JPS59149688A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JPS59149688A JPS59149688A JP58024126A JP2412683A JPS59149688A JP S59149688 A JPS59149688 A JP S59149688A JP 58024126 A JP58024126 A JP 58024126A JP 2412683 A JP2412683 A JP 2412683A JP S59149688 A JPS59149688 A JP S59149688A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ring
- roller
- heating chamber
- rotating
- heating device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、電子レンジなどの高周波加熱装置に関するも
のである。
のである。
Ｊ
従粱イ構成とその問題点
第１図は従来の構成の高周波加熱装置の構造を示す断面
図である。第１図において加熱室１の前面にはドアー２
を開閉自在に設けている。加熱室１には導波管３を連結
して設け、これにマグネトロン４を設けている。マグネ
トロン４から発振した電波は導波管３を介して加熱室１
内に照射する。
図である。第１図において加熱室１の前面にはドアー２
を開閉自在に設けている。加熱室１には導波管３を連結
して設け、これにマグネトロン４を設けている。マグネ
トロン４から発振した電波は導波管３を介して加熱室１
内に照射する。
被加熱物６は回転台６の上に載置され、均一加熱を行な
うために加熱中はモータ７により回転さ゛せる。回転皿
６の周囲には加熱室底面に回転自在に支持したローラ８
を設け、回転皿６の荷重を支持している。９はローラ８
の回転軸である。
うために加熱中はモータ７により回転さ゛せる。回転皿
６の周囲には加熱室底面に回転自在に支持したローラ８
を設け、回転皿６の荷重を支持している。９はローラ８
の回転軸である。
このような従来の構成によると、被加熱物６及び回転皿
６の荷重は、ローラ８に加わり回転軸９に加わる。この
ローラ８と回転軸９は荷重が加わった状態で回転するの
で摺動摩擦抵抗が犬きくなシ、モータ７は大きなトルク
が必要で大型となシ高価となるばかりでなく、加熱室下
部に広いスペースが必要となり、装置全体が大きくなり
、使い勝手の面からも好ましくなかった。
６の荷重は、ローラ８に加わり回転軸９に加わる。この
ローラ８と回転軸９は荷重が加わった状態で回転するの
で摺動摩擦抵抗が犬きくなシ、モータ７は大きなトルク
が必要で大型となシ高価となるばかりでなく、加熱室下
部に広いスペースが必要となり、装置全体が大きくなり
、使い勝手の面からも好ましくなかった。
また一部ではローラ８を用いないでモータ７の軸だけで
回転皿６を支持する構成もあうたが、この場合はモータ
７に全荷重が加わシ、モータ７Ｇ強度が必要でこれもま
たモータ７の大型化につながるたけでなく、被加熱物６
を回転皿６に偏心して置いた場合などは、回転が不安定
となシ、いずれの構成も好ましくなかった。
回転皿６を支持する構成もあうたが、この場合はモータ
７に全荷重が加わシ、モータ７Ｇ強度が必要でこれもま
たモータ７の大型化につながるたけでなく、被加熱物６
を回転皿６に偏心して置いた場合などは、回転が不安定
となシ、いずれの構成も好ましくなかった。
またローラ９は加熱室底面に固定しているので加熱室内
での位置は一定であり、加熱室内にできる定在波は一定
となる。このため被加熱物５は回転しているものの例え
ば中心軸上の位置は動かないのでこの部分に被加熱物の
種類、形状によっては焼けむらが出る場合があり好まし
くなかった。
での位置は一定であり、加熱室内にできる定在波は一定
となる。このため被加熱物５は回転しているものの例え
ば中心軸上の位置は動かないのでこの部分に被加熱物の
種類、形状によっては焼けむらが出る場合があり好まし
くなかった。
発明の目的
本発明は上記従来の欠点を解消するもので、モータの小
型化を図り、安価に構成し、消費電力を低減し、省エネ
ルキーとすると共に、回転皿の回転を安定させ、耐久性
を高め、更には加熱むらの少ない均一加熱のできる高周
波加熱装置を実現することを目的とする。
型化を図り、安価に構成し、消費電力を低減し、省エネ
ルキーとすると共に、回転皿の回転を安定させ、耐久性
を高め、更には加熱むらの少ない均一加熱のできる高周
波加熱装置を実現することを目的とする。
発明の構成
上記目的を達成Ｖるため、本発明の高周波加熱装置は回
転皿と加熱室の底面との間に、金属製の非対称形に構成
したリングを移動自在に設け、このリングに回転自在に
支持したローラを複数個設け、このローラによって回転
皿を回転自在に支持する構成であり、ローラは回転皿の
回転に従って自由に位置を移動し、ころがりながら回転
