JPS5927862A - (p−ヒドロキシフエニル)(ペルフルオロアルキル)アセトニトリル誘導体 - Google Patents
(p−ヒドロキシフエニル)(ペルフルオロアルキル)アセトニトリル誘導体Info
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本弁明は一般式
(式中、Itf は低級ペルフルオロアルキル基であり
、Rは水素原子又は第6級アルキル基である。)で表わ
される新規な(p−ヒドロキシフェニル)(ペルフルオ
ロアルキル)アセトニトリル誘導体に関するものである
。
、Rは水素原子又は第6級アルキル基である。)で表わ
される新規な(p−ヒドロキシフェニル)(ペルフルオ
ロアルキル)アセトニトリル誘導体に関するものである
。
本発明の前記一般式(1)で表わされる(p−ヒドロキ
シフェニル)(ペルフルオロアルキル)アセトニトリル
誘導体はセファロスポリンの修飾剤として1til p
−ヒドロキクフェニル−α−トリフルオロメチル酢酸又
はそのエステル(米国特許第3.879,385号参照
)を製造するための重要な中間体となる(下記参考側参
照)。
シフェニル)(ペルフルオロアルキル)アセトニトリル
誘導体はセファロスポリンの修飾剤として1til p
−ヒドロキクフェニル−α−トリフルオロメチル酢酸又
はそのエステル(米国特許第3.879,385号参照
)を製造するための重要な中間体となる(下記参考側参
照)。
従来知られているp−ヒドロキシフェニル−α−トリフ
ルオロメチル酢酸又はそのエステルの製造方法は高価な
トリフェニルホスフィンを使用する点、又発ガン性であ
るクロロメチルメチルエーテルを使用しなくてはならな
い点など工業的製法としては採用しがたいものである〔
米国特許第3.879,385号及びJ 、 Org、
(2)em、 、32.2797 (1967)参照〕
0 本発明者は従来の欠点を排除すべく鋭意検討を行ナクf
c M 果、容’Aにp−ヒドロキシフェニル−α−ト
リフルオロメチル酢酸又はそのエステルに導きうる本発
明の化合物を見い出し、本発明を児成するに至ったもの
である。
ルオロメチル酢酸又はそのエステルの製造方法は高価な
トリフェニルホスフィンを使用する点、又発ガン性であ
るクロロメチルメチルエーテルを使用しなくてはならな
い点など工業的製法としては採用しがたいものである〔
米国特許第3.879,385号及びJ 、 Org、
(2)em、 、32.2797 (1967)参照〕
0 本発明者は従来の欠点を排除すべく鋭意検討を行ナクf
c M 果、容’Aにp−ヒドロキシフェニル−α−ト
リフルオロメチル酢酸又はそのエステルに導きうる本発
明の化合物を見い出し、本発明を児成するに至ったもの
である。
本発明の化合物は下記の反応式に従い製造する〔B工程
畳 几’OH ウ 011) (式中、Rfは低級ペルフルオロアルキル基であシ、箕
:le−R’は水素原子又は低級アルキル基であり、R
132I< 泉斤独+、+ RうH−フルqJz”A’
・)〔人 工程〕 本工程は前記一般式(II)で表わされるキノン化合物
を接触還元触媒存在下、水素添加することによυ前記一
般式(I)で表わされる(p−ヒドロキシフェニル)(
ペルフルオロアルキル)アセトニトリル誘導体を製造す
るものである。本工程の原料である前記一般式(II)
で表わされるキノン化合物は、工業的に入手可能なフェ
ノール、2,6−ジーt−ブチルフェノール、2,6−
ジーt−アミルフェノール等ト(ペルフルオロアルキル
)アリールヨードニウム塩とを反応させた後、アセトン
シアンヒドリン存在下塩基で処理することによシ容易に
製造出来るものである( Chem、Lett、、 1
98ユ。
畳 几’OH ウ 011) (式中、Rfは低級ペルフルオロアルキル基であシ、箕
:le−R’は水素原子又は低級アルキル基であり、R
132I< 泉斤独+、+ RうH−フルqJz”A’
・)〔人 工程〕 本工程は前記一般式(II)で表わされるキノン化合物
を接触還元触媒存在下、水素添加することによυ前記一
般式(I)で表わされる(p−ヒドロキシフェニル)(
ペルフルオロアルキル)アセトニトリル誘導体を製造す
るものである。本工程の原料である前記一般式(II)
で表わされるキノン化合物は、工業的に入手可能なフェ
ノール、2,6−ジーt−ブチルフェノール、2,6−
ジーt−アミルフェノール等ト(ペルフルオロアルキル
)アリールヨードニウム塩とを反応させた後、アセトン
シアンヒドリン存在下塩基で処理することによシ容易に
