JPS59204183A - ジカルボン酸モノエステル及びその製造方法 - Google Patents
ジカルボン酸モノエステル及びその製造方法Info
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- JPS59204183A JPS59204183A JP58079937A JP7993783A JPS59204183A JP S59204183 A JPS59204183 A JP S59204183A JP 58079937 A JP58079937 A JP 58079937A JP 7993783 A JP7993783 A JP 7993783A JP S59204183 A JPS59204183 A JP S59204183A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- hydrogen atom
- general formula
- dicarboxylic acid
- same
- Prior art date
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)
- Fats And Perfumes (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式(1)
で示すれるジカルボン酸モノエステル及びその製造方法
に関する0 上記式中、R1は水素原子又はメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基などの低級アルキ・ル基を弄わす
R2及びR3は同−又は異なシそれぞれ水素原子;メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの低級アル
キル基;若しくはメトキシ基、工1゛キシ基、プロポキ
シ基、ブトキシ基などの低級アルコキン基を表わすか、
又はR2とR3は一緒になって−C)l=cH−CH=
CH−基を形成する。R4は7′A素原子又は保護基を
表わす。保護基としては水晒基保護の目的を達成する限
り通常用いられるいずれの保護基を用いてもよく、例え
ばアセチル基、フロピオニル基、ブチリル基、ベンゾイ
ル基;tどQ)アンル基、メチル基、t−ブチル基、ト
リフェニルメチル基、べ/シル基、ト1)メチルンリル
太、22どが挙げられる。R5、R6,R7及びR8は
同−又は異なりそれぞれ水素原子若しくはメチル基、エ
チルフc1 プロピル基、ブチル基などのアルキルス1
sを表わすか、又はR5とR6若しくはR7とR8は一
緒になってCH2=基を宍わすか R5とR7は一緒に
なって、噂結合を堀わすか、R6とR8は一緒になつで
す3 基、−CH2C=CHCH2−基、−CH2CH2CH
2CH2−基、本発明により提供される一般式(I)で
示されるジカルボン酸モノエステルは公知文献に未記載
の新規化合物である。これらジカルボン酸モノエステル
のうち、一般式(1)中のR4が水素原子であるものは
優れた酸化防止作用を有しており、酸素感性な有機材料
、例えば油脂、ゴム製品、プラスチックス、加工食品な
どの酸化防止剤として有用である。また一般式CI)中
のR4が保護基であるものは、この保護基を常法により
水素原子と置換えることにより上記の酸化防止作用を有
する化合物とすることができる。
に関する0 上記式中、R1は水素原子又はメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基などの低級アルキ・ル基を弄わす
R2及びR3は同−又は異なシそれぞれ水素原子;メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの低級アル
キル基;若しくはメトキシ基、工1゛キシ基、プロポキ
シ基、ブトキシ基などの低級アルコキン基を表わすか、
又はR2とR3は一緒になって−C)l=cH−CH=
CH−基を形成する。R4は7′A素原子又は保護基を
表わす。保護基としては水晒基保護の目的を達成する限
り通常用いられるいずれの保護基を用いてもよく、例え
ばアセチル基、フロピオニル基、ブチリル基、ベンゾイ
ル基;tどQ)アンル基、メチル基、t−ブチル基、ト
リフェニルメチル基、べ/シル基、ト1)メチルンリル
太、22どが挙げられる。R5、R6,R7及びR8は
同−又は異なりそれぞれ水素原子若しくはメチル基、エ
チルフc1 プロピル基、ブチル基などのアルキルス1
sを表わすか、又はR5とR6若しくはR7とR8は一
