JPS5916538A - プラズマ密度の調整装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、布帛を連続的に低温プラズマ処理する装置に
おけるプラズマ密度を均一に調整することができるよう
にしたプラズマ密度調整装置に関するものである。

従来、工業的に織物、編物、不織布などの布帛を連続的
に、例えば染色前の処理工程では、その布帛繊維に刺着
されている撥水性夾雑物を除去して親水化し、該布帛に
染料液が容易に浸透せしめるための精練工程および染色
後柔軟、撥水、静電防止、防汚、吸水などの特性を付与
する仕上工程があるが、いずれの工程も水系で処理を行
っていた。

たとえば精練工程では、木綿を含む布帛の場合カセイソ
ータ゛、ノーダ灰などのアルカリ精練助剤を付与し、１
００℃前後で２０分以上スチーミングあるいはアルカリ
、精練助剤を含む水溶液で煮沸して、撥水性夾雑物を水
溶化せしめ次いで処理布帛に付着している薬剤および可
溶化された夾雑物等の付着物を除去するだめの手段とし
て水洗を繰り返ｌ〜行い更には、水洗後乾燥する工程が
必要であった。

また仕上工程においては、水に溶解あるいは分散させた
仕上加工剤を付与した後乾燥機を通して水分を蒸発除去
させる工程が必要であり加工目的によってはさらに高温
熱処理により仕上剤を反応固着せしめる工程が必要であ
った。

ところがかかる処理手段では処理用の薬剤がコスト高に
なること、薬剤を布帛に反応せしめるために多量の熱量
を必要とすること、さらには、精練工程の場合処理され
た布帛に含まれる残液、あるいは夾雑物及び又は付着物
を除去せしめるだめの多数の水洗機、及びこれらの各水
洗機内に供給すべき多量の水資源が必要であること、更
に水洗された排液を廃棄処理するための装置が必要であ
る等のことから、布帛を処理するには多量の水資源、熱
エネルギー設備費等がかさんでいるのが現状である。更
には水洗機より排出される廃液中には必然的にも薬剤が
金種れることから、排液公害等の問題も生じ該廃液の処
理にも多大なる設備費、人件費等が嵩んでいるもので、
特に繊維加工業界においては、経済性に欠けるものであ
った。

このよう々ことから、最近では、布帛等の繊維製品に低
温プラズマ雰囲気で処理して、例えば布帛の糊抜、精練
効果あるいは仕上加工効果を得ることが提案されている
が、この布帛の低温プラズマ（以下これを単にプラズマ
と称す）処理時において、その反応器内の布帛移送路に
おけるプラズマ雰囲気、即ちプラズマ密度が不均一であ
ると布帛に対するプラズマ処理が不均一となることは当
然のことであるが、例えばプラズマ雰囲気が布帛移送面
に対し、て均一であった場合には、その移送布帛の幅方
向中央部のプラズマ反応度がその両側辺縁部に対して弱
められる中希現象、あるいはその布帛の幅方向中央部の
プラズマ反応度が、その両側辺縁部に対して強められる
中濃現象の発生があり、幅広布帛の連続プラズマ処理時
においては、その幅方向にプラズマの反応むらを生じる
問題点があった。

本発明は、かかる問題点を解消するためになされたもの
で、プラズマ反応器内におけるプラズマ雰囲気、即ちそ
の反応器内を移送する布ｕ１の幅方向のプラズマ密度を
均一に調整すること、あるいは必要に応じて布帛の幅方
向中央部のプラズマ密度を、その布帛の両側辺縁部に作
用するプラズマ密度よりも高くなるように調整すること
もできるようにしたプラズマ密度の調整装置を提供する
ことを目的とするものである。

以下に本発明を図面に示す実施例に基いて詳細に説明す
る。

１は連続的プラズマ処理が可能な反応器であって、この
反応器１には低温プラズマ処理すべき布帛２をこの反応
器１内に連続的に導入するだめの導入口３と、反応器１
内の布帛を連続的に導出させるだめの導出口４が設けら
れている。

まだこの導入口３及び導出口４の夫々には、布帛を連続
的に挿通することはできるが、反応器１内を真空（０，
１〜１０　Ｔｏｒｒ　、望ましくは０．５〜２Ｔｏｒｒ
）に保つことができるシール機構５及び６が設けられて
いるが、かかるシール機構５．６は、本発明者らが開発
している公知のシール機構を利用することによって反応
器１の導入口及び導出口をシールすることができる。更
にこの反応器１の内部には、低温プラズマ処理機構が設
けられているが、この低温プラズマ処理機構は移行する
布帛２の移送路を境として上方に設置された高周波発生
電極７と、その下方に設置されたアース電極８とを有し
、この一方の高周波発生電極７には反応器１外に設備さ
れた発掘器（図示せず）からの高周波が供給されている
ものであり、他方のアース電極８はアースされている。