製造出来るものである( Chem、Lett、、 1
98ユ。
1666並びに参考例1及び2参照)。本工程で用いる
接触還元触媒としてはパラジウム−カーボン、白金、パ
ラジウム、ラネーニッケル等の通常接触還元に用いられ
る金属触媒を用いることができる。
接触還元触媒としてはパラジウム−カーボン、白金、パ
ラジウム、ラネーニッケル等の通常接触還元に用いられ
る金属触媒を用いることができる。
反応の実施に当っては溶媒の使用が好ましく判笑村アセ
トニトリル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エーテ
ル、エタノール、酢酸、酢酸エチル、ベンゼン、へ午サ
ン、シクロヘキサン等を例示すが好ましい。
トニトリル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エーテ
ル、エタノール、酢酸、酢酸エチル、ベンゼン、へ午サ
ン、シクロヘキサン等を例示すが好ましい。
本工程で得られる前記一般式(1)で表わされる化合物
においてRが第三級アルキル基を有する化合物は塩化ア
ルミニウムと反応させることにより11が水素原子であ
る化合物へ変換が容易である。この脱アルキル化反応の
際は溶媒の使用が好ましくたとえばベンゼン、トルエン
、キシレン等の芳香環化合物等を使用することが出来る
。又この反応を円滑に行なわせるためにはニトロメタン
等のニトロ化合物を塩化アルミニウムに対し当モルから
10倍モル添加して反応を行うことが好ましい。
においてRが第三級アルキル基を有する化合物は塩化ア
ルミニウムと反応させることにより11が水素原子であ
る化合物へ変換が容易である。この脱アルキル化反応の
際は溶媒の使用が好ましくたとえばベンゼン、トルエン
、キシレン等の芳香環化合物等を使用することが出来る
。又この反応を円滑に行なわせるためにはニトロメタン
等のニトロ化合物を塩化アルミニウムに対し当モルから
10倍モル添加して反応を行うことが好ましい。
には0.8倍から4倍当量用いるのが好ましい。脱アル
キル化反応は0℃から100℃で進行するが室温から8
00が収率向上のため好ましい。
キル化反応は0℃から100℃で進行するが室温から8
00が収率向上のため好ましい。
本工程は前記一般式(I)で表わされる(p−ヒドロキ
シフェニル)(ペルフルオロアルキル)アセトニトリル
誘導体と前記一般式(III)で表わされる化合物とを
酸で処理することにより前記一般式([V)で表ワサれ
る(p−ヒドロキシフェニル)(ペルフルオロアルキル
)酢酸化合物を製造するものである。前記一般式([r
[)で表わされる化合物としてはメタノール、エタノー
ル等の低級アルコール、水等を例示することが出来る。
シフェニル)(ペルフルオロアルキル)アセトニトリル
誘導体と前記一般式(III)で表わされる化合物とを
酸で処理することにより前記一般式([V)で表ワサれ
る(p−ヒドロキシフェニル)(ペルフルオロアルキル
)酢酸化合物を製造するものである。前記一般式([r
[)で表わされる化合物としてはメタノール、エタノー
ル等の低級アルコール、水等を例示することが出来る。
酸としては硫酸、塩化<A!i?了するため80℃から
150°Cが好ましい。
150°Cが好ましい。
参考例1
25m1のナスフラスコに2,6−ジーt −7’ゝチ
ルフエノール82物(4mmo+ )、ピリジン162
m1 (2mmol ’)、アセトニトリル8mlを入
れ、室温にテffl拝上ヘンタフルオ口エナルフェニル
ヨードニウムスルフエート840++y(2mmol
)を加え、60分室温で攪拌した。溶媒を減圧留去し、
ノリ力ゲルクロマトグ2フィーにかけ、n−ペンタンで
溶出した。溶媒を減圧留去し、4−ペンタフルオロエチ
ル−2,6−シーt−7/チルフ工ノール550m9(
1、7mmol )を無色結晶として得た。収率85チ
。
ルフエノール82物(4mmo+ )、ピリジン162
m1 (2mmol ’)、アセトニトリル8mlを入
れ、室温にテffl拝上ヘンタフルオ口エナルフェニル
ヨードニウムスルフエート840++y(2mmol
)を加え、60分室温で攪拌した。溶媒を減圧留去し、
ノリ力ゲルクロマトグ2フィーにかけ、n−ペンタンで
溶出した。溶媒を減圧留去し、4−ペンタフルオロエチ
ル−2,6−シーt−7/チルフ工ノール550m9(
1、7mmol )を無色結晶として得た。収率85チ
。
m、p、:48〜49℃
”1!’ −NMR(屯り0Cffホルム中CCt 5
