JPS59168946A - 光デイスク - Google Patents
光デイスクInfo
- Publication number
- JPS59168946A JPS59168946A JP58043538A JP4353883A JPS59168946A JP S59168946 A JPS59168946 A JP S59168946A JP 58043538 A JP58043538 A JP 58043538A JP 4353883 A JP4353883 A JP 4353883A JP S59168946 A JPS59168946 A JP S59168946A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- film
- polymer
- metal
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、デジタルオーディオディスク等の光を利用し
た、デジタル信号処理用ディスク等に適用される光ディ
スクに関するものである。
た、デジタル信号処理用ディスク等に適用される光ディ
スクに関するものである。
従来例の構成とその問題点
従来のデジタルオーディオディスク（以後ＤムＤ２べ−
ご と略）は、凹凸信号を射出成形又はフォトポリマーによ
り一定厚樹脂基板に形成させ、その上に光反射用の金属
薄膜を蒸着やスパッタにより形成させた後、金属薄膜上
にそれを保護する樹脂基板又は、高分子保護膜を施し、
その上に印刷を施すことによシ、所望のＤＡＤを得てい
た。しかし本発明者らは、これだけでは、ＤＡＤが非接
触による信号処理と言えども樹脂表面に傷が付き、それ
が信号判別を誤らせる原因となるばかりでなく、商品価
値も劣ったものとなってしまうことを発見した。又、両
面に架橋高分子硬化薄膜を形成させると、傷が付く欠点
はなくなるが金属薄膜面への印刷特性が若干劣ってしま
うという問題が生じた。
ご と略）は、凹凸信号を射出成形又はフォトポリマーによ
り一定厚樹脂基板に形成させ、その上に光反射用の金属
薄膜を蒸着やスパッタにより形成させた後、金属薄膜上
にそれを保護する樹脂基板又は、高分子保護膜を施し、
その上に印刷を施すことによシ、所望のＤＡＤを得てい
た。しかし本発明者らは、これだけでは、ＤＡＤが非接
触による信号処理と言えども樹脂表面に傷が付き、それ
が信号判別を誤らせる原因となるばかりでなく、商品価
値も劣ったものとなってしまうことを発見した。又、両
面に架橋高分子硬化薄膜を形成させると、傷が付く欠点
はなくなるが金属薄膜面への印刷特性が若干劣ってしま
うという問題が生じた。
発明の目的
本発明は、光ディスクの傷付き防止とディスク裏面への
印刷特性の維持を目的とし、両面にハード・コーティン
グを施す場合と同様にそりの少い光ディスクを得るため
、架橋高分子硬化薄膜の膜厚を最適膜厚にし、光ディス
クの最適形状を見い出したものである。
印刷特性の維持を目的とし、両面にハード・コーティン
グを施す場合と同様にそりの少い光ディスクを得るため
、架橋高分子硬化薄膜の膜厚を最適膜厚にし、光ディス
クの最適形状を見い出したものである。
３べ ゛
発明の構成
本発明は凹凸を有する樹脂基板と前記凹凸上に施された
金属薄膜と、この金属薄膜を保護する高分子膜と、前記
金属薄膜面と反対側の樹脂基板上面に架橋高分子硬化薄
膜を形成させた光ディスクであり、特に前記架橋高分子
薄膜が紫外線硬化型のアクリル系コーティング材料、シ
リコーン系コーティング材料のいずれかから形成され、
その膜厚が前記金属を保護する高分子膜厚の％〜怖であ
ることを特徴とするもので、ソリの少なくかつ印刷等の
行えるものである。
金属薄膜と、この金属薄膜を保護する高分子膜と、前記
金属薄膜面と反対側の樹脂基板上面に架橋高分子硬化薄
膜を形成させた光ディスクであり、特に前記架橋高分子
薄膜が紫外線硬化型のアクリル系コーティング材料、シ
リコーン系コーティング材料のいずれかから形成され、
その膜厚が前記金属を保護する高分子膜厚の％〜怖であ
ることを特徴とするもので、ソリの少なくかつ印刷等の
行えるものである。
実施例の説明
