JPS5921083A - 炭酸ガス・レ−ザ− - Google Patents
炭酸ガス・レ−ザ−Info
- Publication number
- JPS5921083A JPS5921083A JP12016683A JP12016683A JPS5921083A JP S5921083 A JPS5921083 A JP S5921083A JP 12016683 A JP12016683 A JP 12016683A JP 12016683 A JP12016683 A JP 12016683A JP S5921083 A JPS5921083 A JP S5921083A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- laser
- container
- enclosure
- gain medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 16
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 title description 8
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 title description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 51
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 6
- 230000035939 shock Effects 0.000 claims description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 13
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 9
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 5
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 3
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(I) oxide Inorganic materials [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N cuprous oxide Chemical compound [O-2].[Cu+].[Cu+] KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940112669 cuprous oxide Drugs 0.000 description 2
- 230000002939 deleterious effect Effects 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、レーザー装置に関し、更に詳細には、レーザ
ー包囲体内に存在する強い電界から触媒粉末を絶縁し、
レーザー利得媒体を励起するのに使用される一対の電極
間の放電によって生じる衝撃波から触媒媒体を保護する
と同時に、利得媒体が触媒と充分に接触し得る触媒容器
を備えたレーザー装置に関する。
ー包囲体内に存在する強い電界から触媒粉末を絶縁し、
レーザー利得媒体を励起するのに使用される一対の電極
間の放電によって生じる衝撃波から触媒媒体を保護する
と同時に、利得媒体が触媒と充分に接触し得る触媒容器
を備えたレーザー装置に関する。
ＣＯ２レーザーの能動媒体は二酸化炭素、窒素、ヘリウ
ムのガス混合体、時にはその他のガス、例えば一酸化炭
素又はキセノンを混合したガスである。ガスの中で電気
放電が生じると、能動媒体を励起して、そのいくつかの
成分は解離する。特にＣＯ２はＣＯと酸素に解離する。
ムのガス混合体、時にはその他のガス、例えば一酸化炭
素又はキセノンを混合したガスである。ガスの中で電気
放電が生じると、能動媒体を励起して、そのいくつかの
成分は解離する。特にＣＯ２はＣＯと酸素に解離する。
このガスの解離によって能動媒体の体積が減少してしま
い、これが封市ＣＯ２レーザーの故障の主要原因となる
。
い、これが封市ＣＯ２レーザーの故障の主要原因となる
。
ガスの解離の有害な影響を軽減する試みが、例えば、大
量のガスを貯えて使用したり、解離した成分の触媒作用
を利用したりして行なわれた。