緒になってCH2=基を宍わすか R5とR7は一緒に
なって、噂結合を堀わすか、R6とR8は一緒になつで
す3 基、−CH2C=CHCH2−基、−CH2CH2CH
2CH2−基、本発明により提供される一般式(I)で
示されるジカルボン酸モノエステルは公知文献に未記載
の新規化合物である。これらジカルボン酸モノエステル
のうち、一般式(1)中のR4が水素原子であるものは
優れた酸化防止作用を有しており、酸素感性な有機材料
、例えば油脂、ゴム製品、プラスチックス、加工食品な
どの酸化防止剤として有用である。また一般式CI)中
のR4が保護基であるものは、この保護基を常法により
水素原子と置換えることにより上記の酸化防止作用を有
する化合物とすることができる。
最近、ビタミンEは安全性の高い酸化防止剤として注目
されているが、比較的高価であり、しかも容易に酸化さ
れて着色するため、汎用の酸化防止剤と成るには至って
いない。
されているが、比較的高価であり、しかも容易に酸化さ
れて着色するため、汎用の酸化防止剤と成るには至って
いない。
本発明者らはビタミンEを凌駕する新しい酸化防止剤を
開発すべく鋭意研究した結果、前記一般式(しで示され
るジカルボン酸モノエステルがビタミンLよりも優れた
酸化防止作用を有するか又はその[、り化防止作用を有
する化合物の前駆体となること、しかもこれらのジカル
ボン酸モノエステルが’4i−易に製造できることを見
出し、本発明に至った。
開発すべく鋭意研究した結果、前記一般式(しで示され
るジカルボン酸モノエステルがビタミンLよりも優れた
酸化防止作用を有するか又はその[、り化防止作用を有
する化合物の前駆体となること、しかもこれらのジカル
ボン酸モノエステルが’4i−易に製造できることを見
出し、本発明に至った。
九″発明(こよれば、一般式(n)
1
し:+(甲、R1、R2及びR3は一般式(I)におけ
ると同じ、t711+二を有し、f(は一般式(1)甲
のR4と同−又は異なり水累原子又は保護基を表わす0
〕で示される2−置換エチルアルコールと一般式(m)
〔式中、R5、R6、R7、R8及びnは一般式(I)
におけると同じ意味を有する。〕 で示されるジカルボン酸無水物とを反応させることによ
り前記一般式(1)で示されるジカルボン酸モノエステ
ルを製造することができる。この反応は通常のアルコー
ルと酸無水物との反応におけると同様の条件下で行なう
ことができる。例えば、−ff式(1)で示される2−
置換エチルアルコールと該2−置換エチルアルコールに
対してほぼ等モル当量の一般式(m)で示されるジカル
ボン酸無水物トラベンゼン、トルエン、クロロホルム、
ジクロルエタンなどの不活゛性情媒中又は無溶媒中で、
無触媒下、好ましくは上記2−置換エチルアルコールに
対して2モル当量以下のピリジン、トリエチルアミンな
どの第3級アミン又は硫酸、p−トルエンスルホン酸な
どの酸の存在下に、室温又は加温−トレこ反応させるこ
とによシ目的とする一般式(1)で示されるジカルボン
酸モノエステルを得ることができる。
ると同じ、t711+二を有し、f(は一般式(1)甲
のR4と同−又は異なり水累原子又は保護基を表わす0
〕で示される2−置換エチルアルコールと一般式(m)
〔式中、R5、R6、R7、R8及びnは一般式(I)
におけると同じ意味を有する。〕 で示されるジカルボン酸無水物とを反応させることによ
り前記一般式(1)で示されるジカルボン酸モノエステ
ルを製造することができる。この反応は通常のアルコー
ルと酸無水物との反応におけると同様の条件下で行なう
ことができる。例えば、−ff式(1)で示される2−
置換エチルアルコールと該2−置換エチルアルコールに
対してほぼ等モル当量の一般式(m)で示されるジカル
ボン酸無水物トラベンゼン、トルエン、クロロホルム、
ジクロルエタンなどの不活゛性情媒中又は無溶媒中で、
無触媒下、好ましくは上記2−置換エチルアルコールに
対して2モル当量以下のピリジン、トリエチルアミンな
どの第3級アミン又は硫酸、p−トルエンスルホン酸な
どの酸の存在下に、室温又は加温−トレこ反応させるこ
とによシ目的とする一般式(1)で示されるジカルボン
酸モノエステルを得ることができる。
上記のエステル合成反応により得られた一般式(I)で
示されるジカルボン酸モノエステルの分離回収は通常の
方法により行なうことができる。例えば、反応混合物に
水を加え、ついでエーテルなとで抽aコし、抽出液を水
洗、乾燥したのち、溶媒金留太し、ついでその残渣を再
ボV晶するか又はカラ、!・クロマトグラフィーで精製
することにより一触式(I)て示Cれるジカルボン酸モ
