JPH037673B2 - - Google Patents
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- JPH037673B2 JPH037673B2 JP58079937A JP7993783A JPH037673B2 JP H037673 B2 JPH037673 B2 JP H037673B2 JP 58079937 A JP58079937 A JP 58079937A JP 7993783 A JP7993783 A JP 7993783A JP H037673 B2 JPH037673 B2 JP H037673B2
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- group
- formula
- hydrogen atom
- general formula
- same
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pyrane Compounds (AREA)
- Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)
- Fats And Perfumes (AREA)
Description
本発明は一般式
で示されるジカルボン酸モノエステル及びその製
造方法に関する。 上記式中、R1は水素原子又はメチル基、、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基などの低級アルキル
基を表わす。R2及びR3は同一又は異なりそれぞ
れは水素原子；メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基などの低級アルキル基；若しくはメ
トキシ基、、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキ
シ基などの低級アルコキシ基を表わすか、又は
R2とR3は一緒になつて−CH＝CH−CH＝CH−
基を形成する。R4は水素原子、、アシル基、メチ
ル基、、ｔ−ブチル基、トリフエニルメチル基、
ベンジル基又はトリメチルシリル基を表わす。ア
シル基としてはアセチル基、プロピオニル基、ブ
チリル基、、ベンゾイル基などが挙げられる。上
記のアシル基、メチル基、ｔ−ブチル基、トリフ
エニルメチル基、ベンジン基及びトリメチルシリ
ル基は水酸基保護の目的で用いられる保護基であ
る。R5、R6，R7及びR8は同一又は異なりそれぞ
れ水素原子若しくはメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基などのアルキル基を表わすか、又
はR5とR6若しくはR7とR8は一緒になつてCH2＝
基を表わすは、、R5とR7は一緒になつて単結合を
表わすか、、R6とR8は一緒になつて−CH＝CH−
CH＝CH−基、−CH2CH＝CHCH2−基、
造方法に関する。 上記式中、R1は水素原子又はメチル基、、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基などの低級アルキル
基を表わす。R2及びR3は同一又は異なりそれぞ
れは水素原子；メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基などの低級アルキル基；若しくはメ
トキシ基、、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキ
シ基などの低級アルコキシ基を表わすか、又は
R2とR3は一緒になつて−CH＝CH−CH＝CH−
基を形成する。R4は水素原子、、アシル基、メチ
ル基、、ｔ−ブチル基、トリフエニルメチル基、
ベンジル基又はトリメチルシリル基を表わす。ア
シル基としてはアセチル基、プロピオニル基、ブ
チリル基、、ベンゾイル基などが挙げられる。上
記のアシル基、メチル基、ｔ−ブチル基、トリフ
エニルメチル基、ベンジン基及びトリメチルシリ
ル基は水酸基保護の目的で用いられる保護基であ
る。R5、R6，R7及びR8は同一又は異なりそれぞ
れ水素原子若しくはメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基などのアルキル基を表わすか、又
はR5とR6若しくはR7とR8は一緒になつてCH2＝
基を表わすは、、R5とR7は一緒になつて単結合を
表わすか、、R6とR8は一緒になつて−CH＝CH−
CH＝CH−基、−CH2CH＝CHCH2−基、
【式】
【式】−CH2CH2CH2CH2
