JPS59177367A - 試料搬送機構を有する真空蒸着装置 - Google Patents

試料搬送機構を有する真空蒸着装置

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JPS59177367A
JPS59177367A JP58051253A JP5125383A JPS59177367A JP S59177367 A JPS59177367 A JP S59177367A JP 58051253 A JP58051253 A JP 58051253A JP 5125383 A JP5125383 A JP 5125383A JP S59177367 A JPS59177367 A JP S59177367A
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Hiroshi Saeki
宏 佐伯
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks

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  • Mechanical Engineering (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は常時真空吸引された真空蒸着槽に試料を出し入
れするための試料搬送機構を備えた真空蒸着装置に関す
るものである。この装置によれば、第1図に示した円筒
加工物の円周面Δ、及び第2図に示した角形加工物の而
BXC1【)、■弓などのように、装置0泊具〕への挿
着に用いられる加工物の軸孔IIを囲む面に真空蒸着処
理金族すことができる。
従来の構成とその問題点 従来の真空蒸着装f[fば、第3図及び第4図にその具
体例を示すように、架台fll上に、真空排気装置(2
)に接続された真空槽(3)を設置し1この槽(3)の
内部には蒸発源(4)を備え、外側部には試料(5)全
回転させるだめの回転導入機(6)及びその駆動源であ
るモータ(7)を何役したものである。
回転導入機(6)の出力軸(8)にU:試料(5)を固
定するための治具(9)が設けられている。一方、真空
槽(3)の頂部には昇降機(10)により昇降するトッ
プブレー)(lOa)が設けられ、その開放(上昇3時
において試料(5)を出し入れできるようになっている
0 この装置において真空蒸着を行う際は)試料(5)を出
力軸(8)にはめた上治具(9)で固定し、昇降機(1
ωによりトッププレー) (10a)を真空槽(3)に
密着させた後、この槽内全真空排気装置(2)によって
真空吸引し、所定の真空度に達した後、蒸発源(4)を
作動させて真空蒸着を行う。真空蒸着完了後は、真空槽
(3)内を大気に対して開放し、昇降機(10)により
トッププレート(loa)を上昇サセテ試料(5)を取
り出す。
しかし、上記のような構成では、試料の入れ替えのため
にその都度真空槽内を大気開放しなければならず、再び
蒸着処理可能な真空度に到達させるには時間ががかりす
ぎるため、生産性の向上が図れないという欠点を有して
いた。
発明の目的 本発明は上記欠点に鑑み、試料の入れ替えに伴う真空引
き時間を大幅に削減し、大幅な生産性の向上を可能とす
る試料搬送機構を備えた真空蒸着装置を提供しようとす
るものである。
発明の構成 本発明の真空蒸着装置は、 a〕 真空排気装置に接続されており、内部に真空蒸着
処理を行うだめの蒸発源を有する真空蒸着槽と、 1))試料入れ替え用層を備え、かつ真空排気装置に接
続されてお□す、内部を真空状態及び大気圧状態にする
ことができる予備真空槽と、C)前記真空蒸着槽及び前
記予備真空槽全連結する気密管路であって両槽間を開閉
するための遮断機構全方する管路部と、 d)前記真空蒸着槽から前記管路部、及び前記管路部か
ら前記予備真空槽に到る直線ガイド機構と) (・〕  前記直線ガイド機構上において摺動すること
ができる少くとも2個の試料保持ユニットと\ f)前記予備真空槽内において、前記少くとも2個の保
持ユニットのうちの1個全前記直線ガイド上で摺動じつ
る動作位置に、残りの保持ユニットを待機位置に順次時
たらすためのユニット準備機構、及び g〕 前記動作位置に持たらされた試料保持ユニット全
前記予備真空槽から前記真空蒸着槽に送り込み、かつ逆