以下、本発明の実施例を具体的に示す。第１図は、従来
の光ディスクであり、凹凸信号を有するポリカーボネイ
ト射出成形円盤１にアルミニウム２をスパッタで施しポ
リカーボネイト上面からレーザ光により信号を読み取っ
ている。ここで、金属薄膜であるアルミニウムは傷付き
易く、又腐食され易いため保護が必要であシ、保護用高
分子３が形成されている。又保護用高分子上には、曲名
やメーカ名、などの各種印刷が施されている。第２図に
は第１図のＡ部を拡大した部分断面図を示した。
の光ディスクであり、凹凸信号を有するポリカーボネイ
ト射出成形円盤１にアルミニウム２をスパッタで施しポ
リカーボネイト上面からレーザ光により信号を読み取っ
ている。ここで、金属薄膜であるアルミニウムは傷付き
易く、又腐食され易いため保護が必要であシ、保護用高
分子３が形成されている。又保護用高分子上には、曲名
やメーカ名、などの各種印刷が施されている。第２図に
は第１図のＡ部を拡大した部分断面図を示した。
本発明は、第３図に示したように、射出成形樹脂基板１
の凹凸信号上に、金属薄膜２をスパッタリングによ多形
成させ、その上に膜厚ｄの金属保護用高分子膜４を施し
た後、この上に各種印刷を施し、樹脂基板の信号読み取
り側には、厚さｔの架橋高分子硬化薄膜を形成させてい
る。この架橋高分子硬化薄膜は、表面硬度が高く密着性
の良いものであれば何でも良いが、特に、硬化速度が短
い紫外線硬化型のアクリル系コーティング材料や、シリ
コーン系コーティング材料（例えばＧｏｌｄｇｃｈ−ｍ
ｉｄｔ社製ＺＷＯ１４９，ＺＷＯｓｏｏ、ＺＷＯ４ｓｏ
）が最適であり、アクリレート系の実例としては、三菱
レーヨン製、Ｕ Ｌ −３０２６大日本インキ製（ユニ
ディックｘ−１１５）の／’−ド コー）材料が好まし
く、具体的には下表に示した材料組成物が最適である。
の凹凸信号上に、金属薄膜２をスパッタリングによ多形
成させ、その上に膜厚ｄの金属保護用高分子膜４を施し
た後、この上に各種印刷を施し、樹脂基板の信号読み取
り側には、厚さｔの架橋高分子硬化薄膜を形成させてい
る。この架橋高分子硬化薄膜は、表面硬度が高く密着性
の良いものであれば何でも良いが、特に、硬化速度が短
い紫外線硬化型のアクリル系コーティング材料や、シリ
コーン系コーティング材料（例えばＧｏｌｄｇｃｈ−ｍ
ｉｄｔ社製ＺＷＯ１４９，ＺＷＯｓｏｏ、ＺＷＯ４ｓｏ
）が最適であり、アクリレート系の実例としては、三菱
レーヨン製、Ｕ Ｌ −３０２６大日本インキ製（ユニ
ディックｘ−１１５）の／’−ド コー）材料が好まし
く、具体的には下表に示した材料組成物が最適である。
５／、 ゛
６ ヘーパ
尚、上記組成物には０．１〜１０ｗｔ％の市販の光増感
剤を添加することができ、又上記実施例１゜２には、ア
ルコールやトルエンなどの溶剤を適次加えることが可能
である。
剤を添加することができ、又上記実施例１゜２には、ア
ルコールやトルエンなどの溶剤を適次加えることが可能
である。
又、金属保護用高分子膜は、透湿性の低く、アルミニウ
ムに密着性の良いものなら何でも良いがウレタンアクリ
レート、ホスフユート基を有するアクリレート、オリゴ
エステルフリレート、エポキシアクリレート、などを組
成とする、紫外線硬化型コーティング材料が最適であり
、硬化膜厚ｄは６μから２５μが最適である。又、円盤
への塗布方法としては、ディスペンサーにより両面から
円盤を垂直の状態で回転させながら塗布し、レベリング
、スピンナー乾燥、紫外線硬化を施すことによって得る
ことが出来るが、架橋高分子硬化薄膜の膜厚ｔが金属保
護用高分子膜厚ｄと比較して殉≦ｔ／ｄ≦％であれば、
片面ずつのコーティングによっても、そりの少い光ディ
スクを得ることが−できる。膜厚ｔが’Ａｎよυ小さい
場合、保護膜が厚く、保護膜側に、そシが生じる場合が
多い。又、７ ・・ ′ 膜厚ｔが％よシ大きくなると、架橋膜の方が硬いために
、架橋高分子硬化薄膜により、光ディスクにそりが生じ
た。
ムに密着性の良いものなら何でも良いがウレタンアクリ
レート、ホスフユート基を有するアクリレート、オリゴ
エステルフリレート、エポキシアクリレート、などを組
成とする、紫外線硬化型コーティング材料が最適であり