−基、
【式】
【式】基若しくは
【式】基を表わし、Ｘはハロゲ
ン原子を表わす。ｎは0.1又は２の整数を表わす。
本発明により提供される一般式で示されるジ
カルボン酸モノエステルは公知文献に未記載の新
規化合物である。これらジカルボン酸モノエステ
ルのうち、一般式中のR4が水素原子であるも
のは優れた酸化防止作用を有しており、酸素感性
な有機材料、、例えば油脂、ゴム製品、プラスチ
ツク、加工食品などの酸化防止剤として有用であ
る。また一般式中のR4がアシル基、メチル
基、、ｔ−ブチル基、トリフエニルメチル基、ベ
ンジル基又はトリメチルシリル基であるものは、
これらの基を常法によりは水素原子と置換えるこ
とにより上記の酸化防止作用を有する化合物とす
ることができる。 最近、ビタミンＥは安全性の高い酸化防止剤と
して注目されているが、比較的高価であり、しか
も容易に酸化されて着色するため、汎用の酸化防
止剤と成るには至つていない。 本発明者らはビタミンＥを凌駕する新しい酸化
防止剤を開発すべく鋭意研究した結果、前記一般
式で示されるジカルボン酸モノエステルがビタ
ミンＥよりも優れた酸化防止作用を有するか又は
その酸化防止作用を有する化合物の前駆体となる
こと、しかもこれらのジカルボン酸モノエステル
が容易に製造できることを見出し、本発明に至つ
た。 本発明によれば、一般式 〔式中、R1、R2及びR3は一般式におけると
同じ意味を有し、Ｒは一般式中のR4と同一又
は異なり水素原子、アシル基、メチル基、、ｔ−
ブチル基、トリフエニルメチル基、ベンジル基又
はトリメチルシリル基を表わす。〕 で示される２−置換エチルアルコールと一般式 〔式中、R5，R6，R7，R8及びｎは一般式に
おけると同じ意味を有する。〕 で示されるジカルボン酸無水物とを反応させるこ
とにより前記一般式で示されるジカルボン酸モ
ノエステルを製造することができる。この反応は
通常のアルコールと酸無水物との反応におけると
同様の条件下で行なうことができる。例えば、一
般式で示される２−置換エチルアルコールと該
２−置換エチルアルコールに対してほぼ等モル当
量の一般式で示されるジカルボン酸無水物とを
ベンゼン、トルエン、クロロホルム、ジクロルエ
タンなどの不活性溶媒中又は無溶媒中で、無溶媒
下、好ましくは上記２−置換エチルアルコールに
対して２モル当量以下のピリジン、トリエチルア
ミンなどの第３級アミン又は硫酸、ｐ−トルエン
スルホン酸などの酸の存在下に、室温又は加温下
に反応させることにより目的とする一般式で示
されるジカルボン酸モノエステルを得ることがで
きる。 上記のエステル合成反応により得られた一般式
で示されるジカルボン酸モノエステルの分離回
収は通常の方法により行なうことができる。例え
ば、反応混合物に水を加え、ついでエーテルなど
で抽出し、抽出液を水洗、乾燥したのち、溶媒を
留去し、ついでその残渣を再結晶するか又はカラ
ムロマトグラフイーで精製することにより一般式
で示されるジカルボン酸モノエステルを得るこ
とができる。 原料として用いる一般式で示される２−置換
エチルアルコールはその大部分が自体公知の化合
物であるが、（特開昭49−88876号公報及び特開昭
56−145282号公報参照）、本発明者らが先に見出
した方法によれば、一般式 〔式中、Ｒ，R1，R2及びR3は一般式におけ
ると同じ意味を有する。 で示されるハイドロキノン又はその誘導体と４−
メチル−5.6−ジヒドロ−2H−ビランとをルイス
酸の存在下に反応させることにより容易に得るこ
とができる（特願昭57−83654号明細書参照）。こ
の縮合反応で用いるルイス酸としては例えば、三
フツ化ホウ酸．エーテル錯体、塩化アルミニウ
ム、臭化アルミニウム、塩化第１鉄、塩化第２
鉄、塩化第１スズ、塩化第２スズ、塩化亜鉛、硫
酸、ｐ−トルエンスルホン酸などを挙げることが
できるが、好ましくは塩化アルミニウム、三フツ
化ホウ素、エーテル錯体である。ルイス酸の使用
量は一般式で示されるハイドロキノン又はそ誘
導体に対して0.1〜２倍モル量、好ましくは0.5〜
1.0倍モル量である。この縮合反応は溶媒中で行
なうのが好ましく。例えば１，２−ジクロルエタ
ン、ジクロルメタン、クロロホルム、１，１，２
−トリクロルエチレン、四塩化炭素、クロルベン
ゼンなどのハロゲン化炭化水素；ベンゼン、トル
エン、キシレン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサ
ン、リグロインなどの炭化水素；＝ニトロメタ
ン、ニトロベンゼン、ベンゾニトリル、アセトニ
トリルなどの含窒素化合物；メチルエチルケト