皿の荷重を受けるため、ローラの軸には荷重が加わらず
、大きな摩擦抵抗が生じることはなく、回転トルクは極
めて小さくできると共に非対称形に構成したリングが電
界を攪拌し均一加熱ができるという効果を有するもので
ある。
転皿と加熱室の底面との間に、金属製の非対称形に構成
したリングを移動自在に設け、このリングに回転自在に
支持したローラを複数個設け、このローラによって回転
皿を回転自在に支持する構成であり、ローラは回転皿の
回転に従って自由に位置を移動し、ころがりながら回転
皿の荷重を受けるため、ローラの軸には荷重が加わらず
、大きな摩擦抵抗が生じることはなく、回転トルクは極
めて小さくできると共に非対称形に構成したリングが電
界を攪拌し均一加熱ができるという効果を有するもので
ある。
実施例の説明
以下、本発明の一実施例について図面に基づいて説明す
る。第２図は本発明による高周波加熱装置の回転朋の部
分を拡大した断面図である。
る。第２図は本発明による高周波加熱装置の回転朋の部
分を拡大した断面図である。
第２図において、加熱室１１の底部には被加熱物１２を
回転載置するための回転皿１３を設けるｏ−回転皿１３
は被加熱物１２への電波の照射を良く。
回転載置するための回転皿１３を設けるｏ−回転皿１３
は被加熱物１２への電波の照射を良く。
するためにガラス、磁器など電波を透過しやすい材料で
ある非金属で構成する方が加熱性能は良くなる。回転皿
１３の中央部にはモータ１４の軸１６と嵌合する嵌合部
１６を設け、軸１６の回転トルクを回転皿１３に伝える
０回転皿１３ と加熱室底面１７との間には金属材料で
構成したりング１８を設け、このリング１８には、プラ
スチック、磁器などの低誘電率材料で構成したローラ１
９ヲ複数個設け、ピン２ｏによってリング１８に対して
回転自在に支持する０ リング丁８は一部の形状を異ならせて非対称形に構成し
ている。
ある非金属で構成する方が加熱性能は良くなる。回転皿
１３の中央部にはモータ１４の軸１６と嵌合する嵌合部
１６を設け、軸１６の回転トルクを回転皿１３に伝える
０回転皿１３ と加熱室底面１７との間には金属材料で
構成したりング１８を設け、このリング１８には、プラ
スチック、磁器などの低誘電率材料で構成したローラ１
９ヲ複数個設け、ピン２ｏによってリング１８に対して
回転自在に支持する０ リング丁８は一部の形状を異ならせて非対称形に構成し
ている。
加熱室底面１７の外周部は、ローラ１９が回転するとき
にガイドとなるように立上シ部を設け、ＩＪング１８を
加熱室底面１７に載置したときに位置が決まるようにし
ている０ 第３図は本発明による副周波加熱装置のリング１８およ
び、ローラ１９ピン２０によって構成された回転支持体
の外観を斜視図で示したもので、第２図における部品と
同一番号で示した０第３図に示すリングの実施例ではリ
ング１８の一部分に広幅部２１．’２２を設けることに
よって非対称形状としたものである０ 第４図は本発明による高周波加熱装置の回転支持体の他
の実施例を示す斜視図である。第４図に示す回転支持体
の実施例ではリング１８の一部分に非円形部２３．２４
を設ける・ことによって非対称形状としたものである。
にガイドとなるように立上シ部を設け、ＩＪング１８を
加熱室底面１７に載置したときに位置が決まるようにし
ている０ 第３図は本発明による副周波加熱装置のリング１８およ
び、ローラ１９ピン２０によって構成された回転支持体
の外観を斜視図で示したもので、第２図における部品と
同一番号で示した０第３図に示すリングの実施例ではリ
ング１８の一部分に広幅部２１．’２２を設けることに
よって非対称形状としたものである０ 第４図は本発明による高周波加熱装置の回転支持体の他
の実施例を示す斜視図である。第４図に示す回転支持体
の実施例ではリング１８の一部分に非円形部２３．２４
を設ける・ことによって非対称形状としたものである。
第６図は同装置の回転支持体の別の実施例を示す斜視図
である。第６図に示す回転支持体の実施 例では、
リング１８は電波を透過する低誘電率材料で円形に対称
形に形成している。そしてリング１８の一部に金属体２
５．２６を固定することによって電波反射体としては電
波に対して非対称特性を持たせた実施例である。
である。第６図に示す回転支持体の実施 例では、
リング１８は電波を透過する低誘電率材料で円形に対称
形に形成している。そしてリング１８の一部に金属体２
５．２６を固定することによって電波反射体としては電
波に対して非対称特性を持たせた実施例である。
以下上記構成における作用について説明する。
被加熱物１２及び回転皿１３の荷電は、ローラ１９に加
わ９、このローラ１９によって加熱室底面１７との間で
直接荷重を受けるものである。リング１８とピン２０は
ローラ１９の円周上の位置を規制すると共に、ローラ１
９を回転支持体として一体に構成する役目をする。モー
タ１４の回転トルクは軸１６を介して回転皿１３の嵌合
部１６に伝わり、回転皿１３を回転させる。回転皿１３
の回転によシローラ１９は加熱室底面１７上をころがシ