、硬化膜厚ｄは６μから２５μが最適である。又、円盤
への塗布方法としては、ディスペンサーにより両面から
円盤を垂直の状態で回転させながら塗布し、レベリング
、スピンナー乾燥、紫外線硬化を施すことによって得る
ことが出来るが、架橋高分子硬化薄膜の膜厚ｔが金属保
護用高分子膜厚ｄと比較して殉≦ｔ／ｄ≦％であれば、
片面ずつのコーティングによっても、そりの少い光ディ
スクを得ることが−できる。膜厚ｔが’Ａｎよυ小さい
場合、保護膜が厚く、保護膜側に、そシが生じる場合が
多い。又、７ ・・ ′ 膜厚ｔが％よシ大きくなると、架橋膜の方が硬いために
、架橋高分子硬化薄膜により、光ディスクにそりが生じ
た。
又、架橋硬化薄膜を両面に処理することも試みたが、そ
りという面では非常に良いものの、架橋密度が高く金属
薄膜側への紫外線硬化型の印刷文字がはがれ易いという
不都合も生じた。本発明の構成は、印刷適性の点でも優
れた構造である。
りという面では非常に良いものの、架橋密度が高く金属
薄膜側への紫外線硬化型の印刷文字がはがれ易いという
不都合も生じた。本発明の構成は、印刷適性の点でも優
れた構造である。
発明の効果
本発明は、光デイスク裏面への印刷特性を維持し、かつ
、信号読み取り側表面にハード・コーティング（架橋高
分子硬化薄膜）を施すことにより、傷付き防止膜をも形
成させ、かつ、金属保護用高分子膜厚と所定の比率に架
橋高分子薄膜を制御す名ことにより、そシの少い光ディ
スクを提供出来るという点で工業的価値は、犬々るもの
がある。
、信号読み取り側表面にハード・コーティング（架橋高
分子硬化薄膜）を施すことにより、傷付き防止膜をも形
成させ、かつ、金属保護用高分子膜厚と所定の比率に架
橋高分子薄膜を制御す名ことにより、そシの少い光ディ
スクを提供出来るという点で工業的価値は、犬々るもの
がある。
なお、金属薄膜を保護する高分子膜厚と、架橋高分子硬
化薄膜膜厚とが同一であると架橋高分子の方が前者よシ
も硬いため、同一の硬化を回転しながら行ったとしても
、そシが生じる。又、架橋高分子薄膜が１μ以下である
と樹脂基板の硬度に影響され、硬化膜の役割を果さない
。°従って、金属を保護する高分子膜厚を、架橋高分子
薄膜厚の４Ａ〜１０倍に形成する必要がある。１０倍以
上となると、又ディスクのそりが大きくなる。
化薄膜膜厚とが同一であると架橋高分子の方が前者よシ
も硬いため、同一の硬化を回転しながら行ったとしても
、そシが生じる。又、架橋高分子薄膜が１μ以下である
と樹脂基板の硬度に影響され、硬化膜の役割を果さない
。°従って、金属を保護する高分子膜厚を、架橋高分子
薄膜厚の４Ａ〜１０倍に形成する必要がある。１０倍以
上となると、又ディスクのそりが大きくなる。
第１図は従来の光ディスクの半断面図、第２図は第１図
Ａ部の部分断面図、第３図は本発明の一実施例の光ディ
スクの半断面図、第４図は第３図Ｂ部の部分断面図であ
る。 １・・・・・・凹凸信号を有する樹脂基板、４・・・・
・・金属保護用高分子膜、６・・・・・・架橋高分子硬
化薄膜（ハード−コート膜）。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名医■ ２５ ／聾
Ａ部の部分断面図、第３図は本発明の一実施例の光ディ
スクの半断面図、第４図は第３図Ｂ部の部分断面図であ
る。 １・・・・・・凹凸信号を有する樹脂基板、４・・・・
・・金属保護用高分子膜、６・・・・・・架橋高分子硬
化薄膜（ハード−コート膜）。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名医■ ２５ ／聾
Claims (1)
- （１）凹凸の信号を有する樹脂基板と、前記凹凸信号上
に施された金属薄膜と、この金属薄膜を保護する高分子
膜と、前記金属薄膜面と反対側の樹脂基板上面に形成し
た架橋高分子硬化薄膜とからなり、前記架橋高分子硬化
薄膜が紫外線硬化型のアクリル系コーティング材料、シ
リコーン系コーティング材料のいずれかから形成され、
その膜厚が前記金属を保護する高分子膜厚の４／６〜１