戻しするための往復チャック機構、 全備えたことを特徴とするものである。従って、一つの
保持ユニットにより真空蒸N槽内に配置した少くとも1
個〔好捷しくtf′i複数個〕の試料を真空蒸着する間
に、予備真空槽内において蒸着済み試料を新たな試料と
交換しておき、蒸着処理可能時には両槽の真空度を維持
したままその蒸着槽内の試料保持ユニットを交換し、こ
の後、従来のように真空づ[きを行うこ♂なく、新たな
試料について直ちに蒸着処理工程に入ることができる。
また、好捷しい実施例において試料保持ユニットには複
数の試料を回転自在に保持し、蒸着槽外の回転動力の伝
達を受けるようにした保持回転部を有すると吉により、
1回の真空蒸着処理中に複数個の円筒加−E物を回転保
持し、各々均一な蒸着膜厚に仕上げると々ができる。
実施例の説明 以下、本発明の実施例につき1図面全参照して説明する
第5図及び第6図は、本発明に従って構成された試料搬
送機構ヲ看する真空蒸着装置の平面及び部分破断圧面を
それぞれ示している。この真空蒸着装置において、蒸着
用真空槽(12)、管路部fza) 、管路部(四によ
り前記真空槽(12)に連結された予備真空槽(34)
、及びチャック駆動用エアシリンダ(3(支)が順次第
5図及び第6図の右から左にかけて直列的に配置されて
いる。
真空槽(12)は、真空排気装置(53)を有する架台
(54)に設置されて真空引きされるようになっている
とともに、内部に蒸発源(11)f:備えている。真空
槽(12)の右端壁部には回転導入機(13)、及びベ
ルト(14)を介してこの導入機を駆動するモータ(1
5)か固定されている。槽(12)内には管路部(割円
から右端の支持ブロック(2I)、t2aに架設された
一対の広幅レールf16)、(17)と、これらの内側
において前記管路部(イ)内から槽(12)の蒸発源(
II)の手前捷で延びる一対のレール(18)、(19
)からなる直線ガイド機構(20)が設置される。寸た
、外側レールの一方(16)には槽外のエアシリンダ(
24)により駆動されるチャック解除機構(20が係合
している。
管路部(Z3)は槽(12)及び(341を連絡する気
密管路からなり、エアシリンダ(201により管外から
駆動される遮断機構(27)が配置され、その“閉°”
位置において槽(12)、(34)間を気密遮断するも
のである。
また、管路部(23)内において遮断機構(2′7)の
左側には前記直線ガイド機構(20)の各レールに対応
する外側レール(28)、e29)及び内側レール(3
0)、(31)からなる第2の直線ガイド機構+321
が、真空槽(34)の管路(73)側における部分7ラ
ンジ(33)上に設置される。
真空槽(341の左端、すなわち管路部(23)の反対
側にはチャック0均をこの槽内において管路方向に往復
駆動するためのエアシリンダ(30が突設される。槽(
34)内において、試料[37’、 i保持するユニッ
ト[3R+及び(3つ)はそれぞれ一対の上側レールf
4fl+ 、(41)及び下側レール(4り、(43j
上に載置されるようになっており、これらのレー?しは
エレベータ(41)により、前記直線ガイド機構(3り
と同一レベルに設定されたとき、その方イド機構の外側
レール(28)、(2!1々完全に対応するようになっ
ている。エレベータ(44)は真空槽(34)内に設置
されたスタンド(伺、(46)に固定されている垂直ガ
イド(47)、(ハ)に沿って昇降スるように、エアシ
リンダ09)に駆動される。
エアシリンダ+49) id真空槽(341の下側に固
定される。
チャック(35)は前記ガイド機構と整合したレールf
40) 、(411又−1(42) 、+431 J二
のユニット(3→又は(39)の後端(図の左端)を把
持するが、N(34)の左端に設けられた解除ブロック
(3)はそれらレール上におけるチャック0ωの把持解
除を行うものである。
真空槽(34)のトッププレート賄)は第2のエレベー
タ霞により昇降移動する。
真空槽(34)はこれに接続された真空排気装置(5(
ト)を保持した架台側止に設置される。架台(511に
は装置全体を制御する制御装置(56a)が設置される
トトモに、エアシリンダ(36)のための支持板6ηが
取付けられる。
保持ユニット13811(39)の先端にはそれぞれ接
続具f5+1、l1i9+が固定されており1回転導入
