JPS6116365U - 薄膜蒸着装置 - Google Patents
薄膜蒸着装置Info
- Publication number
- JPS6116365U JPS6116365U JP9890584U JP9890584U JPS6116365U JP S6116365 U JPS6116365 U JP S6116365U JP 9890584 U JP9890584 U JP 9890584U JP 9890584 U JP9890584 U JP 9890584U JP S6116365 U JPS6116365 U JP S6116365U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- film deposition
- deposition equipment
- vacuum vessel
- resistant
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は従来の薄膜蒸着装置を示す構成図、第2図はこ
の考案の一実施例を示す構成図である。 図において、1は真空容器、20は剥離体である。 なお各図中同一符号は同一又は相当部分を示す。
の考案の一実施例を示す構成図である。 図において、1は真空容器、20は剥離体である。 なお各図中同一符号は同一又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 蒸発源から発生した蒸着物質を真空容器内で基板へ物理
的に蒸着させるものにおいて、上記真空容器の内壁に耐
熱性を有し、剥離可能な剥離体を設けたことを特徴とす
る薄膜蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9890584U JPS6116365U (ja) | 1984-06-28 | 1984-06-28 | 薄膜蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9890584U JPS6116365U (ja) | 1984-06-28 | 1984-06-28 | 薄膜蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6116365U true JPS6116365U (ja) | 1986-01-30 |
Family
ID=30658423
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9890584U Pending JPS6116365U (ja) | 1984-06-28 | 1984-06-28 | 薄膜蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6116365U (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4999972A (ja) * | 1973-01-31 | 1974-09-20 | ||
| JPS55154570A (en) * | 1979-05-18 | 1980-12-02 | Nec Corp | Protecting method for vacuum deposition apparatus mechanism parts |
-
1984
- 1984-06-28 JP JP9890584U patent/JPS6116365U/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4999972A (ja) * | 1973-01-31 | 1974-09-20 | ||
| JPS55154570A (en) * | 1979-05-18 | 1980-12-02 | Nec Corp | Protecting method for vacuum deposition apparatus mechanism parts |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6116365U (ja) | 薄膜蒸着装置 | |
| JPS6013960U (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JPS5946237U (ja) | 複合フイルム | |
| JPS6013360U (ja) | 芳香性容器 | |
| JPS5963297U (ja) | 高圧容器 | |
| JPS59187139U (ja) | 半導体ウエハホルダ装置 | |
| JPS5895634U (ja) | アニ−ル装置 | |
| JPS5812268U (ja) | 蒸着装置 | |
| JPS60185657U (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JPS5827359U (ja) | スパツタ装置 | |
| JPS6086441U (ja) | 真空容器構造 | |
| JPS5834956U (ja) | 真空蒸着における排気装置 | |
| JPS5865363U (ja) | 管球用ガラスバルブへの金属反射膜の蒸着装置 | |
| JPS58168563U (ja) | 連続真空処理装置 | |
| JPS58128976U (ja) | スパツタ装置 | |
| JPH0330258U (ja) | ||
| JPS5877041U (ja) | 薄膜気相成長用気化装置 | |
| JPS5834957U (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPS6120556U (ja) | マスク治具 | |
| JPS58120645U (ja) | 真空処理装置 | |
| JPS5996830U (ja) | コ−テイング装置 | |
| JPS60182369U (ja) | 包装容器 | |
| JPS5887508U (ja) | 螢光を発するボタン | |
| JPS6094821U (ja) | プラズマcvd装置 | |
| JPS6057125U (ja) | 半導体気相成長装置 |