JPS5953690A - 精密成形用金型の製造方法 - Google Patents
精密成形用金型の製造方法Info
- Publication number
- JPS5953690A JPS5953690A JP16221582A JP16221582A JPS5953690A JP S5953690 A JPS5953690 A JP S5953690A JP 16221582 A JP16221582 A JP 16221582A JP 16221582 A JP16221582 A JP 16221582A JP S5953690 A JPS5953690 A JP S5953690A
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- JP
- Japan
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- stamper
- chrome plating
- thickness
- hard chrome
- plating film
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は母型より転写して作製する金型の製造方法に
関する。
関する。
ビデオディスク等の情報記録盤を製造するには、まずフ
ォトレジストを塗布したガラス原盤に記録信号、トラッ
キング信号を凹凸形状にレーザーヒームで記録し原盤を
形成する。この原盤からニッケルメッキまだは銅メッキ
によってマスター、マザー、スタンパ−を順次作製する
。そしてスタンパ−を金４．（２としてｊ！Ｚ ’Ｉｔ
性カーボン粒子を成形用ａ↓成物に分散させたものを圧
縮成形して静電８景方式の記録盤を製造するようにして
いる。
ォトレジストを塗布したガラス原盤に記録信号、トラッ
キング信号を凹凸形状にレーザーヒームで記録し原盤を
形成する。この原盤からニッケルメッキまだは銅メッキ
によってマスター、マザー、スタンパ−を順次作製する
。そしてスタンパ−を金４．（２としてｊ！Ｚ ’Ｉｔ
性カーボン粒子を成形用ａ↓成物に分散させたものを圧
縮成形して静電８景方式の記録盤を製造するようにして
いる。
ところで、導電性カーホンを分散させた該成形用組成物
中には、取金、１、！六カーホン粒子停の研摩付粒子が
含すれており、前記スタノパーを用いて圧縮成形を行な
うと、この１υｆ／’Ｊ性わｌ子によりスタンパ−表面
に傷が生じ、この傷が次の記録盤上に転写されて、記録
盤の再生中に不都合な電子的欠陥を生ずるという問題が
ある。この問題を解決するために通常はスタンパ−表面
にＣ１，］ （／７１１１）以下の硬質クロムメッキを
施し、該表面を保歳するようにしている。また特開昭５
６−３４４３０においてはり０ムを含む薄膜を母型表面
の凹凸を正確に転写しているスタンパ−表面に被着する
ことによりスタンパ−の耐傷性を向上させるという提業
がｆよさノ１゜ている。
中には、取金、１、！六カーホン粒子停の研摩付粒子が
含すれており、前記スタノパーを用いて圧縮成形を行な
うと、この１υｆ／’Ｊ性わｌ子によりスタンパ−表面
に傷が生じ、この傷が次の記録盤上に転写されて、記録
盤の再生中に不都合な電子的欠陥を生ずるという問題が
ある。この問題を解決するために通常はスタンパ−表面
にＣ１，］ （／７１１１）以下の硬質クロムメッキを
施し、該表面を保歳するようにしている。また特開昭５
６−３４４３０においてはり０ムを含む薄膜を母型表面
の凹凸を正確に転写しているスタンパ−表面に被着する
ことによりスタンパ−の耐傷性を向上させるという提業
がｆよさノ１゜ている。
しかし、母型表面の凹凸を正確に転写しているスタンパ
−表面に硬質膜を被着すると、信号の正確な転写が著し
