JPS59164237U - 蒸着装置 - Google Patents
蒸着装置Info
- Publication number
- JPS59164237U JPS59164237U JP5886283U JP5886283U JPS59164237U JP S59164237 U JPS59164237 U JP S59164237U JP 5886283 U JP5886283 U JP 5886283U JP 5886283 U JP5886283 U JP 5886283U JP S59164237 U JPS59164237 U JP S59164237U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- container
- vapor deposition
- metal silicide
- substrate
- deposition equipment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
図は本考案蒸着装置の一実施例を示すブロック図である
。
。
Claims (1)
- 密閉可能な容器と、密閉時にこの容器内を減圧する減圧
機構と、から成り、上記容器内を上記減圧機構で減圧し
、この容器内で容器内に配置された基板上に金属シリサ
イド膜を蒸着形成する蒸着装置において、上記容器内に
、１基板を載置する基板載置部と、金属シリサイドをイ
オン化せしめるイオン化手段と、このイオン化された金
属シリサイドを加速し、上記基板載置部へ導く加速手段
と、を設けたことを特徴とする蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5886283U JPS59164237U (ja) | 1983-04-19 | 1983-04-19 | 蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5886283U JPS59164237U (ja) | 1983-04-19 | 1983-04-19 | 蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59164237U true JPS59164237U (ja) | 1984-11-02 |
Family
ID=30189126
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5886283U Pending JPS59164237U (ja) | 1983-04-19 | 1983-04-19 | 蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59164237U (ja) |
-
1983
- 1983-04-19 JP JP5886283U patent/JPS59164237U/ja active Pending
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