ながら荷重を支持し、回転移動する。このローラ１９の
移動につれてＩＪング１８が回転移動するものである。
わ９、このローラ１９によって加熱室底面１７との間で
直接荷重を受けるものである。リング１８とピン２０は
ローラ１９の円周上の位置を規制すると共に、ローラ１
９を回転支持体として一体に構成する役目をする。モー
タ１４の回転トルクは軸１６を介して回転皿１３の嵌合
部１６に伝わり、回転皿１３を回転させる。回転皿１３
の回転によシローラ１９は加熱室底面１７上をころがシ
ながら荷重を支持し、回転移動する。このローラ１９の
移動につれてＩＪング１８が回転移動するものである。
このように本実施例によれば、被加熱物１２および回転
皿１３の荷重は全てローラ１９によって加熱室底面１７
との間でＭ接受けるので、ピン２０部分の回転摩擦抵抗
は極めて小さくなる０いわゆるローラ１９がころが９軸
受の作用をし、回転皿は極めて小さいトルクで回転させ
ることができる。
皿１３の荷重は全てローラ１９によって加熱室底面１７
との間でＭ接受けるので、ピン２０部分の回転摩擦抵抗
は極めて小さくなる０いわゆるローラ１９がころが９軸
受の作用をし、回転皿は極めて小さいトルクで回転させ
ることができる。
さらにリング１８は非対称形としているので、これが回
転することによって加熱室内の定在波を変化さ笹、いわ
ゆる電界攪拌効果を発揮するので均一な加熱ができると
いう効果を有する。
転することによって加熱室内の定在波を変化さ笹、いわ
ゆる電界攪拌効果を発揮するので均一な加熱ができると
いう効果を有する。
発明の効果
以上のように本発明によれば次の効果を得ることができ
る。
る。
（１） リング１へ８を金属材料で構成しているので
、強度が強く堅牢で、変形などの故障も起りにくく、ピ
ン２０もかしめ、溶接等によって確実に固定でき耐久性
の高い装置となる。
、強度が強く堅牢で、変形などの故障も起りにくく、ピ
ン２０もかしめ、溶接等によって確実に固定でき耐久性
の高い装置となる。
耐熱性にも優れているので、例えば加熱室内にヒータを
設けた、ヒータ付の高周波加熱装置に用いても十分にそ
の作用を発揮することができる。
設けた、ヒータ付の高周波加熱装置に用いても十分にそ
の作用を発揮することができる。
金属製のリング１８は電界の反射、集中の作用があり、
その寸法、形状を適宜に選べば、被加熱物に対して最も
好ましい電界分布にすることも可能となる。特にこのリ
ング１８は被加熱物１２に対して極めて近い位置に設け
ているので、この効果は太きい。
その寸法、形状を適宜に選べば、被加熱物に対して最も
好ましい電界分布にすることも可能となる。特にこのリ
ング１８は被加熱物１２に対して極めて近い位置に設け
ているので、この効果は太きい。
またリング１８は回転皿１３の半分の回転数となるので
、リング１８と被加熱物１２及び加熱室１１との相関関
係位置が刻々と変化することになりリング１８を非対称
形とじているので電波の反射も、それぞれの回転位置で
変化する。
、リング１８と被加熱物１２及び加熱室１１との相関関
係位置が刻々と変化することになりリング１８を非対称
形とじているので電波の反射も、それぞれの回転位置で
変化する。
この反射の作用によって加熱室内の定在波は刻々と変化
することになシ、位置の移動しない回転の中心軸上にお
いても被加熱物に照射される電波は、攪拌され、均一な
加熱を行えることになる。
することになシ、位置の移動しない回転の中心軸上にお
いても被加熱物に照射される電波は、攪拌され、均一な
加熱を行えることになる。
リング１８を金属材料で構成しても、ローラ１９を低誘
電率材料で構成し、加熱室底面１７から浮かせた位置に
保たれているので、電波によるスパークを起す危険もな
い。
電率材料で構成し、加熱室底面１７から浮かせた位置に
保たれているので、電波によるスパークを起す危険もな
い。
（２） ローラ１９がころがり軸受の作用をし、ピン
２０部分の回転摩擦抵抗が極めて小さくなるので、回転
皿は極めて小さいトルクで回転するので、モータ１４は
軽負荷用の小型のものにできる０ これによりモータの消費電力が少なくて済み、省エネル
キーの装置が実現できる０ 加熱室の底部分のスペースが少なくて済み、コンパクト
な装置を実現できることになり、置き場所をとらない使
いやすい装置となる。
２０部分の回転摩擦抵抗が極めて小さくなるので、回転
皿は極めて小さいトルクで回転するので、モータ１４は
軽負荷用の小型のものにできる０ これによりモータの消費電力が少なくて済み、省エネル
キーの装置が実現できる０ 加熱室の底部分のスペースが少なくて済み、コンパクト
な装置を実現できることになり、置き場所をとらない使
いやすい装置となる。
モータの小型化、コンパクト設計の実現は安価で経済的
に構成できることにつながる０（３） ローラ１９に
よシ回転皿１３の外周面を支持しているので被加熱物１
２を偏心させて載置したとしても安定して回転させるこ
とができる０（４） リング１８、ローラ１９などの
回転支持体は、加熱室底面１７の上に載置しているたけ