く妨げられデユーティ−比等の特性が低下する。さらに
、０．１（μｍ）以下の硬質クロムメッキ厚さでは十分
な硬度を得ることができなＧ）。
−表面に硬質膜を被着すると、信号の正確な転写が著し
く妨げられデユーティ−比等の特性が低下する。さらに
、０．１（μｍ）以下の硬質クロムメッキ厚さでは十分
な硬度を得ることができなＧ）。
そこで、特開昭４９−１０３８４６では硬質合金メッキ
膜を、また特開昭５０−２３４５３ではニッケル棚床合
金メッキ膜を、それぞれ母型表面に形成した後、該合金
メッキ膜上に電鋳により金型本体を肉づけし、該合金メ
ッキ膜と母型との間で剥離することにより金型を製造す
る方法が提案されている。
膜を、また特開昭５０−２３４５３ではニッケル棚床合
金メッキ膜を、それぞれ母型表面に形成した後、該合金
メッキ膜上に電鋳により金型本体を肉づけし、該合金メ
ッキ膜と母型との間で剥離することにより金型を製造す
る方法が提案されている。
しかし、とれらの方法で得られるスタンパ−表面、すな
わち合金膜は成形用組成物中に含すれる安定剤による汚
染を受は易いという欠点を有する。
わち合金膜は成形用組成物中に含すれる安定剤による汚
染を受は易いという欠点を有する。
このため信号の転写性を損ねることなくスタンパ−表面
の硬度を大きくする方法の実現が望まれている。まだ、
この方法の確立はビデオディスクのスタンパ−に限らず
表面硬化を必要とする他の精密成形用金型の製造分野で
も強く要求されている。
の硬度を大きくする方法の実現が望まれている。まだ、
この方法の確立はビデオディスクのスタンパ−に限らず
表面硬化を必要とする他の精密成形用金型の製造分野で
も強く要求されている。
不発明は上ｉ己欠点を解決するために成さｉｚだもので
、精密成形用金型表面の凹凸が、母型上の凹凸を忠実に
転写し、しかもその表面硬度を犬ならしめる精密成形用
金型の製造方法を提供することを目的とするものである
。
、精密成形用金型表面の凹凸が、母型上の凹凸を忠実に
転写し、しかもその表面硬度を犬ならしめる精密成形用
金型の製造方法を提供することを目的とするものである
。
不発明は母型に形成されているビット部分の幅をＡ、ビ
ット間の幅をＢとするとき、母型に硬質クロメツキ膜を
厚さＣだけ被着し、次いで該硬質クロムメッキ膜上へ電
鋳によりスタンパ−を厚く被着し、該スクンパーを前記
硬質クロムメッキｊ模より剥離した後、該スタンパ−の
転写面側へ硬質クロムメッキ膜を厚ざＣだけ被着して母
型のビット部分に対する突起部の幅をＡ１母型のピット
間に相当する部分の幅をＢとすることを特徴としている
。
ット間の幅をＢとするとき、母型に硬質クロメツキ膜を
厚さＣだけ被着し、次いで該硬質クロムメッキ膜上へ電
鋳によりスタンパ−を厚く被着し、該スクンパーを前記
硬質クロムメッキｊ模より剥離した後、該スタンパ−の
転写面側へ硬質クロムメッキ膜を厚ざＣだけ被着して母
型のビット部分に対する突起部の幅をＡ１母型のピット
間に相当する部分の幅をＢとすることを特徴としている
。
この発明によれば、母型ｌの表面（凹凸のそれぞれの幅
Ａ、Ｂを正確に転写し、しかも表面硬度をニッケルメッ
キまたは銅メッキ力）ら成るスタンパ−の場合よりも高
めることができる。このためビデオディスク用のスタン
パ−の製造に不発明を適用した場合、成形用組成物中の
研厚性粒子による掻傷の発生を抑えることが可能となり
、また転写性も損なわずに済む。従来は、母型表面の凹
凸を忠実に転写したスタンパ−向上に硬質クロムメッキ
等の硬質膜を形成しているため、硬質膜の厚さ分だけデ
ユーティ−比が変化してし菫うという欠点があったが、
本発明によればこの問題を解決できる。また、硬質クロ
ムメッキ膜は、成形用組成物中に含抜れる安定剤による
汚染を受けにくい。
Ａ、Ｂを正確に転写し、しかも表面硬度をニッケルメッ
