JPS5920486A - 精密成形用金型の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「発明の技術分野」 この発明は、Ｉひ型より転写して作製する金型の製造方
法に関する。

［発明の技術的背景とその問題屯］ 従来、ビデオディスク等の情報記録盤を製造するには、
まずフォトレジストを塗布したガラス原盤に記録信号等
を凹凸形状にレーザービームで記録し、原盤を形成する
。この原盤から、ニッケルメッキまたは銅メッキによっ
てマスター、マザー、スタンパ−を順次作成する。そし
て、スタンノシーを金型として４電性力ゝ−ボン粒子を
成形用組成物に分散させたものを圧縮成形して、静電容
量方式の記録盤を製造するよう圧している０ と（二ろで、該成形用組成物中には、重金属、カーボン
粒子等の研摩性粒子が含まれており、前記スタンパ−を
用いて圧縮成形を行なうと、この研摩性粒子によりスタ
ンパ−表面に傷が生じ、この傷が次の記録盤上に転写さ
れて記録盤の再生中に不都合な「イ１子的欠陥を生ずる
という問題がある。

この問題を解決するために、通常はスタンパ−表面に０
．１〔μｍ〕前後のクロムメッキを施し、核表面を保護
するようにしている。また、特開昭５６−３４４３０に
おいては、クロムを含む薄膜を、母型表面の凹凸を正ｆ
ｆ４　Ｋ転写しているスタンパ−表面に被着することに
よりスタンパ−の耐傷性の向上を計るという提案がなさ
れている。

しかし、母型表面の凹凸を正確に転写しているスタンパ
−表面に硬質膜を被着する古、信号の正確な転写が著し
く妨げられる。さらに０．１〔１ｌＩｎ〕前後のクロム
メッキ厚ではクロムメッキ固有の硬度を得ることも不可
能である。

そこで、特開昭−４９−１０３８４６では硬質合金メッ
キを、また特開昭５０−２３４５３ではニッケル硼素、
合金メッキをそれぞれ母型表面に形成した後、該合金メ
ッキ層上に電鋳によシ金型本体を肉づけし、該合金メッ
キ層吉母型との間で剥離することによυ金型を製造する
方法が提案されている。

しかし、これらの方法で得られるスタンパ−の表面、す
なわち合金層は、成形用組成物中に含まれる安定剤によ
る汚染を受は易いという欠点を有する。

このため、信号の転写性を損ねることなく、スタンパ−
表面の硬度を大きくする方法の実現が望まれている。ま
た、この方法の確立は、ビデオディスクのスタンパ−に
限らず、表面硬質化を必要とする他の精密成型用金型の
製造の分野でも強く［発明の目的］ この発明は、上把欠曳を解決するだめに成されたもので
、精密成形用金型表面の凹凸が、Ｒｈ型上の凹凸を正確
に転写し、しかもその表面硬度を犬ならしめる鞘密成形
用金型の製造方法を提供することを目的とするものであ
る。

［発明の概要］ こ・の発明は、転写により金型を製造するに際し母型表
面に＾空蒸着法を用いて硬質膜を被着した後、該硬質膜
上に電鋳に−Ｃ金属を肉づけし、上記母型を上記硬質膜
より剥離するようにした方法である。

［発明の効果］ この発明によれば、予め母型表面に対し゛Ｃ硬質膜を真
空蒸着法によシ被着するので、母型表面の凹凸を重鐘に
転写し、しかも表面硬度の大きい金型を製造するこ吉が
できる。このため、ビデオディスク用のスタンパ−の製
造に応用した場合、成形用組成物中の研摩性粒子による
掻傷の発生を極力抑えることが可能となる。また、クロ
ム、モリブデン、タングステンのいずれも成形用組成物
中の安定剤による汚染を受けにくい。従って、以上の改
からスタンパ−の寿命を著しく伸ばすことができる。

また、真空蒸着法では、膜厚分布の調節が湿式のメッキ
法よりも容易であるだめ、均一な硬質膜を再現性良く形
成することができ、極めて有用性が高い。

［発明の実施例］ 以下図面を参照して、この発明を詳４１１に説明する。

第１図乃至第４図は本発明に（ｉｆっで、母型から転写
により精密成型用金型を製造する工程を示す断面図であ
る。まず、第１図に示すようにマザー１を最表面層から
内部に向って数］０　（Ｘ、］にわたって、５　％　Ｎ
ａＯＨ水溶液中、謳°０、浴電圧５ｖで逆電流処理によ
り剥離促進層２を形成させた。