機(13)における出力軸(閲の先端に取りつけられた
接続具161)とかみ合うようになっている。
以上で装置の概略を説明したので、次にその動作全説明
する。
寸ず、トッププレー) +511が上昇した1間”位置
にあるものとして、取出したユニット(38)、(39
)に試料(3力を固定し、エレベータ(旬上に置く。こ
こでエレベータf44) ’i例えば第6図のレベルま
で下降させるとともに、第2のエレベータ敏によりトッ
ププレート[有]■)を下降させて真空槽(34)を密
閉した後、真空排気装置[5[9で真空引きを行う。
一方、真空槽(12)内は、真空排気装置(53)によ
りあらかじめ所定の真空変寸で真空引きされているとと
もに、遮断機構伐ηにより管路部(23)が遮断されて
いるものとする。そこで、真空槽(34)が所定の真空
度に達すると、蒸発源(I++’を作動させ1遮断機構
(27) を解除して管路(23)を開く。同時にエア
シリンダ(361k駆動して先端のチャック(至)によ
りユニット(381全把持し、これを直線ガイド機構+
321 % +20)に沿って真空槽(12)内の蒸発
源(1す上に移動させる。この時、ユニット先端の接続
具IT(へ)が回転導入機の接続具I11とかみ合い、
モータ(1鴫を回転させることにより試料(37)を回
転させる。チャック(ト)はチャック解除機構(2句に
付勢されてユニツ) +381を解放し、直線ガイド機
構の内側レール(18)、(19)、及び(3o) 、
f3+1に沿って真空槽(34)内にもどる。ここで遮
断機構1271により管路(′23)を遮断し、真空槽
(12)内において真空蒸着を行う。
真空蒸着が完了すると、遮断機構1271を解除して管
路(四を開放し、チャック(30を再び真空槽(12)
まで前進させてユニツ) (381’!r把持させ、真
空槽(34)にもどしてこれをエレベータ(49)に搬
入する。
この時、チャック0[9は解除ブロック−によりユニッ
ト(381を解放する。
次にエレベータf491がユニット(至)を直線ガイド
機構02に沿って搬出できる位置寸で上昇し、再びチャ
ック(ト)によりユニットC((へ)の場合と同様にこ
の新たなユニツ) (30) i真空槽(12)内に搬
送し、真空蒸着を行う。この間遮断機構(271により
管路(231が塞れているので真空槽(34)を大気に
対し開放し、トッププレート輯)°を上昇させてユニッ
ト(381の試料を交換する。そして再びユニットf3
8) iエレベータ(49)上に置き、真空槽(財)内
を再び真空引きし、前記したLおりの工程を実施する0
以下、このような動作がユニット(ト)、(39)につ
いて交互に繰返される。
以上が本実施例の概略であるが、次に各部の構造及び機
能の詳細を説明する。
回転導入機(13)の出力軸@1先端における接続具0
υは第7図及び第8図に示すとおり、出力軸16(jに
はめ込咬れた円柱材1匂の端面に直径板(63)を突設
したものであり、これがユニットの接続具G81及び靴
とかみ合うものである。
次に、試料保持ユニット(2)及びす9)は第9図〜第
12図に示すような構造を有する。すなわち、ユニット
ハエレベータf44)上のレール[係合L、この上を摺
動できる両側ガイドプレート(0・1)、((ト)と、
それぞれ内部にレールと平行な軸を有するベアリング(
例、開、17(2)及びf”1sifU、f711全装
着したniJ記ガイガイドプレート1a4(6i間の一
対のベアリングプレート閥1(至)と、これらのプレー
トυω、(7G)間において前記ベアリングI→η、1
l−+711及びf61c −+6’υに支持、された
外側ギア(社)、(73)及びメインギアウ4)と、チ
ャック(35)によるユニット把持を助ける係合孔f7
71を有するガイドプレート1’i41 、feiの後
端下部に固定されたメインパー囮(第10図及び第11
図〕と、試料0ηを貫通保持するシャフト例(]、■)
全前記外側ギア(72、f7mに連結するカップリング
(gel 、(112及び前記シャフトυ9+、h+を
MiJ記カップリングt811、+82に解除可能に係
合させるべく前記メインバー(社)と協同してそれらの
シャフト後端を保持する分離可能なセパレートプレー1
− (8’+l全備えている。試料の71はシャフト」
二の?’i’l J−4’間、(随により固定され、シ
ャツ) ff!l) 、(財)の先端はネジ+871.