キまたは銅メッキ力）ら成るスタンパ−の場合よりも高
めることができる。このためビデオディスク用のスタン
パ−の製造に不発明を適用した場合、成形用組成物中の
研厚性粒子による掻傷の発生を抑えることが可能となり
、また転写性も損なわずに済む。従来は、母型表面の凹
凸を忠実に転写したスタンパ−向上に硬質クロムメッキ
等の硬質膜を形成しているため、硬質膜の厚さ分だけデ
ユーティ−比が変化してし菫うという欠点があったが、
本発明によればこの問題を解決できる。また、硬質クロ
ムメッキ膜は、成形用組成物中に含抜れる安定剤による
汚染を受けにくい。
従って、以上の点からスタンパ−の寿命を著しく延ばす
ことができる。
ことができる。
また、不発明では技術的に確立された硬質クロムメッキ
装置を使用するので、条件出しが容易である。しかも転
写を目的とする通常の電鋳工程ではムクロム敵カリウム
等による剥離皮膜処理が必要であるのに対し、クロムメ
ッキ而にニッケルメッキあるいは銅メッキを施した場合
には剥離性が良いため、本発明による電鋳工程では特に
剥Ｒ「皮膜処理をせずに済み、実施に際しての有用性が
高い０ 〔発明の実施例〕 以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
装置を使用するので、条件出しが容易である。しかも転
写を目的とする通常の電鋳工程ではムクロム敵カリウム
等による剥離皮膜処理が必要であるのに対し、クロムメ
ッキ而にニッケルメッキあるいは銅メッキを施した場合
には剥離性が良いため、本発明による電鋳工程では特に
剥Ｒ「皮膜処理をせずに済み、実施に際しての有用性が
高い０ 〔発明の実施例〕 以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第１図乃至第５図は本発明に従って、母型７Ｉ）ら転写
により謂苫成形用金型を製造する工程を呈す断面図であ
る。まず、第１図のように、トラソ＋ングカ回のビンへ
幅がＡ１ビット間の幅がＢである断面形状のニッケルマ
ザーの転写面に丁ｄ己組成のメッキ浴を用いて、温度あ
〔℃バ旭流密１ｆＪ５（Ａ／ｄｍ”Ｊ 、アノード：ア
ンチモン宮市゛鉛の榮件ドで第２図に示すようにクロム
メッキ膜２を厚さＣ（０，３≠））だけ形成した。
により謂苫成形用金型を製造する工程を呈す断面図であ
る。まず、第１図のように、トラソ＋ングカ回のビンへ
幅がＡ１ビット間の幅がＢである断面形状のニッケルマ
ザーの転写面に丁ｄ己組成のメッキ浴を用いて、温度あ
〔℃バ旭流密１ｆＪ５（Ａ／ｄｍ”Ｊ 、アノード：ア
ンチモン宮市゛鉛の榮件ドで第２図に示すようにクロム
メッキ膜２を厚さＣ（０，３≠））だけ形成した。
クロムメソ＋浴組成：
仄いで、第３図に示すように該クロムメッキ膜２の上に
、下記組成のメッキ浴を用いて、温度５０じＣ〕、電流
密１及７（Ａ／ｄｌ＋＋’） 、ＰＨ４の条件でスルフ
ァミン酸−ソゲルメッキを施し、所要厚さのニノウ゛ル
スクノバー３を形成した。
、下記組成のメッキ浴を用いて、温度５０じＣ〕、電流
密１及７（Ａ／ｄｌ＋＋’） 、ＰＨ４の条件でスルフ
ァミン酸−ソゲルメッキを施し、所要厚さのニノウ゛ル
スクノバー３を形成した。
スルファミノ酸ニッケルメッキ浴：
ニッケルスタンパ−３の形成が終”つた淡、クロムメッ
キ膜２とニッケルスタンパ−３の間で剥離を行ない、第
４図に示すスタンパ−３をｉ４）る。さら（ｌこ、第５
図に示すように該ニッケルスタンパ−３の転写向上に、
下記組成の硬質クロムメッキ浴を用いて、温度／ＩＱ
（℃〕、ｉ亀流密度加（Ａ／ｄイ〕、アノード：アンチ
七ン宮有鉛の条件の下で硬質クロムメッキ膜４を厚さＣ
だけ被着することにより、スタンパ−５を作製した。
キ膜２とニッケルスタンパ−３の間で剥離を行ない、第
４図に示すスタンパ−３をｉ４）る。さら（ｌこ、第５