ン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの含酸素化合物
又はこれらの混合物を溶媒として使できるが、特
に１，２−ジクロルエタンが好適である。溶媒の
使用量は一般式で示されるハイドロキノン又は
その誘導体に対して約２〜100倍重量、好ましく
は約５〜20倍重量である。この縮合反応は通常−
40℃〜150℃、好ましくは０℃〜100℃で行なう。
ここで用いられる４−メチル−５，６−ジヒドロ
−2H−ピランはイソプテンとホルマリンよりイ
ソプレンを製造する際に多量に副生し、また酸触
媒の存在下での第３級ブタノールとホルムアルデ
ヒド水容液との反応などによつても合成すること
ができ、容易にしかも安価に入手できるものであ
る。 また一方の原料である一般式で示されるジカ
ルボン酸無水物は公知化合物である。 以下に実施例及び試験例を挙げて本発明を具体
的に説明する。 実施例 １ ３，４−ジヒドロ−２−（ヒドロキシエチル−
２，５，７，８−テトラメチル−2H−ベンゾピ
ラン−６−オール10g、無水コハク酸4.0g、ｐ−
トルエンスルホン酸0.6g及びトルエン100mlから
成る混合物を室温で一夜撹拌した後、２時間加熱
還流した。得られた反応液を水にあけ、ジエチル
エーテルで抽出した。抽出液に炭酸水素ナトリウ
ム水容液を加え、目的物を水層に抽出した。得ら
れた水層をジエチルエーテルで洗滌した後、希塩
酸で酸性とし、ジエチルエーテルで抽出した。エ
ーテル抽出液を水洗し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した後、低沸点物を減圧下に留去し、得られ
た濃縮液をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
で精製することにより、下記の物性を有するコハ
ク酸モノ〔２−（３，４−ジヒドロ−６−ヒドロ
キシ−２，５，７，８−テトラメチル−2H−ベ
ンゾピラン−２−イル）エチル〕エステルを7.8g
を得た。（収率56％）。 FD質量スペクトル：〔Ｍ〕+350 NMRスペクトル（90MHz）δHMS CDCl3：1.22（ｓ，
3H）；1.65〜2.2（ｍ，13H）；2.45〜2.73
（ｍ，6H）；4.05〜4.55（ｍ，2H）；7.0〜8.0
（br.s，2H） 実施例 ２ ３，４−ジヒドロ−２−（２−ヒドロキシエチ
ル−２，５，７，８−テトラメチル−2H−ベン
ゾピラン−６−オール2.5g、ピリジン0.8g及び
１，２−ジクロルエタン50mlから成る溶液にコハ
ク酸無水物1.0g（100mmol）を加え、室温で一夜
撹拌した後、２時間加熱還流した。得られた反応
液を希塩酸に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出し
た。抽出液を水洗したのち、これに炭酸水素ナト
リウム水容液を加え、目的物を水層に抽出した。
得られた水層をジエチルエーテルで洗滌した後、
これに希塩酸を加えて酸性とし、ジエチルエーテ
ルで抽出した。 抽出液を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た後、低沸点物を減圧下に留去し、得られた濃縮
物をシリカゲルクロマトグラフイーで精製するこ
とにより、コハク酸モノ〔２−（３，４−ジヒド
ロ−６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメ
チル−2H−ベンゾピラン−２−イル）エチル〕
エステルを3.2g得た（収率91％）。 実施例 ３〜６ 実施例２においてコハク酸無水物10mmolの代
りに第１表に示すジカルボン酸無水物10mmolを
用いた以外は実施例２と同様に反応及び分離回収
を行なうことにより対応するジカルボン酸モノエ
ステルを得た。その結果を第１表に示す。
カルボン酸モノエステルは公知文献に未記載の新
規化合物である。これらジカルボン酸モノエステ
ルのうち、一般式中のR4が水素原子であるも
のは優れた酸化防止作用を有しており、酸素感性
な有機材料、、例えば油脂、ゴム製品、プラスチ
ツク、加工食品などの酸化防止剤として有用であ
る。また一般式中のR4がアシル基、メチル
基、、ｔ−ブチル基、トリフエニルメチル基、ベ
ンジル基又はトリメチルシリル基であるものは、
これらの基を常法によりは水素原子と置換えるこ
とにより上記の酸化防止作用を有する化合物とす
ることができる。 最近、ビタミンＥは安全性の高い酸化防止剤と
して注目されているが、比較的高価であり、しか
も容易に酸化されて着色するため、汎用の酸化防
止剤と成るには至つていない。 本発明者らはビタミンＥを凌駕する新しい酸化