量のガスを貯えて使用したり、解離した成分の触媒作用
を利用したりして行なわれた。
ＣＯ２レーザーにおいて最も使用される技術は、解離し
た成分の再結合を促進させるために触媒を使用する。一
酸化炭素及び酸素は室温では再結合しないが、ある条件
の下である触媒が存在すると再結合する。白金は良く知
られた触媒であるが、密封したＣＯ２レーザーには適さ
ない程上昇した温度でレーザーを動作させる必要がある
。市販されている酸化マンガン（ＭｎＯ２）と酸化第一
銅との混合、例えばホプカライト（Ｈｏｐｃａｌｉｔｅ
）が触媒として使用されることがある。その最大の問題
は、触媒粉末がレーザー包囲体全体に分散してしーザー
の効率を低下させてしまうことで、特に触媒粉末の一部
が光学系の上に堆積すると問題である。
た成分の再結合を促進させるために触媒を使用する。一
酸化炭素及び酸素は室温では再結合しないが、ある条件
の下である触媒が存在すると再結合する。白金は良く知
られた触媒であるが、密封したＣＯ２レーザーには適さ
ない程上昇した温度でレーザーを動作させる必要がある
。市販されている酸化マンガン（ＭｎＯ２）と酸化第一
銅との混合、例えばホプカライト（Ｈｏｐｃａｌｉｔｅ
）が触媒として使用されることがある。その最大の問題
は、触媒粉末がレーザー包囲体全体に分散してしーザー
の効率を低下させてしまうことで、特に触媒粉末の一部
が光学系の上に堆積すると問題である。
１９７８年６月のＡｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔｅｒｓ
３２（１１）に掲載されたＲ．Ｂ．Ｇｉｂｓｏｎ等の
「ＳｅａｌｅｄＭｕｌｔｉａｔｍｏｓｐｈｅｒｅ ＣＯ
２ＴＥＡ レーザー：Ｓｅｅｄ−Ｇａｓ ｃｏｍｐａｔ
ｉｂｌｅ ｓｙｓｔｅｍ ｕｓｉｎｇ ｕｎｈｅａｔｅ
ｄｏｘｉｄｅ ｃａｔａｌｙｓｔ」には、触媒粉末を主
要レーザー包囲体の外側に閉じ込めて、触媒粉末を通過
したガスを循環するように送り込む必要のあるレーザー
装置が示される。
３２（１１）に掲載されたＲ．Ｂ．Ｇｉｂｓｏｎ等の
「ＳｅａｌｅｄＭｕｌｔｉａｔｍｏｓｐｈｅｒｅ ＣＯ
２ＴＥＡ レーザー：Ｓｅｅｄ−Ｇａｓ ｃｏｍｐａｔ
ｉｂｌｅ ｓｙｓｔｅｍ ｕｓｉｎｇ ｕｎｈｅａｔｅ
ｄｏｘｉｄｅ ｃａｔａｌｙｓｔ」には、触媒粉末を主
要レーザー包囲体の外側に閉じ込めて、触媒粉末を通過
したガスを循環するように送り込む必要のあるレーザー
装置が示される。
本発明は、レーザー包囲体内に存在する強い電界から触
媒粉末を絶縁し、レーザー利得媒体を励起するのに使用
される一対の電極間の放電によって生じる衝撃波から触
媒を保獲すると同時に、利得媒体が触媒と充分に接触し
得る触媒容器を提供する。その容器は導電性の固体ハウ
ジングと利得媒体に対しては透過性を内部の触媒に対し
ては不透過を示す伝導性カバーとから形成される。容器
は放電領域に近接する領域にある主レーザー包囲体内に
配置されて、放電によって形成される解離成分と触媒と
が充分に接触するようにされる。より望ましくは、容器
は電極の１つと接触した状態にある。このような構成に
よって、放電によって電極に発生される熱が容器を介し
て触媒に伝達され、再結合速度を上昇させる。
媒粉末を絶縁し、レーザー利得媒体を励起するのに使用
される一対の電極間の放電によって生じる衝撃波から触
媒を保獲すると同時に、利得媒体が触媒と充分に接触し
得る触媒容器を提供する。その容器は導電性の固体ハウ
ジングと利得媒体に対しては透過性を内部の触媒に対し
ては不透過を示す伝導性カバーとから形成される。容器
は放電領域に近接する領域にある主レーザー包囲体内に
配置されて、放電によって形成される解離成分と触媒と
が充分に接触するようにされる。より望ましくは、容器
は電極の１つと接触した状態にある。このような構成に
よって、放電によって電極に発生される熱が容器を介し
て触媒に伝達され、再結合速度を上昇させる。
本発明を以下実施例に従って詳細に説明する。
第１Ａ〜１Ｃ図を参照すると、封鎖型ＣＯ２横方向電界
大気圧（ＴＥＡ）レーザー１０が示される。包囲体１２
は、利得媒体１３と２つの主電極１４及び１６を収容す
るのに使用される。電極１４は包囲体１２の一方の壁に
取り句けられ、そこからネジ２０及びスペーサ１８によ
って離される。電極１６は包囲体１２の反対側の壁にネ
ジ２０によって取り付けられその壁からスペーサ２２及
び触媒容器４０によって離される。スペーサ１８の相対
的大きさ、スペーサ２２及び触媒容器４０の大きさは、
電極１４と１６の間隔を規定し、特定の応用における条
件に適合するように所定の間隔に選定される。触媒容器