ノエステルをりj′ることかできる。
示されるジカルボン酸モノエステルの分離回収は通常の
方法により行なうことができる。例えば、反応混合物に
水を加え、ついでエーテルなとで抽aコし、抽出液を水
洗、乾燥したのち、溶媒金留太し、ついでその残渣を再
ボV晶するか又はカラ、!・クロマトグラフィーで精製
することにより一触式(I)て示Cれるジカルボン酸モ
ノエステルをりj′ることかできる。
J、’l’、 f・とじて用いる一般式(11)で示さ
れる2−固捗エチルアルコールはその大部分が自体公知
の化合物でるるか(特ui」昭49−88876号公報
及び何し;」昭56−145282号公報参照〕、不発
り9者らが先(・こ兇1」4シた方法によれば、一般式
(IV)し式中、it、R1、R2及びR3は一般式C
HI)におけると回じ意味を有する。〕 で示されるハイドロキノン又はその誘導体と4−メチル
−5,0−ジヒドロ−2H−ビランとをルイス酸の存在
下に反応させることKより容易に得ることができる(特
願昭57−83654号明細書参照)0この縮合反応で
用いるルイス酸としては例えば、三フッ化ホウ素゛エー
テル錯体、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、塩化
第1鉄、塩化第2鉄、塩化第1スズ、塩化第2スズ、塩
化亜鉛、硫酸、p−トルエンスルホン酸などを挙げるこ
とができるが、好ましくは塩化アルミニウム、三フフ化
ホウ素・エーテル錯体である0ルイス酸の使用量は一般
式(IV)で示されるハイドロキノン又はその誘導体に
刻して0.1〜2倍モル量、好ましくは0.5〜1.0
倍モル量である。この縮合反応は溶媒中で行な9のが好
ましく、例えば1,2−ジクロルエタン、ジクロルメタ
ン、クロロホルム、1.、1.2− トリクロルエチV
ン、四塩化炭素、クロルベンゼンなどのハロゲン化炭化
水素;ベンゼン、トルエン、キンレン、シクロヘキサン
、n−ヘキサン、リグロインなどの炭化水素;ニトロメ
タン、ニトロベンゼン、ベンゾニトリル、アセトニトリ
ルなどの含窒素化合物;メチルエチルケトン、酢酸エチ
ル、酢酸ブチルなどの含酸素化合物又はこれらの混合I
F/lを溶媒として使用できるが、特に1,2−ジクロ
ルエタンが好適である。溶媒の使用量は一般式(IV)
で示づれるハイドロキノン又はその誘導体に対して約2
〜100倍重量、奸才しくは約5〜20倍亜−1□(で
ある。この縮合反応は通常−40’C〜150℃、好−
fしくばO℃〜100 ’Cで行なう。ここで用いられ
る4−メチル−5,6−シヒドロー2H−ビランはイン
ブテンとホルマリンよりイノプレンを製造する際に多−
晴に副生じ、また酸触媒の存在下での第2級ブタノール
とホルムアルデヒド水溶7夜との反応などによっても合
成することができ、容易Vこしかも安価に入手できるも
のである。
れる2−固捗エチルアルコールはその大部分が自体公知
の化合物でるるか(特ui」昭49−88876号公報
及び何し;」昭56−145282号公報参照〕、不発
り9者らが先(・こ兇1」4シた方法によれば、一般式
(IV)し式中、it、R1、R2及びR3は一般式C
HI)におけると回じ意味を有する。〕 で示されるハイドロキノン又はその誘導体と4−メチル
−5,0−ジヒドロ−2H−ビランとをルイス酸の存在
下に反応させることKより容易に得ることができる(特
願昭57−83654号明細書参照)0この縮合反応で
用いるルイス酸としては例えば、三フッ化ホウ素゛エー
テル錯体、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、塩化
第1鉄、塩化第2鉄、塩化第1スズ、塩化第2スズ、塩
化亜鉛、硫酸、p−トルエンスルホン酸などを挙げるこ
とができるが、好ましくは塩化アルミニウム、三フフ化
ホウ素・エーテル錯体である0ルイス酸の使用量は一般
式(IV)で示されるハイドロキノン又はその誘導体に
刻して0.1〜2倍モル量、好ましくは0.5〜1.0
倍モル量である。この縮合反応は溶媒中で行な9のが好
ましく、例えば1,2−ジクロルエタン、ジクロルメタ
ン、クロロホルム、1.、1.2− トリクロルエチV
ン、四塩化炭素、クロルベンゼンなどのハロゲン化炭化
水素;ベンゼン、トルエン、キンレン、シクロヘキサン
、n−ヘキサン、リグロインなどの炭化水素;ニトロメ
タン、ニトロベンゼン、ベンゾニトリル、アセトニトリ
ルなどの含窒素化合物;メチルエチルケトン、酢酸エチ
ル、酢酸ブチルなどの含酸素化合物又はこれらの混合I
F/lを溶媒として使用できるが、特に1,2−ジクロ