F内部標準、ppm):85.25 (s、3F) 、
113.7(s、2F) 。
F内部標準、ppm):85.25 (s、3F) 、
113.7(s、2F) 。
11(m 二1150,1200,1!+10(C
−F)、2980(CH3) 、3650(OH) 。
−F)、2980(CH3) 、3650(OH) 。
+
Mass : 324(M )、309(M+−CH5
)。
)。
元素分析
耐昇値: C; 59.25.H;6.53%。
実測値: C; 59.2B、H;6.45チ。
参考例2
25m/のナスフラスコに4−ペンタフルオロエチル−
2,6−ンーtert−フ与ルフエ/−ル′524m&
(1mmol)、50%NaH126〜(2,6rrr
nol)、乾燥ジエチルエーテル10 mlを入れ、室
温にて攪拌下、アセトンシアンヒドリン120 J(1
,3mmol)を加え、14時間室温で攪拌した。溶媒
を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
かけ、5%エーテル/n−ペンタンで溶出した。溶媒を
減圧留去し、前記一般式(■)(几−t−J3u)の化
合物276〜(0,88mmol)を赤色結晶として得
た。
2,6−ンーtert−フ与ルフエ/−ル′524m&
(1mmol)、50%NaH126〜(2,6rrr
nol)、乾燥ジエチルエーテル10 mlを入れ、室
温にて攪拌下、アセトンシアンヒドリン120 J(1
,3mmol)を加え、14時間室温で攪拌した。溶媒
を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
かけ、5%エーテル/n−ペンタンで溶出した。溶媒を
減圧留去し、前記一般式(■)(几−t−J3u)の化
合物276〜(0,88mmol)を赤色結晶として得
た。
収率88%。
m 、p、 二54〜55℃
”f+’ −NMR(重クロロホルム中CCl3F内部
標準、Ppm):55.00(s) I&m :1140,11B5,1260.1275
(C−F)、1630,1655(C工C。
標準、Ppm):55.00(s) I&m :1140,11B5,1260.1275
(C−F)、1630,1655(C工C。
C=O)、2230(CN)、2980(C1(3)。
Mass 二311 (M +) 、 296(M+−
CH3) 。
CH3) 。
元素分析
gt計算値 C;65.58.H;6.48.Ni4.
50I%。
50I%。
実測値: C165,60,f(;6.72.Ni4.
28%実施例1 25罰のナスフラスコに前記一般式(II)(1も−t
−Bu)の化合物155!nII(0,5mmo 1
)、5%Pd−C80η、アセトニトリル10m’(
<入れ、脱気した彼、水素ガスを導入し、2時M4室温
で攪拌した。さらに5% Pd−Cl 00mgを加え
、脱気した後、水素ガスを導入し1時間室温で攪拌した
。溶媒を減圧留去しシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにかけ、40チェーチル/n−ペンタンで溶出した。
28%実施例1 25罰のナスフラスコに前記一般式(II)(1も−t
−Bu)の化合物155!nII(0,5mmo 1
)、5%Pd−C80η、アセトニトリル10m’(
<入れ、脱気した彼、水素ガスを導入し、2時M4室温
で攪拌した。さらに5% Pd−Cl 00mgを加え
、脱気した後、水素ガスを導入し1時間室温で攪拌した
。溶媒を減圧留去しシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにかけ、40チェーチル/n−ペンタンで溶出した。
溶媒を減オロエチル) −2、6−シーt−7’チルフ
エノール142nl&(0,91mmol)を無色結晶
としテ得り。
エノール142nl&(0,91mmol)を無色結晶
としテ得り。
収率91チ。
m、p、:59〜60゛c
19F−Nul+(重クロロホルム中CC16B内部標
準、ppm) =70.04(s) 。
準、ppm) =70.04(s) 。
II伽 :1130,1180.1250(C−F)。
2250(cN)、2940.2970(CH3)。
3655(OH)。
Mass:313(M )、298(M+−CH5)
。
。
+
元素分析
計算値:C;65.16,1−1;7.08.N;4.
41%。
41%。
実測値:C;65,29.H;7.26.N;4.20
チ。
チ。
実施例2
25mlのナスフラスコに4−(1−シアノ−2゜2.
