JPS59162149A - 石英ガラスの表面に炭化珪素膜を設ける方法 - Google Patents
石英ガラスの表面に炭化珪素膜を設ける方法Info
- Publication number
- JPS59162149A JPS59162149A JP58032838A JP3283883A JPS59162149A JP S59162149 A JPS59162149 A JP S59162149A JP 58032838 A JP58032838 A JP 58032838A JP 3283883 A JP3283883 A JP 3283883A JP S59162149 A JPS59162149 A JP S59162149A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- quartz glass
- silicon carbide
- glass
- carbide film
- inert gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、石英ガラスの表面に炭化珪素膜を設ける方法
に関するものである。
に関するものである。
炭化珪素は、非常に硬く丈夫な物質として矧られ、その
ＭもｌＩｉ！Ｉ密で化学的および物理的にも丈夫なもの
なので、保＃４！膜として利用さ名る。
ＭもｌＩｉ！Ｉ密で化学的および物理的にも丈夫なもの
なので、保＃４！膜として利用さ名る。
従来、この炭化珪素の膜の作り方は５ＩＣ１４トＣＨ４
と管反応させ、物体表面上にＳｉＣ１−ｍ看させるｔの
でいわゆる化学蒸気析出法（ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐ
ｏｒ［）ｅｐｏｓｉｔミＣＶＤ）と呼げ稍る方法であっ
て、比較的均一な厚さの陽を作るのに適【、ているが、
一般的忙は析出に時間がか＼ることから１μｍ以下の薄
Ｉ／−１膜の形成に利用でれてぃた。
と管反応させ、物体表面上にＳｉＣ１−ｍ看させるｔの
でいわゆる化学蒸気析出法（ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐ
ｏｒ［）ｅｐｏｓｉｔミＣＶＤ）と呼げ稍る方法であっ
て、比較的均一な厚さの陽を作るのに適【、ているが、
一般的忙は析出に時間がか＼ることから１μｍ以下の薄
Ｉ／−１膜の形成に利用でれてぃた。
そ・こで本発明の目的とするところは、膜厚の厚い炭化
珪素の膜を簡単かつ迅速に石英ガラスの表面に設けるこ
とが可能な方法ｆａ！供することＫあり、その特徴Ｆｊ
１８５０”Ｃ，以上にカＵ熱された石英ガラスの表面
にカーボン蒸気を含Ｘ７だ不活性ガスを接触？せ、石英
ガラスの表面に炭化珪素膜を生成させる工程管含むこと
にある。
珪素の膜を簡単かつ迅速に石英ガラスの表面に設けるこ
とが可能な方法ｆａ！供することＫあり、その特徴Ｆｊ
１８５０”Ｃ，以上にカＵ熱された石英ガラスの表面
にカーボン蒸気を含Ｘ７だ不活性ガスを接触？せ、石英
ガラスの表面に炭化珪素膜を生成させる工程管含むこと
にある。
以下回部ｆ参照りながら本発明を説明する。
１１ニオいて、１は黒鉛、モリブデンもＬ−＜ ｒ；ｉ
／ングステ／↓のルツボで、下部にノズル２ｅＷＬ。
／ングステ／↓のルツボで、下部にノズル２ｅＷＬ。
図示略のヒーターで、上記ルツボ１ ＋約２０００ ℃
萱で昇混場せ、内部に収納した石英ガラスの破片クズ、
もＬ〈はそれらの類似物ＩＮを溶融し、ノズル２−ｅ・
ら引出すよう構成する。ヒーターは、カーボン、タング
ステン４１− ＜ ｕモリブデン等の抵抗加熱器で翫良
いＬ１高周波加熱器で嶌良い。
萱で昇混場せ、内部に収納した石英ガラスの破片クズ、
もＬ〈はそれらの類似物ＩＮを溶融し、ノズル２−ｅ・
ら引出すよう構成する。ヒーターは、カーボン、タング
ステン４１− ＜ ｕモリブデン等の抵抗加熱器で翫良
いＬ１高周波加熱器で嶌良い。
他方、ルツボ１内には、ノズル２に向けて黒鉛輿の不活
性ガス導入管３が配置され、その内部に例えば１〜１０
ｔ／ｍｉｎの流量で窒素ガスを流す。したがって、熔融
した石英ガラス４が、ノズル２から流出する晧、石英ガ
ラス４はルツボ１の下方において、中空のバイブ状に凝
固した石英ガラス４ａとなり中空部５ｔｌ、ガス導入管
３を構成するカーボンの蒸気を含んだ窒素ガスが通過す
る。この時石英ガラス４＆の内面はノズル２近傍で約２
０００℃であり、こ＼でカーボン蒸気と石英ガラスを構
成する珪素とが反応して、石英ガラスの狭面にうす茶色
の炭化珪素を生成させる。したがって、上記状態で石英
ガラス４Ｌｆｆｉその″ｔ＼下方へ引出していくと、そ
の内面に炭化珪素の膜が形成された石英ガラスのｔが得
られる。上記の状態で約５βｍ以上の膜厚の炭化珪素が
比較的簡単かつ迅速に得られる。また、炭化珪素の物性
上、この膜ｆ投けた石英ガラスは非常に耐熱性が大＊＜
ｙｊ：ｎ、通常石英ガラスの熱加工時に使用する酸水素
炎で加熱して嘱変形しない。
性ガス導入管３が配置され、その内部に例えば１〜１０
ｔ／ｍｉｎの流量で窒素ガスを流す。したがって、熔融
した石英ガラス４が、ノズル２から流出する晧、石英ガ
ラス４はルツボ１の下方において、中空のバイブ状に凝
固した石英ガラス４ａとなり中空部５ｔｌ、ガス導入管
３を構成するカーボンの蒸気を含んだ窒素ガスが通過す
る。この時石英ガラス４＆の内面はノズル２近傍で約２
０００℃であり、こ＼でカーボン蒸気と石英ガラスを構
成する珪素とが反応して、石英ガラスの狭面にうす茶色
の炭化珪素を生成させる。したがって、上記状態で石英
ガラス４Ｌｆｆｉその″ｔ＼下方へ引出していくと、そ
の内面に炭化珪素の膜が形成された石英ガラスのｔが得
られる。上記の状態で約５βｍ以上の膜厚の炭化珪素が
比較的簡単かつ迅速に得られる。また、炭化珪素の物性
上、この膜ｆ投けた石英ガラスは非常に耐熱性が大＊＜