ルエタンが好適である。溶媒の使用量は一般式(IV)
で示づれるハイドロキノン又はその誘導体に対して約2
〜100倍重量、奸才しくは約5〜20倍亜−1□(で
ある。この縮合反応は通常−40’C〜150℃、好−
fしくばO℃〜100 ’Cで行なう。ここで用いられ
る4−メチル−5,6−シヒドロー2H−ビランはイン
ブテンとホルマリンよりイノプレンを製造する際に多−
晴に副生じ、また酸触媒の存在下での第2級ブタノール
とホルムアルデヒド水溶7夜との反応などによっても合
成することができ、容易Vこしかも安価に入手できるも
のである。
−fた一万の厚相である一般式(川うで示されるジカル
ボン酸無水物は公知化合物である。
ボン酸無水物は公知化合物である。
以下に実施例及び試験例を挙げて本発明を具体的に説明
する。
する。
実施例1
3.4−ジヒドロ−2−ヒドロキンエチル−2,5゜7
.8−テトラメチル−2H−ベンゾビラン−6−オール
101?、無水コノ−り醒4.0?、p−)ルエンスル
ホン酸0.6?及びトルエン]、 OOrrtlカラ成
る混合物を室温で一夜攪拌した後、2時間加熱還流した
。鞘られた反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出
した。抽出液に炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、目的
物を水層に抽出しまた。得られた水層をジエチルエーテ
ルで洗滌した後、希塩酸で酸性とし、ジエチルエーテル
で抽出し7た。エーテル抽出液を水洗し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、低洲点物を減圧下に留去し、得
られた濃縮液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製することr(より、下記の物性を有するコ・・り酸
モノ(2−(3,4−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2,
5,7,8−テトラメチル−2H−ベンゾピラニル)エ
チル〕エステルを7.82得た(収率56係)。
.8−テトラメチル−2H−ベンゾビラン−6−オール
101?、無水コノ−り醒4.0?、p−)ルエンスル
ホン酸0.6?及びトルエン]、 OOrrtlカラ成
る混合物を室温で一夜攪拌した後、2時間加熱還流した
。鞘られた反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出
した。抽出液に炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、目的
物を水層に抽出しまた。得られた水層をジエチルエーテ
ルで洗滌した後、希塩酸で酸性とし、ジエチルエーテル
で抽出し7た。エーテル抽出液を水洗し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、低洲点物を減圧下に留去し、得
られた濃縮液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製することr(より、下記の物性を有するコ・・り酸
モノ(2−(3,4−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2,
5,7,8−テトラメチル−2H−ベンゾピラニル)エ
チル〕エステルを7.82得た(収率56係)。
FD質量スペクトル、[M] 350HMS 。
N1\′LRスペクトル(90MHz )δCDQ!3
’122 (s 、 :5i71) ; 1.
65〜z、2 (m、 13M) ;2.45−2
.73 (” + 614 ) : 4.0 b 〜4
.55 (” + 2 ”’ ) ;711〜80(b
r、 b 、 2J 災)41汐り 2 3.4−ジヒドロ−2−ヒドロキシエチル−2,5゜7
.8−テトラメチル−2kl−ベンゾビラン−6−オー
ル’、)、5 ql ピリジン0.8’?、 1.2
−ジクロルニ・メン50m1から成る溶成にコノ・り酸
無水物1.0!7(l Q +nrnol ) f加え
、室温て一夜撹拌した後、211、′J(川原熱還流し
ブこ○伺られた反応液を希塩酸にtトン、ジエナルエ
チルで抽出した。抽出l仮を水洗(〜〕このち、と八に
炭酸水素ナトリウム水溶叡を加え、目的物を水層に抽出
した。K−:+られた水層をジエチルエーテルで洗滌し
た後、これに希塩叡を加えてla柑−とL、ジエチルエ
ーテルで抽出した。
’122 (s 、 :5i71) ; 1.