４０は樋状ハウジング２６とエンド・カバー２８とから
形成される。ハウジング２６は固体導電性材料。例えば
アルミニウムから作られ、カバー２８は所定の大きさの
開口を有する導電性材料、例えば所定の大きさのメッシ
ュを有するステンレス鋼スクリーンから作られる。
大気圧（ＴＥＡ）レーザー１０が示される。包囲体１２
は、利得媒体１３と２つの主電極１４及び１６を収容す
るのに使用される。電極１４は包囲体１２の一方の壁に
取り句けられ、そこからネジ２０及びスペーサ１８によ
って離される。電極１６は包囲体１２の反対側の壁にネ
ジ２０によって取り付けられその壁からスペーサ２２及
び触媒容器４０によって離される。スペーサ１８の相対
的大きさ、スペーサ２２及び触媒容器４０の大きさは、
電極１４と１６の間隔を規定し、特定の応用における条
件に適合するように所定の間隔に選定される。触媒容器
４０は樋状ハウジング２６とエンド・カバー２８とから
形成される。ハウジング２６は固体導電性材料。例えば
アルミニウムから作られ、カバー２８は所定の大きさの
開口を有する導電性材料、例えば所定の大きさのメッシ
ュを有するステンレス鋼スクリーンから作られる。
カバー２８の機能は後述するが、ここでは、カバー２８
は利得媒体１３又はその成分がそこを自由に通過でき、
触媒に対してはその最小粒子でさえも容器から外に通過
しないようにすることを述べるにとどめる。触媒容器４
０は、ハウジング２６のベースを一方の電極の裏面に固
定し、また、ハウジング２６の縁、カバー２８及びスペ
ーサ２２にも固定することによって、レーザー包囲体１
２の内部に組立てられる。これは、例えば、レーザー包
囲体１２、ハウジング２６、カバー２８及び電極１６の
対応する孔にネジ２０でしめることによって完成する。
は利得媒体１３又はその成分がそこを自由に通過でき、
触媒に対してはその最小粒子でさえも容器から外に通過
しないようにすることを述べるにとどめる。触媒容器４
０は、ハウジング２６のベースを一方の電極の裏面に固
定し、また、ハウジング２６の縁、カバー２８及びスペ
ーサ２２にも固定することによって、レーザー包囲体１
２の内部に組立てられる。これは、例えば、レーザー包
囲体１２、ハウジング２６、カバー２８及び電極１６の
対応する孔にネジ２０でしめることによって完成する。
スペーサ２４は、カバー２８とハウジング２６の内側表
面との間に堅固性を加え、容器４０の内容物をネジ孔か
ら封止するために使用される。スペーサ２２はカバー２
８と包囲体１２の壁との間に使用され、利得媒体１３が
カバー２８を通過して循環できるように充分な体積即ち
空間を維持する。酸化マンガン及び酸化第一銅の混合、
例えばホプカライトが触媒として使用される。この触媒
は固まっていない粉末状でも適当な大きさのペレットに
固めたものでもよい。触媒容器４０及び電極１６は利得
媒体が循環して容器４０のカバー２８に接触し得るよう
にする。容器４０の力バー２８は触媒粉末が通過せず利
得媒体が透過するようなメッシュ・サイズを有する。こ
うして、利得媒体１３はカバー２８に入り込み触媒粉末
３０と接触できるが、触媒粉末３０の最も小さい粒子で
もカバー２８を通過できず、利得媒体１３の中に入れず
、レーザーの精緻な光学素子の上に粒子が堆積すること
がない。典型的には、４０マイクロメータのメッシュ・
サイズが使用される。
面との間に堅固性を加え、容器４０の内容物をネジ孔か
ら封止するために使用される。スペーサ２２はカバー２
８と包囲体１２の壁との間に使用され、利得媒体１３が
カバー２８を通過して循環できるように充分な体積即ち
空間を維持する。酸化マンガン及び酸化第一銅の混合、
例えばホプカライトが触媒として使用される。この触媒
は固まっていない粉末状でも適当な大きさのペレットに
固めたものでもよい。触媒容器４０及び電極１６は利得
媒体が循環して容器４０のカバー２８に接触し得るよう
にする。容器４０の力バー２８は触媒粉末が通過せず利
得媒体が透過するようなメッシュ・サイズを有する。こ
うして、利得媒体１３はカバー２８に入り込み触媒粉末
３０と接触できるが、触媒粉末３０の最も小さい粒子で
もカバー２８を通過できず、利得媒体１３の中に入れず
、レーザーの精緻な光学素子の上に粒子が堆積すること
がない。典型的には、４０マイクロメータのメッシュ・
サイズが使用される。
電極１４と１６との間の放電を生じさせるために放電制
御装置６０が設けられて利得媒体１３が励起され、レー
ザー・パルスが発生される。共振器モードで使用される
ときは、全反射ミラー５０が包囲体１２の一方の端のレ
ーザー１０の光学軸上に配置され、部分的に透過性のミ