ｙｊ：ｎ、通常石英ガラスの熱加工時に使用する酸水素
炎で加熱して嘱変形しない。
本発明は上記の通りであるが、他の実施例として不活性
ガス中に、予めカーボン蒸気を含有せしめてもよく、こ
のときは不活性ガス導入管３としてタングステンＬＬ＜
’はモリブデ７ｖｒ利用し、不活性ガスとして、例えば
Ｃ）（４？含んだ窒素ガス、ヘリウム本しくけアルゴン
等を採用しても良い。
ガス中に、予めカーボン蒸気を含有せしめてもよく、こ
のときは不活性ガス導入管３としてタングステンＬＬ＜
’はモリブデ７ｖｒ利用し、不活性ガスとして、例えば
Ｃ）（４？含んだ窒素ガス、ヘリウム本しくけアルゴン
等を採用しても良い。
また、石英ガラスの表面湯度け、実験によれば、１８５
０℃以上あれは十分である。
０℃以上あれは十分である。
図は、本発明方法の説明図である。
１・・・ルツボ ２・・・ノズル
３・・・ガス導入管 ４・・・石英ガラス手続補正書（
自発） 昭和５８年６月３日 特許庁長官若杉和夫殿 １、事件の表示 昭和５８ 年 特許 願第 ３２８３８号２、発明の名
称 石英ガラスの表面に炭化珪素膜を設ける方法３、
補正をする者 事件との関係特許出願人 代娃湯不大蔵 ５、 補正命令の日付 ６、 補正により増加する発明の数″し７、補正の対象 別紙の通り 明細書筒３頁１４行目から１５行目の 「うす茶色の」を削除する。 以上
自発） 昭和５８年６月３日 特許庁長官若杉和夫殿 １、事件の表示 昭和５８ 年 特許 願第 ３２８３８号２、発明の名
称 石英ガラスの表面に炭化珪素膜を設ける方法３、
補正をする者 事件との関係特許出願人 代娃湯不大蔵 ５、 補正命令の日付 ６、 補正により増加する発明の数″し７、補正の対象 別紙の通り 明細書筒３頁１４行目から１５行目の 「うす茶色の」を削除する。 以上
Claims (1)
- １８５０℃以上に加熱略れた石英ガラスの表面に、カー
ボン蒸気を含んだ不活性ガスを接触させ、石英ガラスの
菱面に炭化珪素膜を生成させる工程を含むことを特徴と
する石英ガラスの表面に炭化珪素膜を設ける方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58032838A JPS59162149A (ja) | 1983-03-02 | 1983-03-02 | 石英ガラスの表面に炭化珪素膜を設ける方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58032838A JPS59162149A (ja) | 1983-03-02 | 1983-03-02 | 石英ガラスの表面に炭化珪素膜を設ける方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59162149A true JPS59162149A (ja) | 1984-09-13 |
| JPH0372585B2 JPH0372585B2 (ja) | 1991-11-19 |
Family
ID=12369959
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58032838A Granted JPS59162149A (ja) | 1983-03-02 | 1983-03-02 | 石英ガラスの表面に炭化珪素膜を設ける方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59162149A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4659354A (en) * | 1985-03-18 | 1987-04-21 | Cselt-Centro Studie Laboratori Telecomunicazioni S.P.A. | Method of producing silica optical fibres with reduced volume and surface defects |
| JPH02180710A (ja) * | 1988-11-10 | 1990-07-13 | Pechiney Electrometall | 微粉状αまたはβ炭化ケイ素の製造方法 |
-
1983
- 1983-03-02 JP JP58032838A patent/JPS59162149A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4659354A (en) * | 1985-03-18 | 1987-04-21 | Cselt-Centro Studie Laboratori Telecomunicazioni S.P.A. | Method of producing silica optical fibres with reduced volume and surface defects |
| US4702759A (en) * | 1985-03-18 | 1987-10-27 | Cselt-Centro Studi E Laboratori Telecommunicazioni S.P.A. | Apparatus for reducing volume and surface defects in silica optical-fibres |
| JPH02180710A (ja) * | 1988-11-10 | 1990-07-13 | Pechiney Electrometall | 微粉状αまたはβ炭化ケイ素の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0372585B2 (ja) | 1991-11-19 |
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