65〜z、2 (m、 13M) ;2.45−2
.73 (” + 614 ) : 4.0 b 〜4
.55 (” + 2 ”’ ) ;711〜80(b
r、 b 、 2J 災)41汐り 2 3.4−ジヒドロ−2−ヒドロキシエチル−2,5゜7
.8−テトラメチル−2kl−ベンゾビラン−6−オー
ル’、)、5 ql ピリジン0.8’?、 1.2
−ジクロルニ・メン50m1から成る溶成にコノ・り酸
無水物1.0!7(l Q +nrnol ) f加え
、室温て一夜撹拌した後、211、′J(川原熱還流し
ブこ○伺られた反応液を希塩酸にtトン、ジエナルエ
チルで抽出した。抽出l仮を水洗(〜〕このち、と八に
炭酸水素ナトリウム水溶叡を加え、目的物を水層に抽出
した。K−:+られた水層をジエチルエーテルで洗滌し
た後、これに希塩叡を加えてla柑−とL、ジエチルエ
ーテルで抽出した。
抽出(シ1を水イソCし、無水做徹マグネ7ウムで乾燥
しブζイベ、1火縄泊物全紙圧下に留去し、得られた濃
縮物をンリカゲノしクロマトグラフィーで和製すること
Kより、コハク酸モノ(2−(3,4−ジヒドロ−6−
ヒドロキシ−2,5,7,8−テトラメチル−2H−ペ
ンツヒラニル)エチル〕エステル’i3.21F得た(
収率91循)。
しブζイベ、1火縄泊物全紙圧下に留去し、得られた濃
縮物をンリカゲノしクロマトグラフィーで和製すること
Kより、コハク酸モノ(2−(3,4−ジヒドロ−6−
ヒドロキシ−2,5,7,8−テトラメチル−2H−ペ
ンツヒラニル)エチル〕エステル’i3.21F得た(
収率91循)。
実施例3〜6
実施例2においてコハク酸無水物10 m molの代
りに第1表に示すジカルボン酸無水物IQmmolを用
いた以外は実施例2と同様に反応及び分離回収を行なう
ことにより対応するジカルボン酸モノエステルを得た。
りに第1表に示すジカルボン酸無水物IQmmolを用
いた以外は実施例2と同様に反応及び分離回収を行なう
ことにより対応するジカルボン酸モノエステルを得た。
その結果を第1衣に示す。
第 1 表
4.0〜4.5(m、2M);
5.0〜6.0(m、2H)
2.6(t、J=7Hz、2)i) ;4.23〜4.
7(m 、 2H) ;6.17〜6.57(m、 2
:E() ;6.8〜8.0 (m 、 2H) 2.57(t、J=7Hz、2M); 3.7 (s 、 2H) ; 4.1.5〜4.6 (m、 2’H) ;5.8〜7
.2 (rn、、 41()2.56(t 、 J=7
Hz 、 2H) ;4.27〜4.76(rn、 2
fi) ;7.0(br、 s、 2H) 7.47〜8.0 (m、 4K) 実施例7 C) li例2において3,4−ジヒドロ−2−ヒドロキシエ
チル−2,5,7,8−テトラメチル−2H−ベンゾビ
ラン−6−オール2.52の代りに2−(6−ベンジル
オキシ−3,4−ジヒドロ−2,5,7,8−テトラメ
チル−2H−ベンゾピラニル〕エタノール3.42を用
いた以外は実施例2と同様に反応及び分離回収を行なう
ことにより、下記の物性を有すルコハク酸モノ(2−(
6−ベンジルオキシ−3,4−ジヒドO−2,5,7,
8−テトラメチル−2H−ベンゾピラニル)エチル〕エ
ステルを4.1f得た(収率93係)。
7(m 、 2H) ;6.17〜6.57(m、 2
:E() ;6.8〜8.0 (m 、 2H) 2.57(t、J=7Hz、2M); 3.7 (s 、 2H) ; 4.1.5〜4.6 (m、 2’H) ;5.8〜7
.2 (rn、、 41()2.56(t 、 J=7
Hz 、 2H) ;4.27〜4.76(rn、 2
fi) ;7.0(br、 s、 2H) 7.47〜8.0 (m、 4K) 実施例7 C) li例2において3,4−ジヒドロ−2−ヒドロキシエ
チル−2,5,7,8−テトラメチル−2H−ベンゾビ
ラン−6−オール2.52の代りに2−(6−ベンジル
オキシ−3,4−ジヒドロ−2,5,7,8−テトラメ
チル−2H−ベンゾピラニル〕エタノール3.42を用
いた以外は実施例2と同様に反応及び分離回収を行なう
ことにより、下記の物性を有すルコハク酸モノ(2−(
6−ベンジルオキシ−3,4−ジヒドO−2,5,7,
8−テトラメチル−2H−ベンゾピラニル)エチル〕エ
ステルを4.1f得た(収率93係)。
FD質量スペクトル:〔M〕+44O
NMR,<ペクト/、(90MH2)6 l11M5
。
。
CDα3゜
1.22(S、3H);1.65〜2.25(m、13
H);2.4〜2.8 (m、 6H) ; 4.07
〜4.56 (m、 2H) ;4.7 (S 、 2
M) ; 7.2〜7.6 (ml 5H) ;10.
