１図２ ］ 第２図第３図 １ 第４図 ７６′ ４１．３ 第５図 ］′３ 第７図
Claims (1)
- 非磁性体補強基板へ、スタッタリング法等により強磁性
体薄膜を形成させたものへ、他の非磁性体補強基板とを
ガラス溶着して磁気ヘッドコアを構成する方法に関して
予め巻線挿通用窓部に、ガラス溶着材を埋設しておき、
溶着時に窓部内のガラス溶着材を排出・除去させること
を特徴とする磁気ヘッドコアの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2098083A JPS59146428A (ja) | 1983-02-09 | 1983-02-09 | 磁気ヘツドコアの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2098083A JPS59146428A (ja) | 1983-02-09 | 1983-02-09 | 磁気ヘツドコアの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59146428A true JPS59146428A (ja) | 1984-08-22 |
Family
ID=12042303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2098083A Pending JPS59146428A (ja) | 1983-02-09 | 1983-02-09 | 磁気ヘツドコアの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59146428A (ja) |
-
1983
- 1983-02-09 JP JP2098083A patent/JPS59146428A/ja active Pending
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