上記の高周波発生電極７の構成は、第２図及び第３図に
示す如く、小片に形成された多数の極板７ａが布帛２の
幅方向及び布帛の移送方向、即ち縦横方向に適宜間隔で
チドリ状に配置されており、更にこれらの極板７ａは石
英ガラス等の絶縁材で形成された極板保持枠７ｂによっ
て配設保持されている。またこれらの極板７ａは上記し
た発掘器に設けられている複数の出力端子に夫々独立し
て接続されていて、その発振器に設備されている各極板
７ａへの出力調整機構によって各極板７ａに作用きれる
入力の強弱を調整することができるようになっている。

即ち各極板７ａとアース電極８との間で生起されるプラ
ズマの密度を選択的に調整することができるようになっ
ている。尚上記高周波発生電極とアース電極の位置を逆
にして、そのアース電極８に高周波を入力させ、捷た各
極板７ａにはアース抵抗値を可変できる抵抗体を夫々に
接続してアースさせるようにしても、本願の目的は達成
できる。

９は高周波発生電極７の全面に向けてガスを吹き出すだ
めの絶縁材料からなるガスノズル、１０はアース電極８
を囲むようにして形成されている絶縁性材料からなる吸
気ダクトであって、この吸気ダクト１０は図示しない真
空ポンプに接続されている。１１は反応器１内に配設さ
れた布帛のガイドロールであって、このガイドロール１
１により上下対の電極７と８との間に形成される布帛通
路１２内に布帛を移送することができる。

以上が本実施例の構成であるが、次にその作用について
述べると、先ず真空ポンプ（図示せず）を駆動して反応
器１内の真空度が０．５〜５Ｔｏｒｒとなるように減圧
した後、ガスノズル９より空気又は酸素あるいはその他
のガスを反応器１内に供給して、この反応器１内の真空
度が約１　’ｌ’ｏｒｒとなるように調整する。そこで
高周波電源（図示せず）より高周波、例えば１３．５６
　ＭＨｚを高周波発生′電極に給電してプラズマを発生
させる。かくして発生するプラズマ及びこのプラズマに
より励起されたガスの雰囲気中、即ち両電極７．８間の
布帛通路１２内に布帛２を移行せしめることにより、該
布帛２に低温プラズマが作用し、布帛の親水化が達成さ
れるものであるが、上記の両電極７と８との間で発生す
るプラズマ密度は、電極７に入力される高周波電力の強
弱によって定まることから、例えばその布帛通路１２内
のプラズマ密度が不均一である場合には、チドリ状に配
列されている各極板へ供給する高周波電力の強弱を、各
極板ごとに調整することに布帛通路１２内の全面に亘っ
て均一なプラズマ密度とすることができ、壕だそれとは
逆に、布帛通路１２の一部のプラズマ密度を高く、又は
低くすることが自由に行なえ、これによって布帛の全面
に対して均一なプラズマ処理が達成できるものである。

以上のように本発明は、反応器内に隔設された一対の電
極を内装せしめた低温プラズマ処理装置において、その
一方の電極を、多数の小極板を平面的かつチドリ状に隔
設して構成し、更にこれらの小極板は独立して、電力調
整可能な発」膜量に又は、可変抵抗器を介してアースに
夫々接続されていることを特徴とするプラズマ密度の調
整装置であるから、この小極板へ供給する高周波電力の
強弱を各極板ごとに調整することにより、プラズマ処理
すべき布帛面に作用させるプラズマ密度を、その布帛の
プラズマ反応が均一となるように変化調整することがで
きるので、連続的に移行させる布帛へのプラズマ処理の
中希現象を解消し、布帛全面に亘る均一なプラズマ処理
ができる効果がある。

【図面の簡単な説明】 図面はいずれも本発明より々る装置の実施例を示し、第
１図はその装置全体の断面説明図、第２図は装部横断面
説明図、第３図はその平面図である。 １・・・反応器　　　　　２・・・商用３・・・導入口
　　　　　４・・・導出口５．６・・・シール機構　７
・・・高周波発生電極７ａ・・・小極板　　　　７ｂ・
・・極板保持枠８・・・アース電極　　　９・・・ガス
ノズル１０・・・吸気ダクト　　　１１・・・ガイドロ
ール１２・・・布帛通路。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 反応器内に隔設された一対の電極を内装せしめた低温プ
   ラズマ処理装置において、その一方の電極を、多数の小
   極板を平面的かつチドリ状に隔設して構成し、更にこれ
   らの小極板は独立して、市力調整用能な発振器に、又は
   可変抵抗器を介してアースに夫々接続されていることを
   特徴とするプラズマ密度の調整装置。