防止剤を開発すべく鋭意研究した結果、前記一般
式で示されるジカルボン酸モノエステルがビタ
ミンＥよりも優れた酸化防止作用を有するか又は
その酸化防止作用を有する化合物の前駆体となる
こと、しかもこれらのジカルボン酸モノエステル
が容易に製造できることを見出し、本発明に至つ
た。 本発明によれば、一般式 〔式中、R1、R2及びR3は一般式におけると
同じ意味を有し、Ｒは一般式中のR4と同一又
は異なり水素原子、アシル基、メチル基、、ｔ−
ブチル基、トリフエニルメチル基、ベンジル基又
はトリメチルシリル基を表わす。〕 で示される２−置換エチルアルコールと一般式 〔式中、R5，R6，R7，R8及びｎは一般式に
おけると同じ意味を有する。〕 で示されるジカルボン酸無水物とを反応させるこ
とにより前記一般式で示されるジカルボン酸モ
ノエステルを製造することができる。この反応は
通常のアルコールと酸無水物との反応におけると
同様の条件下で行なうことができる。例えば、一
般式で示される２−置換エチルアルコールと該
２−置換エチルアルコールに対してほぼ等モル当
量の一般式で示されるジカルボン酸無水物とを
ベンゼン、トルエン、クロロホルム、ジクロルエ
タンなどの不活性溶媒中又は無溶媒中で、無溶媒
下、好ましくは上記２−置換エチルアルコールに
対して２モル当量以下のピリジン、トリエチルア
ミンなどの第３級アミン又は硫酸、ｐ−トルエン
スルホン酸などの酸の存在下に、室温又は加温下
に反応させることにより目的とする一般式で示
されるジカルボン酸モノエステルを得ることがで
きる。 上記のエステル合成反応により得られた一般式
で示されるジカルボン酸モノエステルの分離回
収は通常の方法により行なうことができる。例え
ば、反応混合物に水を加え、ついでエーテルなど
で抽出し、抽出液を水洗、乾燥したのち、溶媒を
留去し、ついでその残渣を再結晶するか又はカラ
ムロマトグラフイーで精製することにより一般式
で示されるジカルボン酸モノエステルを得るこ
とができる。 原料として用いる一般式で示される２−置換
エチルアルコールはその大部分が自体公知の化合
物であるが、（特開昭49−88876号公報及び特開昭
56−145282号公報参照）、本発明者らが先に見出
した方法によれば、一般式 〔式中、Ｒ，R1，R2及びR3は一般式におけ
ると同じ意味を有する。 で示されるハイドロキノン又はその誘導体と４−
メチル−5.6−ジヒドロ−2H−ビランとをルイス
酸の存在下に反応させることにより容易に得るこ
とができる（特願昭57−83654号明細書参照）。こ
の縮合反応で用いるルイス酸としては例えば、三
フツ化ホウ酸．エーテル錯体、塩化アルミニウ
ム、臭化アルミニウム、塩化第１鉄、塩化第２
鉄、塩化第１スズ、塩化第２スズ、塩化亜鉛、硫
酸、ｐ−トルエンスルホン酸などを挙げることが
できるが、好ましくは塩化アルミニウム、三フツ
化ホウ素、エーテル錯体である。ルイス酸の使用
量は一般式で示されるハイドロキノン又はそ誘
導体に対して0.1〜２倍モル量、好ましくは0.5〜
1.0倍モル量である。この縮合反応は溶媒中で行
なうのが好ましく。例えば１，２−ジクロルエタ
ン、ジクロルメタン、クロロホルム、１，１，２
−トリクロルエチレン、四塩化炭素、クロルベン
ゼンなどのハロゲン化炭化水素；ベンゼン、トル
エン、キシレン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサ
ン、リグロインなどの炭化水素；＝ニトロメタ
ン、ニトロベンゼン、ベンゾニトリル、アセトニ
トリルなどの含窒素化合物；メチルエチルケト
ン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの含酸素化合物
又はこれらの混合物を溶媒として使できるが、特
に１，２−ジクロルエタンが好適である。溶媒の
使用量は一般式で示されるハイドロキノン又は
その誘導体に対して約２〜100倍重量、好ましく
は約５〜20倍重量である。この縮合反応は通常−
40℃〜150℃、好ましくは０℃〜100℃で行なう。
ここで用いられる４−メチル−５，６−ジヒドロ
−2H−ピランはイソプテンとホルマリンよりイ
ソプレンを製造する際に多量に副生し、また酸触
媒の存在下での第３級ブタノールとホルムアルデ
ヒド水容液との反応などによつても合成すること
ができ、容易にしかも安価に入手できるものであ
る。 また一方の原料である一般式で示されるジカ
ルボン酸無水物は公知化合物である。 以下に実施例及び試験例を挙げて本発明を具体
的に説明する。 実施例 １ ３，４−ジヒドロ−２−（ヒドロキシエチル−
