JPS59189237U - 枚葉型ドライエツチング装置 - Google Patents

枚葉型ドライエツチング装置

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Publication number
JPS59189237U
JPS59189237U JP8307883U JP8307883U JPS59189237U JP S59189237 U JPS59189237 U JP S59189237U JP 8307883 U JP8307883 U JP 8307883U JP 8307883 U JP8307883 U JP 8307883U JP S59189237 U JPS59189237 U JP S59189237U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dry etching
single wafer
etching equipment
wafer dry
valve
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8307883U
Other languages
English (en)
Inventor
藤崎　博
有村　孝一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPS59189237U publication Critical patent/JPS59189237U/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
図は本案による一枚型連続処理による連続ドライエツチ
ングを実施するための装置の一実施例を示す図である。 １・・・主処理室、２・・・後処理室、３・・田−ドロ
ック室、４・・・アンロードロック室、５．　６．　７
−・・ゲートバルブ、８・・・基板加熱用ランプ（ヒー
ター）、９・・・カセット、１０・・・センダー側エレ
ベータ−１１１・・・カセット、１２・・・レシーバ−
側エレベータ−１１３・・・ウェハー（基板）、１４・
・・下部電極（主処理室）、１５・・・下部電極（後処
理室）、　。 １６・・・上部電極（主処理室）、１７・・・上部電極
（後処理室）、１８．　１９．　２０・・・ウェハー搬
送装置、２１．２２・・・メカニカルブースターポンプ
、２３．２４．２５・・・油回転真空ポンプ、２６・・
・ＣＡ熱電対、２７・・・主処理用ガス、２８・・・後
処理用ガス、Ｖｌ、２．４．６・・・真空バルブ、ｖ３
゜５・・・コンダクタンス可変バルブ、Ｖｌ、８・・・
ベーク用ガスバルブ、Ｖ９・・・ガスアウトバルブ、Ｖ
ＩＯ〜１３・・・Ｎ２パージ用ＶＥＮＴバルブ、Ｇ０６
．真空計、ＲＦ・・・高周波発振器、Ｍ□〜Ｍ３・・・
モーター。　。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 一枚型連続処理のドライエツチング装置において、予備
    室に基板加熱機構を設置したことを特徴とする枚葉型ド
    ライエツチング装置。
JP8307883U 1983-06-01 1983-06-01 枚葉型ドライエツチング装置 Pending JPS59189237U (ja)

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JP8307883U JPS59189237U (ja) 1983-06-01 1983-06-01 枚葉型ドライエツチング装置

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JPS59189237U true JPS59189237U (ja) 1984-12-15

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