8 (br、 s 、 I H)ニ(シ施秒り8 裏〃IM(ンil 2 F、でおいて3,4−ジヒドロ
−2−ヒドロキンエチル−2,5,7,8−テトラメチ
ル−2H−ベンゾビラン−6−オール251の代りに2
−(6−アセト・キシ−3,4−ジヒドロ−2−メチル
−2H−ベンゾビラ、=ル)エタノール2.57’!z
用いた以外は実施し112と同様VC反応及び分離回収
を行なうことにより、下記のF’ D質量スペクトルを
有するコハク取モノ(2−(6−アセトキシ−3,4−
ジヒト’ ry−2−メチル−2M−ベンゾピラニル)
エチル〕エステルを3.12得た(収率86チ)。
H);2.4〜2.8 (m、 6H) ; 4.07
〜4.56 (m、 2H) ;4.7 (S 、 2
M) ; 7.2〜7.6 (ml 5H) ;10.
8 (br、 s 、 I H)ニ(シ施秒り8 裏〃IM(ンil 2 F、でおいて3,4−ジヒドロ
−2−ヒドロキンエチル−2,5,7,8−テトラメチ
ル−2H−ベンゾビラン−6−オール251の代りに2
−(6−アセト・キシ−3,4−ジヒドロ−2−メチル
−2H−ベンゾビラ、=ル)エタノール2.57’!z
用いた以外は実施し112と同様VC反応及び分離回収
を行なうことにより、下記のF’ D質量スペクトルを
有するコハク取モノ(2−(6−アセトキシ−3,4−
ジヒト’ ry−2−メチル−2M−ベンゾピラニル)
エチル〕エステルを3.12得た(収率86チ)。
FD@J、(スペクトル: (R4)+350実施例
実施例2においてコハク酸無水物IQmmolO代りに
フクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物、■−シ
クロへ升センー1.2−ジカルボン酸無水物、4−フク
ロヘキセン−1,2−ジカルボフノルボルナン−2,3
−ジカルボン酸無711、5−ノルボルネン−2,3−
ジカルボン酸無水物、4−メチル−4−シクロヘキセン
−1,2−ジカルボン酸無水物、1, 4, 5, 6
, 7. 7−へキサクロル−5−ノルボルネン−2,
3−ジカルボン酸無水物、ントラコン酸無水物をそれぞ
れlQmmol用いた以外は実施例2と同様に反応及び
分離回収を行なうことにより、それぞれ対応するジカル
ボン鍍モノエステルを得た。その結果を第2表に示す。
フクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物、■−シ
クロへ升センー1.2−ジカルボン酸無水物、4−フク
ロヘキセン−1,2−ジカルボフノルボルナン−2,3
−ジカルボン酸無711、5−ノルボルネン−2,3−
ジカルボン酸無水物、4−メチル−4−シクロヘキセン
−1,2−ジカルボン酸無水物、1, 4, 5, 6
, 7. 7−へキサクロル−5−ノルボルネン−2,
3−ジカルボン酸無水物、ントラコン酸無水物をそれぞ
れlQmmol用いた以外は実施例2と同様に反応及び
分離回収を行なうことにより、それぞれ対応するジカル
ボン鍍モノエステルを得た。その結果を第2表に示す。
( 1’)
(r’)
第 2 表
実施例17〜23
実施例2において3,4−ジヒドロ−2〜ヒドロキシエ
チル−2,5,7,8−テトラメチル−2H−ベンゾピ
ラン−6−オール2.5fの代りに第3弐に示す2−置
換エチルアルコール10mmol ヲ用いた以外は実施
例2と同様に反応及び分離回収を行なうことにより、そ
れぞれ対応するコハク酸モノエステルを得た。その結果
を第3表に示す。
チル−2,5,7,8−テトラメチル−2H−ベンゾピ
ラン−6−オール2.5fの代りに第3弐に示す2−置
換エチルアルコール10mmol ヲ用いた以外は実施
例2と同様に反応及び分離回収を行なうことにより、そ
れぞれ対応するコハク酸モノエステルを得た。その結果
を第3表に示す。
第 3 表
試除例1〜19
リノールilエチルに第4氷に示す供試化合物を一′f
:わ、ぞf′L践リノール酸エチル1001に対してO
fl 207を添加混合1〜、試f1の溶液を作成した
。
:わ、ぞf′L践リノール酸エチル1001に対してO
fl 207を添加混合1〜、試f1の溶液を作成した
。
こ才ししのiK 1’+の20m1をA OM (An
ti Oxygenmar;l+oa 、)試駄装置ζ
を用い、AOM条件下(9’7.8℃、)′1j気2.