２，５，７，８−テトラメチル−2H−ベンゾピ
ラン−６−オール10g、無水コハク酸4.0g、ｐ−
トルエンスルホン酸0.6g及びトルエン100mlから
成る混合物を室温で一夜撹拌した後、２時間加熱
還流した。得られた反応液を水にあけ、ジエチル
エーテルで抽出した。抽出液に炭酸水素ナトリウ
ム水容液を加え、目的物を水層に抽出した。得ら
れた水層をジエチルエーテルで洗滌した後、希塩
酸で酸性とし、ジエチルエーテルで抽出した。エ
ーテル抽出液を水洗し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した後、低沸点物を減圧下に留去し、得られ
た濃縮液をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
で精製することにより、下記の物性を有するコハ
ク酸モノ〔２−（３，４−ジヒドロ−６−ヒドロ
キシ−２，５，７，８−テトラメチル−2H−ベ
ンゾピラン−２−イル）エチル〕エステルを7.8g
を得た。（収率56％）。 FD質量スペクトル：〔Ｍ〕+350 NMRスペクトル（90MHz）δHMS CDCl3：1.22（ｓ，
3H）；1.65〜2.2（ｍ，13H）；2.45〜2.73
（ｍ，6H）；4.05〜4.55（ｍ，2H）；7.0〜8.0
（br.s，2H） 実施例 ２ ３，４−ジヒドロ−２−（２−ヒドロキシエチ
ル−２，５，７，８−テトラメチル−2H−ベン
ゾピラン−６−オール2.5g、ピリジン0.8g及び
１，２−ジクロルエタン50mlから成る溶液にコハ
ク酸無水物1.0g（100mmol）を加え、室温で一夜
撹拌した後、２時間加熱還流した。得られた反応
液を希塩酸に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出し
た。抽出液を水洗したのち、これに炭酸水素ナト
リウム水容液を加え、目的物を水層に抽出した。
得られた水層をジエチルエーテルで洗滌した後、
これに希塩酸を加えて酸性とし、ジエチルエーテ
ルで抽出した。 抽出液を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た後、低沸点物を減圧下に留去し、得られた濃縮
物をシリカゲルクロマトグラフイーで精製するこ
とにより、コハク酸モノ〔２−（３，４−ジヒド
ロ−６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメ
チル−2H−ベンゾピラン−２−イル）エチル〕
エステルを3.2g得た（収率91％）。 実施例 ３〜６ 実施例２においてコハク酸無水物10mmolの代
りに第１表に示すジカルボン酸無水物10mmolを
用いた以外は実施例２と同様に反応及び分離回収
を行なうことにより対応するジカルボン酸モノエ
ステルを得た。その結果を第１表に示す。
【表】
実施例 ７
実施例２において３，４−ジヒドロ−２−（２
−ヒドロキシエチル−2.5，７，８−テトラメチ
ル−2H−ベンゾビラン−６−オール2.5gの代り
に２−（６−ベンジルオキシ−3.4−ジヒドロ−
２，５，７，８−テトラメチル−2H−ベンゾピ
ラン−２−イル）エタノール３，4gを用いた以
外は実施例２と同様に反応及び分離回収を行なう
ことにより、下記の物性を有するコハク酸モノ
〔２−（６−ベンジルオキシ−３，４−ジヒドロ−
２，５，７，８−テトラメチル−2H−ベンゾピ
ラン−２−イル）エチル〕エステルを4.1g得た
（収率93％）。 FD質量スペクトル：〔Ｍ〕+440 NMRスペクトル（90MHz）δHMS CDCl3：1.22（ｓ，
3H）；1.65〜2.25（ｍ，13H）；2.4〜2.8（ｍ，
6H）；4.07〜4.56（ｍ，2H）；4.7（ｓ，
2H）；7.2〜7.6（ｍ，5H）；10.8（br.s，1H） 実施例 ８ 実施例２において３，４−ジヒドロ−２−（２
−ヒドロキシエチル、２，５，７，８−テトラメ
チル−2H−ベンゾピラン−６−オール2.5gの代
りに２−（６−アセトキシ−３，４−ジヒドロ−
２−メチル−2H−ベンゾピラン−２−イル）エ
テノール2.5gを用いた以外は実施例２と同様に反
応及び分離回収を行なうことにより、下記のFD
質量スペクトルを有するコハク酸モノ〔２−（６
−アセトキシ−3.4−ジヒドロ−２−メチル−2H
−ベンゾピラン−２−イル）エチル〕エステルを
3.1g得た（収率86％）。 FD質量スペクトル：〔Ｍ〕+350 実施例 ９〜16 実施例２においてコハク酸無水物10mmolの代
りにシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸無水
