JPS59213672A - 磁気ヘツド用非磁性セラミツクス - Google Patents

磁気ヘツド用非磁性セラミツクス

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Publication number
JPS59213672A
JPS59213672A JP58239088A JP23908883A JPS59213672A JP S59213672 A JPS59213672 A JP S59213672A JP 58239088 A JP58239088 A JP 58239088A JP 23908883 A JP23908883 A JP 23908883A JP S59213672 A JPS59213672 A JP S59213672A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
thermal expansion
ceramics
magnetic head
coefficient
Prior art date
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Pending
Application number
JP58239088A
Other languages
English (en)
Inventor
山田 宏秀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Proterial Ltd
Original Assignee
Hitachi Metals Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Metals Ltd filed Critical Hitachi Metals Ltd
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Pending legal-status Critical Current

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  • Magnetic Heads (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、串、子計算機等の各イ這磁気ヘッド、特にフ
ロッピーテスク用(Ni−Zn)フェライト+a気ヘッ
ドの桟成に欠(ことのできないスライダーもしくはスペ
ーサーとして使用される非磁性セラミックスに131す
るものである。
磁気ヘッドを製作する場合、フェライトと非磁性セラミ
ックスをガラスでボンディングを行う。
フェライトと非磁性セラミックスの熱膨張係数が異なる
と、磁気ヘッドの組立時の熱処理において、材料に破損
を生じたり、製品に歪を残すことになり好ましくない。
また、非磁性セラミックスに空孔が多く存在すると、例
えば磁気ヘッドとフロッピーデスク等が接触して走行す
る場合、デスクにコーティングされた磁性粉が空孔に付
着したり、チッピングのため、磁気ヘッドやフロッピー
デスフケ損傷するため、壁孔の小さいことが要求される
Ni−Znフェライトの熱膨張係数は25〜400℃で
、80〜100×10−7//Cと言われ、非直性セラ
ミックスの熱膨張係数もこの範囲で、任意に変化させろ
ことができ、しかも安定して製造できることが一車要で
ある。
従来は、例えば特公昭55−18524にみられる様に
、 Tie、(24〜52wt%)−CaCO3(27
〜60wt%% Cn02やMgOを添加して、熱j膨
張係数の調整や高密度化を行い愼械的独度の改善をはか
っている。このため熱膨張係数一つを取っても、目的の
値にあわせるための組成が複雑となっている。
本発明は上記従来技術の欠点を改良し、Tie、と。
CaOとの組成比で熱膨張係数をコントロールし、。
気孔率は添加物によって減少させるとともに、結晶粒の
均質化を図り、機械的な強度の改善を行っ。
たものである。本元明者は’I’102−CaOの状態
図からTiO2−CaO,TiOの2相女定領域では、
Cab、Tie。
化合物の存在する一姪と熱膨張係数が1対1に対応する
と考えた。その裏づけン取るにあたって、従来材のバラ
ツキの原因は、TiO□やCaCo、の原料に工業的i
j、=li lff1 (〜98チ)のものを使用して
いるためと考え、99.9製綿度の原料を使用実、験倹
市した。
また、船、”・ml悼ケ頭i、itl化する焼結助剤と
して、Sin2Mg0.ZrO2、IJ aOr S 
rO等か有効であることを見出した。
以下本非明を実施巳IVこより計速する。TiO2およ
びCaCC本は、純度99.9ヂ以上の原料を使用し、
Sin、 、MgO,ZrO2,BaO,SrO#の添
カo!r勿のt、′(!aも99.9%以上どした。試
別に、それぞれ第1辰の組成比に/、!:ろように原料
を配合し、ボールミルで湿式(J%合した。乾ρξ後、
粉砕し、アルミナ貴の箱につめて、1000〜1150
 ℃の温度で2〜5時mj仮焼を行った。仮焼粉は粉砕
した後、1.0〜2 、0 を廓の圧力で成形した。本
焼成は128o〜1580’Cの間で、大気中で焼結を
行った。得られた試料の密度および熱、彬張係数を泪!
(定し第、1表に示した。
以下余白 第  1  表 表により、熱膨張係数は、TiO2の量とともに直線的
に小さくなる傾向にあり、相対ぞKはTie、とともに
大きくなる傾向を示すことがわかる。また、第1表に示
した添加物を添加しても熱膨張係数には影響がなかった
。また、添加物によって相対密度は著しく変化しなかっ
たが、結晶粒度は小さくなり、気孔も小さくなることが
わかった。
第1図は、TiO□のモルチと熱膨張係数の関係を示す
。図より、Ni−Znフェライトの熱膨張係数80〜I
 DO(Xi O−7,/’C)と一致する範囲は、i
’ i U2か7D〜90モル条の範囲であることがあ
きらがである。本発明により、Tie、 −Ca02元
素で熱膨張係数は、’I’i02と(:aOの組成のみ
で、80〜1oo(×1〔lJ/C)の範囲で任意にか
えることができる。また5i02.ZrO3,〜Igo
、BaO,SrO等の添加物も5wt%以下であれば、
熱膨張係数をかえることなく、結晶粒度の微細化、均質
化、高密度化を図ることρ・できる。このため本発明に
よれば、従来のように、熱膨張係数を調査するために、
添加物を変える心安がな(工業上の効果は大である。
【図面の簡単な説明】
第1図は、TiO2−CaO系における’I’i02の
モル%第1図 Ti、Oz  の(121% 11)1、’、’II’L:、I”;bj’&]’rH
,1111(’)  乙1’l’   磁気ヘッド用非
磁性セラミックス1山 11.′1:4   る  古 !1   ・5()8・ Ii 1’f :i′ニジ・
A f!2.(公社代   b    一層   イ、
、i    !l’i’       典   火入 
   」甲    人 1fii j)ミ命令の日イq  昭和59年5月29
日(発送口〕1由  11  ())  よ・1 5(
1、明細■の「発明の名称」の欄

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、  TiO270〜90−e /I/ %、CaO
    50〜10 モ/l/ %よりなることを特徴とする磁
    気ヘッド用非磁性セラミックス。 2、  ’f”10270〜90 モ/L/ %、Ca
    050〜10−e k %を基本組成どし、Sin、 
    、MgQ ZrO3、BaQ SrOのなかから選ばれ
    た少な(とも1イψを0.2〜4重量多添加したことを
    特徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気ヘッド用非
    磁惟セラミックス。
JP58239088A 1983-12-19 1983-12-19 磁気ヘツド用非磁性セラミツクス Pending JPS59213672A (ja)

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JP58239088A JPS59213672A (ja) 1983-12-19 1983-12-19 磁気ヘツド用非磁性セラミツクス

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5296312A (en) * 1992-01-28 1994-03-22 Hitachi Metals Limited Non-magnetic substrate material and floating-type magnetic head

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4831210A (ja) * 1971-08-25 1973-04-24
JPS59213611A (ja) * 1978-05-24 1984-12-03 ダブリユー・アール・グレイス・アンド・カンパニー−コネチカツト 含水シリカゲルの製造方法

Patent Citations (2)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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