33 「°c/see 、)で虐待し、POV(過酸化
!iワ仙1)が1 fl (l meq /kCyに達
する時間を測定した。
ti Oxygenmar;l+oa 、)試駄装置ζ
を用い、AOM条件下(9’7.8℃、)′1j気2.
33 「°c/see 、)で虐待し、POV(過酸化
!iワ仙1)が1 fl (l meq /kCyに達
する時間を測定した。
その結果を(+j;、 、i表に示す。
1 無添加 01
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1一般式 〔式中、R1は水素原子又は低級アルキル基を表わす、
−、R2及びR3は同−又は異なりそれぞれ水素)Φ子
、低級アルキル基若しくは低級アルコキン基を宍わし、
又はR2とR3は一緒になって−CH=CI(−CH−
CH−基を形成する。R4は水素原子又は保護基を表わ
す。R5、R6、R7及びRsハli5]−又は異なり
それぞれ水紫原子若しくはアルキル基を表わし、又はR
5とR6若しくはR7とR8は一緒になってCH2−基
を表わすか R5とR7は一緒になって単結合を表わす
か R6とR8は一緒になって−C)1=CH−CI(
=CH−基、−CH2C止CHCH2−基、わし、Xは
ハロゲン原子を表わす。nFiO〜2の整数を表わす。 〕 で示されるジカルボン酸モノエステル。 2、一般式 (式中、Rは水素原子又は採掘基を表わし、R1は水素
原子又は低級アルキル基を表わす。R2及びR3は同−
又は異なりそれぞれ水素原子、低級アルキル基若しくは
低級アルコキシ基を表わし。 又はR2とR3は一緒になって−Cf(=CI:L−C
H−=C1(−基を形成する。) で示される2−置換エチルアルコールと一般式(式中、
R5、R6、R7及びR8は同−又は異なりそれぞれ水
素原子若しくはアルキル基を表わし、又はR5とR6若
しくはR7とR8は一緒になってCH2−4を表わすか
R5とR7は一緒になって単結合を表わすか R6と
R8は一緒になって−CH=H3 基、 C)12c=cHcH2−基、−CH2(J(2
cH+cH2−基、−cxcx−cxcx−基を表わし
、Xはハロゲン原子を表わす。11は0〜2の整数を表
わす。〕で示されるジカルボン酸無水物とを反応させる
ことを特徴とする一般式 (式中、R1、R2、R3、R5、R6、R7、R8及
びnは上記と同じ意味を表わし、R4はRと同−又は異
なり水素原子又は保護基を表わす○) で示されるジカルボン酸モノエステルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58079937A JPS59204183A (ja) | 1983-05-06 | 1983-05-06 | ジカルボン酸モノエステル及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58079937A JPS59204183A (ja) | 1983-05-06 | 1983-05-06 | ジカルボン酸モノエステル及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59204183A true JPS59204183A (ja) | 1984-11-19 |
| JPH037673B2 JPH037673B2 (ja) | 1991-02-04 |
Family
ID=13704230
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58079937A Granted JPS59204183A (ja) | 1983-05-06 | 1983-05-06 | ジカルボン酸モノエステル及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59204183A (ja) |
-
1983
- 1983-05-06 JP JP58079937A patent/JPS59204183A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH037673B2 (ja) | 1991-02-04 |
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