／１ｏである光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58043538A JPS59168946A (ja) | 1983-03-16 | 1983-03-16 | 光デイスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58043538A JPS59168946A (ja) | 1983-03-16 | 1983-03-16 | 光デイスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59168946A true JPS59168946A (ja) | 1984-09-22 |
Family
ID=12666513
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58043538A Pending JPS59168946A (ja) | 1983-03-16 | 1983-03-16 | 光デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59168946A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61188753A (ja) * | 1985-02-18 | 1986-08-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | レ−ザ−記録材料 |
| WO1992000588A1 (fr) * | 1990-07-02 | 1992-01-09 | Teijin Limited | Disque optique |
| JPH04339333A (ja) * | 1991-03-13 | 1992-11-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光情報記録媒体 |
| US5494778A (en) * | 1992-01-01 | 1996-02-27 | Pioneer Electronic Corporation | Optical recording medium |
| EP2346044A4 (en) * | 2008-11-05 | 2013-04-24 | Nippon Kayaku Kk | UV-CURABLE RESIN COMPOSITION FOR OPTICAL PLATES AND HARDENED PRODUCTS THEREOF |
-
1983
- 1983-03-16 JP JP58043538A patent/JPS59168946A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61188753A (ja) * | 1985-02-18 | 1986-08-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | レ−ザ−記録材料 |
| WO1992000588A1 (fr) * | 1990-07-02 | 1992-01-09 | Teijin Limited | Disque optique |
| JPH04339333A (ja) * | 1991-03-13 | 1992-11-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光情報記録媒体 |
| US5494778A (en) * | 1992-01-01 | 1996-02-27 | Pioneer Electronic Corporation | Optical recording medium |
| EP2346044A4 (en) * | 2008-11-05 | 2013-04-24 | Nippon Kayaku Kk | UV-CURABLE RESIN COMPOSITION FOR OPTICAL PLATES AND HARDENED PRODUCTS THEREOF |
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