(PAlによりカップリング侶1)、(財)に固定され
る。−、”j %メインギアウ4)の先端には前記接続
具is又は例が固定され、その接続具先端面にl−14
個のピン(86a入(86b) 、(86c) 、(8
6d)が対角配置され、これが前記回転導入部材の接続
板(631(第7.8図〕と係合する。
チャック(至)は第13図A及びBに示すとおりの構造
を有する。図の左端に仮想図示したシリンダロンド(濁
は、第5図及び第6図に示したエアシリンダ(36)の
部分であり、この先端にチャック05)のセンタブロッ
ク闘が固定され、この両側にレバー+91)を回動自在
に支持するサイドプレートのη、08)が固定される。
サイドプレートのη、の8)はブロックより十分に突出
し、先端にピンi9−を突設したブロックリ(2)を支
持している。L、 バー pi)はサイドプレートの後
下部に設けられたピン(転)に枢支され、プレート−1
!′18)間の架設ピン6]4)に係止されたスプリン
グ(+131によりブロック6161の下側に圧接する
よう引張られる。従って、チャック+351 u先端の
ピン61[1とレバーθ1)の先端フラクトの間におい
てユニット(ハ)又は(39)の後端バーを把持する。
チャック解除機構(2均の構造、及びこれとレール(1
6)との関係は第14図及び第15図に示すとおりであ
る。レール(16)はユニツ) +381又H+39+
 Th支持及び摺動させるための段落面(16a)i内
側に形成し、段落面(16(7)より高い外側上部(1
6h)において、チャック解除機構(2υを係合させる
べき位置にこの」二部を横断する溝(2))を形成した
ものである。レール上部(16b)にはこの溝介1)に
被せるプレート0ηを固定し、その下側面(101) 
i解除機構(ハ)の解除プレー) (102)のだめの
摺動面とする。解除プレー1− (102)はレール(
16)と直交して水平に延びる本体が溝−1)内に突入
し、後端を垂直に折り曲げてナラ) (103)により
エアシリンダ(24) (第5図及び第6図)のシリン
ダロッド(104)に固定されている。解除プレート(
102)は管路(四側の下側縁を面取りしてカム面とし
、シリンダロッド(]04)が突出した第14図のごと
き動作位置においてチャック00のレノ々−01)の先
端部と係合してこれを押し丁ける。捷た、エアシリンダ
(24)により、シリンダロッド(104)、従って解
除プレート(102)を第15図の位置から図の右方に
後退させれば、チャック(3均のレバー0すはこれによ
る押圧全解除され、再びユニツ) f381又は(39
)のメインバーf7sをひっかけることができる。
チャック(ト)のレバーυ1)の後端は、再び第13図
を参照して明らかなとおり、先端フックと逆向のカムフ
ォロワGを形成し、従ってエアシリンダ(361(第5
図及び第6図)により真空槽(34)内の出発位置まで
チャック(ト)が復帰した時は1解除ブロツク(50)
によりレバーの1)を押圧され、ユニット(ト)又は(
39)の把持を解除することが容易に理解されよう。
最後に、第16図を参照して遮断機横置の説明を行う。
遮断機構シηは、管路部(符の中間に突起した遮断機カ
バ一部C23a)を一体形成し、このカバ一部(23a
)及びその下側の管路部内に垂直案内面(105)を形
成し、これに沿ってゲート(10G) k昇降させるよ
うにしたものである。ゲーh (:106)はカバ一部
(23a)内に持ちあけられた時に管路部(ハ)を開放
し、管路部内内にF降した時にはシート部(107)に
固定されたO IJリングt08)に密接して管路を遮
断することかできる。
以J−1本発明の一実施例を説明したが、予備L′(空
槽(財)でのユニット準備数は図示説明した2個に限る
ものではなく、同種の容積及びエレベータ(44)によ
るユニット支持段数を増加させること等で容易に増やす
ことができ、これによってさらに生産性を向」二しつる
ものである。
発明の効果 本発明によれば、蒸着用真空槽の外部に独立の真空源に