ラー５２が包囲体１２の反対側の光学軸上に配置される
。別の応用例では、ミラー５０及び５２が光学的出力窓
で置換され、その面が光学軸に対してブルースター角で
配置され、出力レーザー・パルスの極性が周知の如く制
御される。
御装置６０が設けられて利得媒体１３が励起され、レー
ザー・パルスが発生される。共振器モードで使用される
ときは、全反射ミラー５０が包囲体１２の一方の端のレ
ーザー１０の光学軸上に配置され、部分的に透過性のミ
ラー５２が包囲体１２の反対側の光学軸上に配置される
。別の応用例では、ミラー５０及び５２が光学的出力窓
で置換され、その面が光学軸に対してブルースター角で
配置され、出力レーザー・パルスの極性が周知の如く制
御される。
レーザーの作動中、強い電界が存在すると触媒ペレット
３０は細分化され、触媒粉末に分散効果が生じる。これ
によってレーザーの動作は減勢され、特に粉末がレーザ
ー包囲体１２内の光学素子に堆積されると低下が著しい
。電極１４及び１６間に生じる電気放電は、前述したよ
うな有害な影響を触媒に与える衝撃波を発生する。ハウ
ジング２６及びカバー２８は、ときどきファラデー・ケ
ージと呼ばれる導電性のかごを形成し、レーザー包囲体
内に存在する強い電界の分散効果から触媒３０を保護す
ることが分った。容器４０は、また、主電極１４及び１
６間の放電によって生じる衝撃波から触媒３０を保護し
、容器４０内の触媒粒子の量が減少するのを防止する。
３０は細分化され、触媒粉末に分散効果が生じる。これ
によってレーザーの動作は減勢され、特に粉末がレーザ
ー包囲体１２内の光学素子に堆積されると低下が著しい
。電極１４及び１６間に生じる電気放電は、前述したよ
うな有害な影響を触媒に与える衝撃波を発生する。ハウ
ジング２６及びカバー２８は、ときどきファラデー・ケ
ージと呼ばれる導電性のかごを形成し、レーザー包囲体
内に存在する強い電界の分散効果から触媒３０を保護す
ることが分った。容器４０は、また、主電極１４及び１
６間の放電によって生じる衝撃波から触媒３０を保護し
、容器４０内の触媒粒子の量が減少するのを防止する。
主要電極１４及び１６間の放電によって生じるガスの乱
流は、放電領域に近接して配置されたとき利得媒体１３
と触媒３０との適切な接触をもたらすのに充分であるこ
とが理解できる。包囲体１２の側壁の１つと電極１６と
の間に延びる容器４０の位置は、また、容器４０を取り
付けるのが簡単であるという利点を有する。ネジ２０及
びスペーサ２２及び２４を使用することによって、容器
４０を強固にそして確実に取り付けることができる。
流は、放電領域に近接して配置されたとき利得媒体１３
と触媒３０との適切な接触をもたらすのに充分であるこ
とが理解できる。包囲体１２の側壁の１つと電極１６と
の間に延びる容器４０の位置は、また、容器４０を取り
付けるのが簡単であるという利点を有する。ネジ２０及
びスペーサ２２及び２４を使用することによって、容器
４０を強固にそして確実に取り付けることができる。
放電制御装置６０は、電極１４と１６との間の放電に対
してエネルギを与え、その反復速度を選択的に制御する
。電気放電の反復速度はレーザー包囲体内の温度を決定
する変数の１つである。触媒粉末のＭｎＯ成分は、レー
ザーの低反復速度動作の間に生じる低い温度範囲でより
有効となり、ＣｕＯ成分は高反復速度動作の間に生じる
高い温度範囲でより有効となる。それが結合して、より
広い温世範囲に亘って解離したガスの触媒作用を有効に
し、パルス反復周波数の選択にいくらか自由度を与える
。反作用波数は、また、放電によるガス解離速度が触媒
による再結合速度を超えることができないという事実に
よって制限される。
してエネルギを与え、その反復速度を選択的に制御する
。電気放電の反復速度はレーザー包囲体内の温度を決定
する変数の１つである。触媒粉末のＭｎＯ成分は、レー
ザーの低反復速度動作の間に生じる低い温度範囲でより
有効となり、ＣｕＯ成分は高反復速度動作の間に生じる
高い温度範囲でより有効となる。それが結合して、より
広い温世範囲に亘って解離したガスの触媒作用を有効に
し、パルス反復周波数の選択にいくらか自由度を与える
。反作用波数は、また、放電によるガス解離速度が触媒
による再結合速度を超えることができないという事実に
よって制限される。
第１Ａ図及び第１Ｂ図に示すように、触媒容器４０は電
極１６と接触している。この配置によって電極１６から
の熱が容器４０に伝達され、そして次に触媒３０に伝わ
る。これによって触媒３０の温度は上昇し、触媒が再結
合速度に効力を発する。電極１４と１６との間の放電は
電極に熱を発生する。もし直流放電が使用されるとする
