JPS59204169A - フエニル酢酸誘導体及びチアゾリルオキシフエニル酢酸誘導体の製造方法 - Google Patents

フエニル酢酸誘導体及びチアゾリルオキシフエニル酢酸誘導体の製造方法

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JPS59204169A
JPS59204169A JP7869783A JP7869783A JPS59204169A JP S59204169 A JPS59204169 A JP S59204169A JP 7869783 A JP7869783 A JP 7869783A JP 7869783 A JP7869783 A JP 7869783A JP S59204169 A JPS59204169 A JP S59204169A
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JP
Japan
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formula
lower alkyl
alkyl group
acid derivative
compound represented
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JP7869783A
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English (en)
Inventor
Daigaku Takiguchi
滝口 大学
Takashi Ozeki
大関 隆志
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Nippon Soda Co Ltd
Original Assignee
Nippon Soda Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は農医桑中間体として有用な一般式(式中、r工
は水素原子又は低級アルキル基を、r2は低級アルキル
基を示す。)で表わされる新規な化合物、その製造方法
及び該化合物と式CH3C02CHで表わされる化合物
とを反応させることを特徴とする一般式 (式中、r工は前記と同一の意味を示す。)で表わされ
るチアゾリルオキシフェニル酢酸類の製造方法に関する
ものである。前記一般式(II)で表わされる化合物は
優れた抗炎症薬であることが知られておシ、(特開昭5
0−69075号)本発明化合物及び本発明の方法はき
わめて有用である。
前記一般式(ff)で表わされるチアゾリルオキシフェ
ニル酢酸類の製造方法としては下記反応式に示す方法が
知られているが、いずれの方法も操作が繁雑であったシ
、収率が低かったシ、工業的製造方法として優れた方法
とは言いがたい。
■ l( (特公昭56−5747号) ■ (!11r公昭55−37556号) ■ (特公昭56−29871号) 本発明の製造方法においては先に本発明者らが有利な製
造方法を見い出した(特願昭56−176769号、特
願昭57−176770号)一般式で表わされる化合物
を原料として新規物質である前記一般式(Ill)及び
(1)で表わされる化合物を経て、簡便な操作で、高収
率で、前記式(If)で表わされるチアゾリルオキシフ
ェニル酢酸類を製造することができる。本発明の製造方
法を反応式で示せば下記の通シである。
(IV)           (I)(I)    
           (V)(式中、rl及びr2は
前記と同一の意味を、Xはハロゲンを示す。)即ち、ま
ず前記一般式GV)で表h サレZ) 4−ヒドロキシ
フェニル酊二酸エステル類を有様溶媒中、酸結合剤の存
在下ハロシアンと反応させて、一般式(Tll)で表わ
される化合物類を製造する。有(六溶媒としてはアセト
ン、メチルエチルケトン、ジオキサン、THF、エーテ
ル、クロロホルム等が使用でき、酸結合剤としてはトリ
エチルアミン、ピリジン、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム等一般の塩基が使用できる。ハロシアンとしてdニク
ロルシアン又はブロムシアンが用いられる。
反応は0℃〜40℃で行われるが0℃〜10℃が好3し
い。この一般式(III)で表わされる化合物類は文献
未記載の新凡化合物である。次いで、一般式(m)で嵌
わされる化合物類を有機溶媒中、触媒の存在下硫化水素
と反応させて、一般式(1)で表わされる化合物類を製
造する。有機溶媒としてはジオキサン、エーテル、アセ
トン等が使用でき、触媒としてはトリエチルアミン、ピ
リジン等の塩基が使用できる。反応はO℃〜50℃で行