物、１−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸
無水物、４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボ
ン酸無水物、ノルボルナン−２，３−ジカルボン
酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボ
ン酸無水物、４メチル−４−シクロヘキセン−
１，２−ジカルボン酸無水物、１，４，５，６，
７，７−ヘキサクロル−５−ノルボルネン−２，
３−ジカルボン酸無水物又はシトラコン酸無水物
をそれぞれ10mmol用いた以外は実施例２と同様
に反応及び分離回収を行なうことにより、それぞ
れ対応するジカルボン酸モノエステルを得た。そ
の結果を第２表に示す。
−ヒドロキシエチル−2.5，７，８−テトラメチ
ル−2H−ベンゾビラン−６−オール2.5gの代り
に２−（６−ベンジルオキシ−3.4−ジヒドロ−
２，５，７，８−テトラメチル−2H−ベンゾピ
ラン−２−イル）エタノール３，4gを用いた以
外は実施例２と同様に反応及び分離回収を行なう
ことにより、下記の物性を有するコハク酸モノ
〔２−（６−ベンジルオキシ−３，４−ジヒドロ−
２，５，７，８−テトラメチル−2H−ベンゾピ
ラン−２−イル）エチル〕エステルを4.1g得た
（収率93％）。 FD質量スペクトル：〔Ｍ〕+440 NMRスペクトル（90MHz）δHMS CDCl3：1.22（ｓ，
3H）；1.65〜2.25（ｍ，13H）；2.4〜2.8（ｍ，
6H）；4.07〜4.56（ｍ，2H）；4.7（ｓ，
2H）；7.2〜7.6（ｍ，5H）；10.8（br.s，1H） 実施例 ８ 実施例２において３，４−ジヒドロ−２−（２
−ヒドロキシエチル、２，５，７，８−テトラメ
チル−2H−ベンゾピラン−６−オール2.5gの代
りに２−（６−アセトキシ−３，４−ジヒドロ−
２−メチル−2H−ベンゾピラン−２−イル）エ
テノール2.5gを用いた以外は実施例２と同様に反
応及び分離回収を行なうことにより、下記のFD
質量スペクトルを有するコハク酸モノ〔２−（６
−アセトキシ−3.4−ジヒドロ−２−メチル−2H
−ベンゾピラン−２−イル）エチル〕エステルを
3.1g得た（収率86％）。 FD質量スペクトル：〔Ｍ〕+350 実施例 ９〜16 実施例２においてコハク酸無水物10mmolの代
りにシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸無水
物、１−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸
無水物、４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボ
ン酸無水物、ノルボルナン−２，３−ジカルボン
酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボ
ン酸無水物、４メチル−４−シクロヘキセン−
１，２−ジカルボン酸無水物、１，４，５，６，
７，７−ヘキサクロル−５−ノルボルネン−２，
３−ジカルボン酸無水物又はシトラコン酸無水物
をそれぞれ10mmol用いた以外は実施例２と同様
に反応及び分離回収を行なうことにより、それぞ
れ対応するジカルボン酸モノエステルを得た。そ
の結果を第２表に示す。
【表】
【表】
実施例 17〜23
実施例２において3.4−ジヒドロ−２−（２−ヒ
ドロキシエチル−２，５，７，８−テトラメチル
−2H−ベンゾピラン−６−オール2.5gの代りに
第３表に示す２−置換エチルアルコール10mmol
を用いた以外は実施例２と同様に反応及び分離回
収を行なうことにより、それぞれ対応するコハク
酸モノエステルを得た。その結果を第３表に示
す。
ドロキシエチル−２，５，７，８−テトラメチル
−2H−ベンゾピラン−６−オール2.5gの代りに
第３表に示す２−置換エチルアルコール10mmol
を用いた以外は実施例２と同様に反応及び分離回
収を行なうことにより、それぞれ対応するコハク
酸モノエステルを得た。その結果を第３表に示
す。
【表】
【表】
試験例 １〜19
リノール酸エチルに第４表に示す供試化合物を
それぞれ該リノール酸エチル100gに対して0.020g
を添加混合し、試料の溶液を作成した。 これらの試料の20mlをAOM
（AntiOxygenmethod）試験装置を用い、AOM
条件下（97.8℃、通気2.33cc／sec）で虐待し、
POV（過酸化物価）が100meq／Kgに達する時間