図に示すように該ニッケルスタンパ−３の転写向上に、
下記組成の硬質クロムメッキ浴を用いて、温度／ＩＱ
（℃〕、ｉ亀流密度加（Ａ／ｄイ〕、アノード：アンチ
七ン宮有鉛の条件の下で硬質クロムメッキ膜４を厚さＣ
だけ被着することにより、スタンパ−５を作製した。
硬質クロムメッキ浴組成二
尚、本実施例においては、中心から半径１ｏｏｃ＋ｘｉ
）でＡ ＝ ０．６ （μ）、ｎ＝Ｑ、５（μ〕となる
ように記録を調整した。以上のようにして作製したスタ
ンパ−５から、塩ビ酢ビ共重合体ｉｏｏ重址部と、ジブ
チルスズラウレート４重量部およびカーボンブラック加
屯量部よりなる記録媒体を圧縮成形して谷１−ｊ、変換
型の情報記録盤を得た。その時の傷発生によるライフお
よび硬質クロム厚さを表１に示した。また、比較例１と
して、マザー１の転写面にＪクロム酸カリウム０．１〔
チ〕 溶液による剥離皮膜処、Ｌｊｌｌを施し、この而
に対して先と同条件でスルファミン酸ニッケル浴中でニ
ッケルメッキを行ないニッケル’ｔｕ、 ｕ層を形成し
た後、これをマザー１より剥離してスタンパ−とした。
）でＡ ＝ ０．６ （μ）、ｎ＝Ｑ、５（μ〕となる
ように記録を調整した。以上のようにして作製したスタ
ンパ−５から、塩ビ酢ビ共重合体ｉｏｏ重址部と、ジブ
チルスズラウレート４重量部およびカーボンブラック加
屯量部よりなる記録媒体を圧縮成形して谷１−ｊ、変換
型の情報記録盤を得た。その時の傷発生によるライフお
よび硬質クロム厚さを表１に示した。また、比較例１と
して、マザー１の転写面にＪクロム酸カリウム０．１〔
チ〕 溶液による剥離皮膜処、Ｌｊｌｌを施し、この而
に対して先と同条件でスルファミン酸ニッケル浴中でニ
ッケルメッキを行ないニッケル’ｔｕ、 ｕ層を形成し
た後、これをマザー１より剥離してスタンパ−とした。
比較例２として、比較１＋ｌｌ ｌで得たスタンパ−を
下記組成のメッキ浴に浸漬し１．晶度５０（’Ｏ）、電
流密度３０（Ａ／ｄぜ〕の条件でクロＪ・メッキを行な
った。
下記組成のメッキ浴に浸漬し１．晶度５０（’Ｏ）、電
流密度３０（Ａ／ｄぜ〕の条件でクロＪ・メッキを行な
った。
クロムメッキ浴組成：
比較例１１比較例２で得られたスタンパ−を用いて、実
施例の場合と同組成の成形用組成物を圧縮成形して谷量
変換型の情報記録盤を作製したときの、傷発生によるラ
イフおよびクロム厚さを表１に示した。
施例の場合と同組成の成形用組成物を圧縮成形して谷量
変換型の情報記録盤を作製したときの、傷発生によるラ
イフおよびクロム厚さを表１に示した。
表１より、比較例１に対して実施例、比較例２ともスタ
ンパ−ライフが向上しているのが認められる。
ンパ−ライフが向上しているのが認められる。
さらに、実施例、比較例１．比較例２で得られたスタン
パ−における中心から半径１００ （鼎〕（７）位置で
のデユーティ−比の測定値を表２に示した０（以下余白
） 表 ２ デユーティ−比はニッケルスタンバ−表面へ、さらにク
ロムメッキ膜を施した比較例２で高くなっていることが
判る。実施例、比較例１は５０〔％）に近い値を示して
おり、記録転写性に優れている。
パ−における中心から半径１００ （鼎〕（７）位置で
のデユーティ−比の測定値を表２に示した０（以下余白
） 表 ２ デユーティ−比はニッケルスタンバ−表面へ、さらにク
ロムメッキ膜を施した比較例２で高くなっていることが
判る。実施例、比較例１は５０〔％）に近い値を示して
おり、記録転写性に優れている。
このように、本実施例の方法によれば、記録転写性から
生じる信号再生特性を低下さぜることなくスタンパ−の
表面硬度を上昇させ、ライフを向上させることが可能と
なる。
生じる信号再生特性を低下さぜることなくスタンパ−の
表面硬度を上昇させ、ライフを向上させることが可能と