われるが、室温で行うのが好ましい。次に上記のように
して製造した一般式(1)で表わされる化合物類と、意
味を示す。)で表わされる化合物とを有機溶媒中、酸性
条件下で反応させZ0有機溶媒としてはジオキサン、メ
タノール、エタノール、プロパツール、アセトン等一般
の不活性溶媒が用いられる。
反応は室温〜100℃好ましくは60〜70℃で30分
〜3時間行われる。溶媒としてメタノール、エタノール
、プロパツール等のアルコール溶媒を用いた場合、1部
エステル交換が起こる場合があるが、そのまま、加水分
解を行なうことができる。
加水分解は、酸性下でも一部進行するが通常、アルカリ
の存在下で行なわれる。アルカリとしてはNaOH1K
OH等通常のアルカリが使用される。温度は室温から1
00℃、好ましくは50℃以下−で30分から10時間
行なわれる。加水分解終了後、必要に応じ、有機溶媒を
留去後中和し、目的物を得る。
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。
α−(4−ヒドロキシフェニ/I/)プロピオンを俊エ
チル23グをアセトン45m1に溶解し、0℃に保ちな
がら、臭化シアン142をアセトン18rIL(’。
に溶力′トシだ液を、5〜10分間で添加した。この溶
液にトリエチルアミン121を10℃以下に保ち衣から
、20〜30分間で添加した。更に0℃で30分間椎拝
金続けた後、相出しだ結晶を濾過しアセトンで洗滌した
。P液を減圧m 146後工−テル100mM’<加え
水20mILで3回洗滌した。有機層をt;コ酸マグネ
シウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去シテα−(4−
シアナートフェニル)プロピオン酸エチル24.5 f
を得た。収率95係。
’H−NMR(100MHz 、  CDC23)  
δ:  1.2  (3H。
t)、 1.52  (3H,d)  、3.76  
(IH,q)  、4゜1 2  (2H,q)  、
 7.32  (4H,m)製造例2 (4−ヒドロキシフェニル酢酸エチル)64.81をア
セトン140m1にて溶解し、0℃に保ちながら臭化シ
アン40.2 fをアセトン34mQに溶解した液を5
〜10分間で添加した。この溶液ヲ10゜以下に保ちな
がら、トリエチルアミン36.4 f?を20〜30分
間で添加し、更に0℃で30分間役拌を続けた。反応終
了後、製造例1と同様の後処理をして4−シアナートフ
ェニル酢酸エチル69,4を得た。収率94チ。
’H−NMR(100MHz 、 CDCt3 )  
δ: 1.26 (3H。
t) 、3.70 (2H,S) 、4.24 (2H
,Q)7.44(4H%m) 実施例1 製造例1で得たα−(4−シアナートフェニル)プロピ
オン酸エチル242とトリエチルアミン3滴をジオキサ
ン33艷に溶解し、室温で硫化水素ガス(200mfi
/min )を3時間吹き込んだ。反応液を減圧濃縮後
、トルエン−シクロヘキサンからM結晶を行い、α−(
4−(チオカル〕(モイノトオキシ)フェニル〕プロピ
オン酸エチル22グを得た。収率80慢、融点95〜9
7℃。
’H−NDaR(100h’fHz 、 CDCl3 
) δ: 1.16 (3H1t)、]、、46 (3
H,cl) 、3.56 (IH,q) 、670 (
2H1d) 、6.96 (2H,d)実施例1で得た
α−〔4−(チオカルバモイルオキシ)フェニル〕プロ
ピオン酸エチル5vをジオキサン15グに溶解した溶液
に、酢酸−1,2−ジクロルエチル3.71と濃塩酸1
tの混合液を室温で添加した後60〜70℃で3時間攪
拌した。
反応液を液体クロマトグラフィーで分析した所α−(4
−(2−チアゾリルオキシ)フェニル〕プロピオン酸エ
チルが3.42、α−(4−(2−チアゾリルオキシ)
フェニル〕プロピオン酸が1.41生成している事が判
った。反応液に力性ンーダ7Iii′を水15帷に溶解
した液を加え、40℃以下で6時間攪拌後、ジオキサン
を40℃以下で留去した。この水溶液を塩化メチレンで
洗滌後、激しく攪拌しながら濃塩酸でpH3にした。析
出した結晶を戸別し、4.51の結晶を得た。活性炭0
.22、酢酸エチル7mlを加えて再結晶し、α−〔4
−(2−チアゾリルオキシ)フェニル〕プロピオン酸4
!?を得た。収率81%、融点120〜121℃。
実施例1で得たα−〔4−(チオカルバモイルオキシ)
フェニル〕プロピオン酸エチル5fIをイングロバノー
ル15?に溶解した溶液に、酢酸−1,2−ジクロルエ
チル7.1gと濃塩酸1,91の混合液を室温で添加し
た後、60〜70℃で1時間」v、拌した。反応液を液
体クロマトグラフィーで分析した所α−C4−C2−チ
アゾリルオキシ)フェニル〕フロピオン酸エチルカ2.