と、カソードかアノードよりも多く熱を発生する。そし
て最大再結合速度を達成するため、第１Ａ図に示す電極
１６のように触媒容器４０はカソードと接触しなければ
ならない。直流放電でない場合には、容器４０の位置は
、電極の一方に有効な熱結合がされていれば、即ち、熱
伝導によってそれ程問題ではない。
極１６と接触している。この配置によって電極１６から
の熱が容器４０に伝達され、そして次に触媒３０に伝わ
る。これによって触媒３０の温度は上昇し、触媒が再結
合速度に効力を発する。電極１４と１６との間の放電は
電極に熱を発生する。もし直流放電が使用されるとする
と、カソードかアノードよりも多く熱を発生する。そし
て最大再結合速度を達成するため、第１Ａ図に示す電極
１６のように触媒容器４０はカソードと接触しなければ
ならない。直流放電でない場合には、容器４０の位置は
、電極の一方に有効な熱結合がされていれば、即ち、熱
伝導によってそれ程問題ではない。
本発明の実施例に対し、各種の変更が本発明の範囲内に
おいて可能であることは当業者には明らかである。例え
ば、容器４０の実際の位置と特定形状は特定の包囲体に
合うように変更することができる。容器４０はほぼ放電
領域において一方の電極に熱的に結合していればよい。
おいて可能であることは当業者には明らかである。例え
ば、容器４０の実際の位置と特定形状は特定の包囲体に
合うように変更することができる。容器４０はほぼ放電
領域において一方の電極に熱的に結合していればよい。
従って、本発明は前述した実施例に限定されるものでは
ない。
ない。
第１Ａ図は本発明の一実施例のレーザー装置の断面図で
ある。 第１Ｂ図は第１Ａ図の線１Ｂ−１Ｂに浴った断面図であ
る。 第１Ｃ図は第１Ａ図に示す実施例に使用される触媒容器
の上面図である。 （符号説明） １２：包囲体 １３：利得媒体１４、１６：電
極 ８、２２：スペーサ３０：触媒 ４
０：容器 ６０：放電制御装置 特許出願人 レイセオン・カンパニー 代理人 弁理士 湯浅恭三 （外４名）
ある。 第１Ｂ図は第１Ａ図の線１Ｂ−１Ｂに浴った断面図であ
る。 第１Ｃ図は第１Ａ図に示す実施例に使用される触媒容器
の上面図である。 （符号説明） １２：包囲体 １３：利得媒体１４、１６：電
極 ８、２２：スペーサ３０：触媒 ４
０：容器 ６０：放電制御装置 特許出願人 レイセオン・カンパニー 代理人 弁理士 湯浅恭三 （外４名）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 利得媒体と、 前記利得媒体を取りまく密封されたレーザー包囲体と、 前記包囲体内に配置される触媒と、 前記レーザー包囲体内に生じる電界及び衝撃波から前記
触媒を保護する装置であって、その表面の少なくとも一
部が前記利得媒体を透過し前記触媒を通過させない導電
性容器から成る装置と、から構成されるレーザー装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US39458382A | 1982-07-02 | 1982-07-02 | |
| US394583 | 1982-07-02 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5921083A true JPS5921083A (ja) | 1984-02-02 |
Family
ID=23559567
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12016683A Pending JPS5921083A (ja) | 1982-07-02 | 1983-07-01 | 炭酸ガス・レ−ザ− |
| JP3554491U Granted JPH04125465U (ja) | 1982-07-02 | 1991-05-20 | 炭酸ガス・レーザー |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3554491U Granted JPH04125465U (ja) | 1982-07-02 | 1991-05-20 | 炭酸ガス・レーザー |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JPS5921083A (ja) |
| DE (1) | DE3323856A1 (ja) |
| FR (1) | FR2529721B1 (ja) |