次に、第２図に示すようにこのマザーｌを真空蒸着装置
内に設置ｌ〜、１Ｏ−５（ＴｏｒｒＪの真空中で顆粒状
９９．９％のクロムをタングステンボート上でｔ　８０
０〔Ｃ〕で昇華させて厚さ１．Ｑ　（Ｉｔ　ｍ）のクロ
ム膜（硬質膜）３を被着１〜た。

以上のようにして形成されたクロム膜の表面を９６チの
エタノール９５容と塩酸（比重１．１８）　５容の混合
溶液中で、ステンレス陰極に対し、７〔ｖ〕、６Ｑ（ｓ
ｅｃ）の栄件の下でエツチングした後、該クロム膜上へ
、さらに下Ｍ＋２　組成のメッキ浴を用いて２５（’Ｏ
）、陰極電流密度１０　（Ａ／ｄ＋ｎ２）　、　、ｌ　
ツキ時間５〔ｍｉｎ〕にお・いてニッケル・ストライク
メッキ層４を形成した（第３図）。

ニッケルストライク用メッキ浴組成： さらに、該ニッケルストライクメッキ層４の」二に、下
記組成のメッキ浴を用いて、５０　（’Ｏ）　、陰極電
流密度５（＆ａｍ２）、ＰＨ４の条件でスルフアミノ酸
ニッケルメッキを施し、所要厚さのニッケル電鋳層５を
肉付けした（第３図）。

スルファミン酸ニッケルメッキ浴組成：スルフアミノ酸
ニッケル　４５０　（Ｉｌ　）ニッケル′「ニ鋳層５の
形成が終った後、クロム層３とマザーｌ（剥離促進層２
を含む）の間で剥離を行ない、第４図に示すようなスタ
ンパ−６を得だ。

上記方法により得られるスタンパ−の表面硬度と膜厚を
第１表に示した。また比較例１として、マザーｌの表面
に剥離促進処理を施し、この而に対して先と同条件でス
ルフアミノ酸ニッケル浴中で電解ニッケルメッキを行な
いニッケル電鋳層を形成した後、これをマザーより剥離
してスタンパ−としだ。比較例２として、比較例１で得
たスタンパ−を下記組成のメッキ浴に浸漬し、５０　（
Ｑ）、陰極電流密度３０　（Ａ／ｄｍ２）の条件で電解
クロムメッキを行ない、厚さ０．１（ｚ１ｍ’）のクロ
ムを被着した。

比較例１、比較例２で得られたスタンパ−の表面硬度と
膜厚を実施例と同様に第１表に示しだ。

以下余白 この第１表より、硬度は比較例１に対して比較ｖ／ｌｌ
　２　ｉ　１．４〜１．８　倍、実ｍｌｉ　例ハ３．７
〜４．６　倍増ｊ）ｒＪ　Ｌ、　でいると吉が判る。

さらに、実施例、比較例１、比較例２で得られたスタン
パ−における中心文シ牛径１００　（ｍｍ）付近のデ、
−ティー比の測定値を、第２表に示した。

チー−ティー比は、スタンパ−表面にり０　ム）ツキを
施す方式の比較例２は高くなっているが、実施例、比較
例１は（３）〔チ〕に近い４９〔％〕を示しており、記
録転写性に優れていることが判る。このように本実施例
の方法によれば、記録転写性から生じる信号再生特性を
低下させると（！：なく、スタンパ−の硬度を上昇させ
るこ吉ができる）なお・、本発明は上記実施例に限定さ
れるものではなく、種々変形して実施するこ吉が可能で
ある。

例えば、真空蒸着法による各種の条件や膜厚等は適宜変
更できる。さらに、硬質膜としてはクロムに限らず、タ
ングステンあるいはモリブデンでも良い。また、ビデオ
ディスクのスタンパ−に限らず、表面の硬化を必要とす
る各種の精密成形金型に適用できる。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第４図はそれぞれ、本発明の金型の製造方法
を製造工程順に示す図である。 ｌ・・・マザー、２・・剥離促進層、 ３・・・クロム蒸着膜（硬質膜）、 ４・・ニッケルストライクメッキ層、

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）転写によυ金型を製造するに際し、Ｌひ型表面に
   真空蒸着法を用いて硬質膜を被着し、次いで該硬質膜上
   に電鋳にて金属を被着した後、上記母型を上記硬質膜よ
   シ剥離するようにしたことを特徴とする金型表面に該硬
   質膜を有する精密成形用金型の製造方法。
2. （２）前記硬質膜さして、クロム、モルブデン、り製造
   方法。