を測定した。 その結果を第４表に示す。
それぞれ該リノール酸エチル100gに対して0.020g
を添加混合し、試料の溶液を作成した。 これらの試料の20mlをAOM
（AntiOxygenmethod）試験装置を用い、AOM
条件下（97.8℃、通気2.33cc／sec）で虐待し、
POV（過酸化物価）が100meq／Kgに達する時間
を測定した。 その結果を第４表に示す。
【表】
【表】
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中、R1は水素原子又は低級アルキル基を
表わす。R2及びR3は同一又は異なりそれぞれ水
素原子、低級アルキル基若しくは低級アルコキシ
基を表わし、又はR2とR3は一緒になつて−CH＝
CH−CH＝CH−基を形成する。R4は水素原子、
アシル基、メチル基、ｔ−ブチル基、トリフエニ
ルメチル基、ベンジル基又はトリメチルシリル基
を表わす。R5R6，R7及びR8は同一又は異なりそ
れぞれ水素原子若しくはアルキル基を表わし、又
はR5とR6若しくはR7とR8は一緒になつてCH2＝
基を表わすか、R5とR7は一緒になつて単結合を
表わすか、R6とR8は一緒になつて−CH＝CH−
CH＝CH−基、−CH2CH＝CHCH2−基、
【式】 【式】−CH2CH2CH2CH2 −基、【式】 【式】基若しくは 【式】基を表わし、Ｘはハロゲ ン原子を表わす。ｎは０〜２の整数を表わす。〕 で示されるジカルボン酸モノエステル。 ２ 一般式 （式中、Ｒは水素原子、アシル基、メチル基、
ｔ−ブチル基、トリフエニルメチル基、ベンジン
基又はトリメチルシリル基を表わし、R1は水素
原子又は低級アルキル基を表わす。R2及びR3は
同一又は異なりそれぞれ水素原子、低級アルキル
基若しくは低級アルコキシ基を表わし、又はR2
とR3は一緒になつて−CH＝CH−CH＝CH−基
を形成する。） で示される２−置換エチルアルコールと一般式 （式中、R5，R6，R7及びR8は同一又は異なり
それぞれ水素原子若しくはアルキル基を表わし、
又はR5とR6若しくはR7とR8は一緒になつてCH2
＝基を表わすか、R5とR7は一緒になつて単結合
を表わすか、R6とR8は一緒になつて−CH＝CH
−CH＝CH−基、CH2CH＝CHCH2−基、
【式】 【式】−CH2CH2CH2CH2 −基、【式】 【式】基若しくは 【式】基を表わし、Ｘはハロゲ ン原子を表わす。ｎは０〜２の整数を表わす。〕 で示されるジカルボン酸無水物とを反応させるこ
とを特徴とする一般式 （式中、R1，R2，R3，R5，R6，R7，R8及びｎ
は上記と同じ意味を表わし、R4はＲと同一又は
異なり水素原子、アシル基、メチル基、ｔ−ブチ
ル基、トリフエニルメチル基、ベンジル基又はト
リメチルシリル基を表わす。 で示されるジカルボン酸モノエステルの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58079937A JPS59204183A (ja) | 1983-05-06 | 1983-05-06 | ジカルボン酸モノエステル及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58079937A JPS59204183A (ja) | 1983-05-06 | 1983-05-06 | ジカルボン酸モノエステル及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59204183A JPS59204183A (ja) | 1984-11-19 |
| JPH037673B2 true JPH037673B2 (ja) | 1991-02-04 |
Family
ID=13704230
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58079937A Granted JPS59204183A (ja) | 1983-05-06 | 1983-05-06 | ジカルボン酸モノエステル及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59204183A (ja) |
-
1983
- 1983-05-06 JP JP58079937A patent/JPS59204183A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59204183A (ja) | 1984-11-19 |
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