| GB (1) | GB2123206B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63116612A (ja) * | 1986-11-04 | 1988-05-20 | 高千穂化学工業株式会社 | 移動脱穀機 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3443539A1 (de) * | 1984-11-29 | 1986-06-05 | Eltro GmbH, Gesellschaft für Strahlungstechnik, 6900 Heidelberg | Verfahren und vorrichtung zum betreiben eines elektrisch angeregten gaslasers |
| US5043997A (en) * | 1985-05-03 | 1991-08-27 | Raytheon Company | Hybrid cathode |
| US4740985A (en) * | 1986-12-31 | 1988-04-26 | Honeywell Inc. | Getter assembly |
| US5426661A (en) * | 1993-11-09 | 1995-06-20 | Hughes Aircraft Company | Pulsed laser discharge stabilization |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55162287A (en) * | 1979-06-04 | 1980-12-17 | Hitachi Ltd | Carbon dioxide gas laser device |
| JPS5648191A (en) * | 1979-09-27 | 1981-05-01 | Agency Of Ind Science & Technol | Carbon dioxide gas laser oscillator |
| JPS56131981A (en) * | 1980-03-19 | 1981-10-15 | Hitachi Ltd | Co2 gas laser device |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1540619A (en) * | 1976-10-14 | 1979-02-14 | Ferranti Ltd | Gas lasers |
| GB2028571B (en) * | 1978-07-10 | 1982-09-08 | Secr Defence | Carbon dioxide gas lasers |
| GB2083687B (en) * | 1980-08-21 | 1984-02-01 | Secr Defence | Circulating gas laser |
| GB2083944B (en) * | 1980-08-21 | 1984-08-08 | Secr Defence | Co2 laser with catalyst |
| GB2107109B (en) * | 1981-09-25 | 1985-07-24 | United Technologies Corp | Catalyzed c02 laser |
| DE3148570C2 (de) * | 1981-12-08 | 1991-02-14 | Eltro GmbH, Gesellschaft für Strahlungstechnik, 6900 Heidelberg | Elektrisch angeregter CO↓↓2↓↓-Laser |
-
1983
- 1983-05-20 GB GB08314093A patent/GB2123206B/en not_active Expired
- 1983-07-01 JP JP12016683A patent/JPS5921083A/ja active Pending
- 1983-07-01 DE DE19833323856 patent/DE3323856A1/de not_active Ceased
- 1983-07-04 FR FR8311088A patent/FR2529721B1/fr not_active Expired
-
1991
- 1991-05-20 JP JP3554491U patent/JPH04125465U/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55162287A (en) * | 1979-06-04 | 1980-12-17 | Hitachi Ltd | Carbon dioxide gas laser device |