6 f 、α−〔4−(2−チアゾリルオキシ)フェニ
ル〕プロピオン敲イソグロビルが1.8f、  α−(
4−(2−チアゾリルオキシ)フェニル〕プロピオン酸
が0.61生成していることが判った。以下実施例2と
同様にして加水分解を行い、α−(4−(2−チアゾリ
ルオキシ)フェニル〕プロピオン酸3.8fを得た。収
率77% 実施例4 実施例1で得たα−〔4−(チオカルバモイルオキシ)
フェニル〕プロピオン酸エチル5fをジオキサン15f
に溶解し、クロルアセトアルデヒド1.91と濃塩酸1
fを室温で添加した後、60〜70℃で3時間攪拌した
。反応液を実施例2に準じて後処理し、α−(4−(2
−チアゾリルオキシ)フェニル〕プロピオン酸3.82
を得た。収率77チ、融点及び“H−NMRで実施例2
の生成物と同一である事を確認した、 実施例5 jJlq造例2で得た4−シアナートフェニル酢酸エチ
ル30.8 fにトリエチルアミンを10滴加え、ジオ
キサン45m1に溶解し、室温で硫化水素ガス(200
mJl/ min )を3時間吹込んだ。反応液を濃縮
後トルエン−シクロヘキサンから再結晶を行ない、4−
(チオカルバモイルオキシ)フェニル酢酸エチル30.
5 fを得た。収率85チ、融点115〜116℃。
’H−NMR(100P%’llz 、 CDC73)
 δ: 1.28 (3H。
t) 、3.68 (2H,S) 、4.25 (2H
,(1) 、6゜76 (broad) 、7.12〜
7.60 (4H,m)実施例6 4−Cfオカルバモイルオキシ〕フェニル酢酸エチル4
41グをジオキサン20艷に溶解し、粗0Y酸1.2−
ジクロルエチルエステル4rと濃塩酸0.62を混合し
た液を室温にて添加した後、60〜70℃で4時間攪拌
した。反応液を実施例2と同様の方法によシ、加水分解
、後処理を行なって、4−(2−チアゾリルオキシ)フ
ェニル酢酸3.32を得た。収率70%、融点147〜
148.5℃。
’H−NMR(100MHz 、 CDC13)  δ
: 3.60 (2H。
S)、6.72 (IH,d) 、7.20 (5H,
m) 、9゜8 5  (broad ) 出願人二 日本曹達株式会社 代理人:伊藤晴之 同:横山吉美

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (式中、rlは水素原子又は低級アルキル基を、r2は
    低級アルキル基を示す。)で表わされる化合物。 (式中、rlは水素原子又は低級アルキル基を、r2は
    低級アルキル基を示す。)で表わされる化合物と僅化水
    素とを反応させることを特徴とする一般式 (式中、r、及びr2は前記と同一の意味を示す。)で
    表わされる化合物の製造方法。 (式中、rlは水素原子又は低級アルキル基をr2は低
    級アルキル基を示す。)で表わされる化合物とハロシア
    ンとを反応させて一般式 (式中、rl及びr2は前記と同一の意味を示す。)で
    表わされる化合物を製造し次いで硫化水素と反応させる
    ことを特徴とする一般式 (式中、rl及びr2は前記と同一の意味を示す。)で
    表わされる化合物の製造方法。 (式中、rlは水素原子又は低級アルキル基をr2は低
    級アルキル基を示す。)で表わされる化合物と式CH3
    C02CHCtcH2Ct1式CtCH2CHO1式c
    tcH2c’!g:ず。)で表わされる化合物とを反応
    させた後、加水分解することを%、徴とする一般式 (式中、r□は前記と同一の意味を示す。)で表わされ
    るチアゾリルオキシフェニル酢酸類の製造方法0
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