接続された駆動系及び制御系を配置したので、試料交換
に要する時間全大幅に短縮できることはすてに述べたと
おりであり、しかも、蒸着による汚損及び異常放電等を
防ぐことができると共に、蒸発源を毎回調整することな
く、一定状態に保つことで均一な膜をつくりだすことが
でき、通じて生産性の大幅な向上が望める。
【図面の簡単な説明】
第1図は円筒加1ニ物の斜視図、第2図は角形加工物の
斜視図、第3図は従来の真空蒸着装置の一部断面平面図
、第4図は同装置の一部断面正面図、第5図は本発明の
一実施例である真空蒸着装置用試料搬送装置の平面図、
第6図は同装置の平面図、第7図、第8図は同装置の接
続具詳細図、第9図はユニットの平面図、第1O図は同
装置の断面正面図、第11図は同装置の側面図、第12
図は同装置の接続具詳細図、第13図A及びBはチャッ
クの平面図と断面正面図、第14図はチャック解除機構
の正面図、第15図は同機構の側面図、第16図は遮断
機構の断面図である。 b31・・・・・・・・・・・・真空排気装置(12)
・・・・・・・・・・真空槽 (II)・・−・・・・−・・蒸発源 (37)・・・・・・・・−・試料 1’il・・・・・・−・・−・・真空排気装置(ロ)
・・・・・−・・・・・管 路 (20)、(3の・・・・・直線案内 13R)、i3!l)・・・・・・・・・ユニット(3
5)・・・・・・−・・・−・チャック(FPN % 
F91 、f6II・・・・・接続具特許出願人   
松下電器産業株式会社代  理  人     新  
実  健  部(外1名) 第13図 第14図 第15図 3

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 fll O)  真空排気装置に接続されており、内部
    にコ空蒸着処理を行うための蒸発源を有する真(蒸着槽
    と、 h)  試料入れ替え用扉を備え、かつ真空排気装置に
    接続されており、内部を真空状態及びニ気圧状態にする
    ことができる予4M真空槽と、C)前記真空蒸着槽及び
    前記予備真空槽を連秀する気密管路であって両槽間を開
    閉するたへの遮断機構を有する管路部と九 dl)  前記真空蒸着槽から前記管路部、及び前言管
    路部から前記予備真空槽に到る直線ガイ機構と、 e〕 前記直線ガイド機構上において摺動する?とがで
    きる少くとも2個の試料保持ユニツと1 f〕 前記予備真空槽内において、前言己少くとも2個
    の保持ユニットのうちのlイ固をml M己直線ガイド
    上で摺動しうる動作位置に、残りの保阿   持ユ=ッ
    トを待機位置に2次持たらすための2   ユニット票
    備機構、及び g)前記動作位置に持だらされた試料保持ユニ支   
    ットを前記予備真空槽から前言己真空蒸着槽に(送り込
    み、かつ逆戻しするだめの往復チャ・ンク機構、 古   を備えたことを特徴とする試料搬送機構を有も
      する真空蒸着装置。 (2)真空蒸着槽に外部回転動力を槽内に導くため己 
     の回転導入機を設けると共に1前記試料保持ニド  
    ニットに少くとも1個の試料を回転自在に保持する保持
    回転部、及び前記保持回転部を前記回転導入機の出力端
    に接続する接続部とを設けだト   ことを特徴とする
    特許請求の範囲第(1)項に記載の真空蒸着装置。
JP58051253A 1983-03-25 1983-03-25 試料搬送機構を有する真空蒸着装置 Granted JPS59177367A (ja)

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JP58051253A Granted JPS59177367A (ja) 1983-03-25 1983-03-25 試料搬送機構を有する真空蒸着装置

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