| JPS5648191A (en) * | 1979-09-27 | 1981-05-01 | Agency Of Ind Science & Technol | Carbon dioxide gas laser oscillator |
| JPS56131981A (en) * | 1980-03-19 | 1981-10-15 | Hitachi Ltd | Co2 gas laser device |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63116612A (ja) * | 1986-11-04 | 1988-05-20 | 高千穂化学工業株式会社 | 移動脱穀機 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3323856A1 (de) | 1984-01-05 |
| JPH0543490Y2 (ja) | 1993-11-02 |
| GB8314093D0 (en) | 1983-06-29 |
| FR2529721B1 (fr) | 1986-10-31 |
| GB2123206A (en) | 1984-01-25 |
| GB2123206B (en) | 1986-04-09 |
| FR2529721A1 (fr) | 1984-01-06 |
| JPH04125465U (ja) | 1992-11-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4617668A (en) | CO2 tea laser | |
| US4651324A (en) | Method and apparatus for operating a CO2 gas laser | |
| US4547886A (en) | Catalyzed sealed-off CO2 laser | |
| JPH0543490Y2 (ja) | ||
| GB2083687A (en) | Circulating gas laser | |
| GB2107109A (en) | Catalyzed CO2 laser | |
| GB2083944A (en) | CO2 Laser with Catalyst | |
| US4651325A (en) | RF-pumped infrared laser using transverse gas flow | |
| GB2177538A (en) | Electrically activated gas laser | |
| US4864580A (en) | CO2 laser pulse optimization for harmonic generation | |
| JPH0381314B2 (ja) | ||
| JPH08770Y2 (ja) | 外部ミラー型紫外出力レーザ共振器 | |
| JPH0311900Y2 (ja) | ||
| JP7228061B2 (ja) | レーザ加工装置 | |
| JPH0268971A (ja) | 封止型ｃｏ↓２レーザ管 | |
| Hasson et al. | Effective excitation of oxygen-contaminated high-pressure carbon dioxide TE lasers | |
| Gavrilova et al. | An oxygen donor for sealed CO2 gas-discharge waveguide lasers-La (1-x) Sr (x) CoO (3-delta) ceramic cathode-catalyst | |
| JPH01202877A (ja) | 封止型ｃｏ↓２レーザ管 | |
| JPH0613678A (ja) | 外部ミラー形ガスレーザ発振器 | |
| JPH0235473B2 (ja) | Funyugatatansangasureezakan | |
| JPH02177581A (ja) | 封止型ｃｏ↓２レーザ管 | |
| JPH0716056B2 (ja) | パルスレーザ発振装置 | |
| JPH03255679A (ja) | 炭酸ガスレーザ装置 | |
| JPH04288889A (ja) | ストロンチウム蒸気レーザ装置 | |
| JPS61119083A (ja) | 封止型ｃｏ↓２レ−ザ |