なる。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
種々に変形して実施することが可能である。例えば、硬
質クロムメッキ膜の厚さは適宜変更できるが、ビット部
を著しくクロムによって埋めない程度の厚さ０．２５〜
０．３５ （７１）できることが望ましい。また、本発
明による方法は、ビデオディ □スフに限らず、
表面の硬化を必要とし、しかも転写性精度を要求とする
各種の精密成形用金型の製造に適用できる。
種々に変形して実施することが可能である。例えば、硬
質クロムメッキ膜の厚さは適宜変更できるが、ビット部
を著しくクロムによって埋めない程度の厚さ０．２５〜
０．３５ （７１）できることが望ましい。また、本発
明による方法は、ビデオディ □スフに限らず、
表面の硬化を必要とし、しかも転写性精度を要求とする
各種の精密成形用金型の製造に適用できる。
第１図乃至第５図はそれぞれ、本発明になるスパンバー
製造工程の断面図である。 ｌ・・・マザー、 ２・・・クロムメッキ膜、
３・・・ニッケル電鋳層、４・・・硬質クロムメッキ膜
、５・・・スタンパ−０ Ａ・・・ビットの幅、 Ｂ・・・ビット間の幅、Ｃ
・・・クロムメッキ膜厚。 代理人弁理士 則近憲佑（ばか１名） 第 １ 図 第 ２ 因 第 ３ 図 第 ４ 図 第５図
製造工程の断面図である。 ｌ・・・マザー、 ２・・・クロムメッキ膜、
３・・・ニッケル電鋳層、４・・・硬質クロムメッキ膜
、５・・・スタンパ−０ Ａ・・・ビットの幅、 Ｂ・・・ビット間の幅、Ｃ
・・・クロムメッキ膜厚。 代理人弁理士 則近憲佑（ばか１名） 第 １ 図 第 ２ 因 第 ３ 図 第 ４ 図 第５図
Claims (1)
- 転写により金型を製造するに際し、母型表向に所定の膜
厚で硬質クロムメッキ膜を被着し、次いで該硬質クロム
メッキ膜上に電鋳にて金属体を被着した後、前記金属体
を該硬質クロムメッキ膜より剥離し、次に前記金属体の
転写面Ｉｌｕへ硬質クロムメッキを前記母型表面に被着
した硬質クロムメッキ膜と等しい膜厚で施すことを特数
とする〃金型表面に硬質膜を有する精密成形用金型の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16221582A JPS5953690A (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | 精密成形用金型の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16221582A JPS5953690A (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | 精密成形用金型の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5953690A true JPS5953690A (ja) | 1984-03-28 |
Family
ID=15750150
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16221582A Pending JPS5953690A (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | 精密成形用金型の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5953690A (ja) |
-
1982
- 1982-09-20 JP JP16221582A patent/JPS5953690A/ja active Pending
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