なので、自在に着脱ができ、回転皿１３、回転支持体を
と９外せば、加熱室底面１７には軸１６たけとなり、底
面はすっき９となり、汚れも簡単に拭きとることができ
、極めて使い勝手釜良くすることができる。
に構成できることにつながる０（３） ローラ１９に
よシ回転皿１３の外周面を支持しているので被加熱物１
２を偏心させて載置したとしても安定して回転させるこ
とができる０（４） リング１８、ローラ１９などの
回転支持体は、加熱室底面１７の上に載置しているたけ
なので、自在に着脱ができ、回転皿１３、回転支持体を
と９外せば、加熱室底面１７には軸１６たけとなり、底
面はすっき９となり、汚れも簡単に拭きとることができ
、極めて使い勝手釜良くすることができる。
第１図は従来の高周波加熱装置の断面図、第２図は本発
明による高周波加熱装置の回転皿部分の構成を示す断面
図、第３図は同装置の回転支持体の外観を示す斜視図、
第４図、第５図は同装置の回転支持体の他の実施例を示
す斜視図である０１３・・・・・回転皿、１４・・・・
・・モータ、１６・山・・軸、１８・・・・・・リング
、１９・川・・ローラ、２０・−、、−ピン。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 ３ 第３図 ？？ 第４図 第５図 ２に
明による高周波加熱装置の回転皿部分の構成を示す断面
図、第３図は同装置の回転支持体の外観を示す斜視図、
第４図、第５図は同装置の回転支持体の他の実施例を示
す斜視図である０１３・・・・・回転皿、１４・・・・
・・モータ、１６・山・・軸、１８・・・・・・リング
、１９・川・・ローラ、２０・−、、−ピン。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 ３ 第３図 ？？ 第４図 第５図 ２に
Claims (1)
- 非金属体で構成した回転皿と加熱室底面の間に全体ある
いは一部を金属材料で構成したリングを設け、リングに
はローラを回転自在に固定して設け、前記ローラにより
回転皿を回転自在に支持する構成とし、前記リングの金
属体は非対称形に構成した高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58024126A JPS59149688A (ja) | 1983-02-15 | 1983-02-15 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58024126A JPS59149688A (ja) | 1983-02-15 | 1983-02-15 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59149688A true JPS59149688A (ja) | 1984-08-27 |
| JPS643040B2 JPS643040B2 (ja) | 1989-01-19 |
Family
ID=12129615
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58024126A Granted JPS59149688A (ja) | 1983-02-15 | 1983-02-15 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59149688A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4918262U (ja) * | 1972-05-20 | 1974-02-15 | ||
| JPS5119744U (ja) * | 1974-07-30 | 1976-02-13 | ||
| JPS5312539U (ja) * | 1977-07-13 | 1978-02-02 | ||
| JPS5752875U (ja) * | 1980-09-12 | 1982-03-26 |
-
1983
- 1983-02-15 JP JP58024126A patent/JPS59149688A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4918262U (ja) * | 1972-05-20 | 1974-02-15 | ||
| JPS5119744U (ja) * | 1974-07-30 | 1976-02-13 | ||
| JPS5312539U (ja) * | 1977-07-13 | 1978-02-02 | ||
| JPS5752875U (ja) * | 1980-09-12 | 1982-03-26 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS643040B2 (ja) | 1989-01-19 |
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