2−トリフルオロエテル)−2,6一ジーt−プチルフ
エノール513rng(1mmol)、順化アルミニウ
ム60 U++I&(4,5mmo l )を入れ減圧
下アルコン[1/JL、ベンゼン2彪、ニトロメタン6
00μQ(9,8mmo 1 )を入れ50℃で23時
間攪拌した。
2−トリフルオロエテル)−2,6一ジーt−プチルフ
エノール513rng(1mmol)、順化アルミニウ
ム60 U++I&(4,5mmo l )を入れ減圧
下アルコン[1/JL、ベンゼン2彪、ニトロメタン6
00μQ(9,8mmo 1 )を入れ50℃で23時
間攪拌した。
冷却下4N−HCIを5d加えエーテルILIOdで抽
出し、水洗2回し、f9804で乾燥した。濾過後濃縮
し、シリカゲルカラムクロマトにかけ50%エーテル/
ペンタンで溶出した。溶媒を減圧留去し4−(1−シア
ノ−2,2,2−トリフルオロエテル)フェノール19
/In9(0,98mmo 1 )を無色結晶として
得た。収率98チ。
出し、水洗2回し、f9804で乾燥した。濾過後濃縮
し、シリカゲルカラムクロマトにかけ50%エーテル/
ペンタンで溶出した。溶媒を減圧留去し4−(1−シア
ノ−2,2,2−トリフルオロエテル)フェノール19
/In9(0,98mmo 1 )を無色結晶として
得た。収率98チ。
m、p、:58〜59%
19F−NMR(重クロロホルム中CC13F内部標準
、ppm):69.97 (d 、 3F 、J =7.8)IVL)’H−NM
I((重クロロホルム中TM8内部標準、ppm);4
.43(q、IH,J=7.8H1)。
、ppm):69.97 (d 、 3F 、J =7.8)IVL)’H−NM
I((重クロロホルム中TM8内部標準、ppm);4
.43(q、IH,J=7.8H1)。
I&m ’ :1120〜1280(C−F)、153
0゜1450 、1520 、1600 、’1620
。
0゜1450 、1520 、1600 、’1620
。
1900.2280(CN)、3400(OH)。
Mass 二202(M++1)、2 旧(IVI”)
。
。
182(M+−F)、132(M+−CF3)。
参考例6
25m1ナスフラスコに4−(1−ソアノー2゜2゛、
2“−トリフルオロエテル)−2,6−ジーt−ブチル
フェノール91m9(0,29mmo l )、エタノ
ール2m、iを入れ、氷水中、攪拌下濃硫酸1 mlを
加えた。1時間半還流した後、冷却し、水1Tn1!を
加えエーテル抽出した。抽出液は、飽和炭酸すl−IJ
ウム水溶液で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
2“−トリフルオロエテル)−2,6−ジーt−ブチル
フェノール91m9(0,29mmo l )、エタノ
ール2m、iを入れ、氷水中、攪拌下濃硫酸1 mlを
加えた。1時間半還流した後、冷却し、水1Tn1!を
加えエーテル抽出した。抽出液は、飽和炭酸すl−IJ
ウム水溶液で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにかけ、50%エーテル/n−ペンタンで溶出した。
ーにかけ、50%エーテル/n−ペンタンで溶出した。
溶媒を減圧留去し、4−(1−ニトキシカルボニル−2
,2,2−トリフルオo工fh)7x/−ル361V(
0,15mmol)を無色油状体として得た。収率50
チ。
,2,2−トリフルオo工fh)7x/−ル361V(
0,15mmol)を無色油状体として得た。収率50
チ。
”F−NMR(3)jクロロホルム中CCl3F内部標
準、pl)nl) : 68 、60(s)。
準、pl)nl) : 68 、60(s)。
IRcIn’:111b、1155.11B0,122
0゜1260(C−F)、1740(C−0)。
0゜1260(C−F)、1740(C−0)。
3450(OH)。
Mass:248(M”)。
元素分析
計算値:C;5125.H;4.47チ。
実測値:C;5100.H;4.44%。
参考例4
リフルオロエテル)=2.6−シーt −フテルフート
リフルオロエテル)フェノール581ng(0,29m
mol)を使用した以外はすべて参考例6と同様2.2
− )リフルオロエチル)フェノールヲ得た。
リフルオロエテル)フェノール581ng(0,29m
mol)を使用した以外はすべて参考例6と同様2.2
− )リフルオロエチル)フェノールヲ得た。
収率55チ。
参考例5
25dのナスフラスコに4−(1−シアノ−2゜2.2
−トリフルオロエチル)フェノール201η(1mmo
l)、98%硫酸1m/1水1σを入れ加熱還流下5時
間45分攪拌した。50+n/のエーテルで抽出し、エ
ーテル層を飽和NaHCOs水でアルカリ性にし、水層
をlN−HCl で酸性にし、エーテル抽出し、飽和
食塩水で2回洗浄、MgSO4で乾燥した。濾過後、溶
媒を減圧留去し4−(1−カルボノール95〜(0、4
3d)を無色結晶として得た。+■7率45%。
−トリフルオロエチル)フェノール201η(1mmo
l)、98%硫酸1m/1水1σを入れ加熱還流下5時
間45分攪拌した。50+n/のエーテルで抽出し、エ
ーテル層を飽和NaHCOs水でアルカリ性にし、水層
をlN−HCl で酸性にし、エーテル抽出し、飽和
食塩水で2回洗浄、MgSO4で乾燥した。濾過後、溶
媒を減圧留去し4−(1−カルボノール95〜(0、4
3d)を無色結晶として得た。+■7率45%。
m、p、:169〜171℃
”F−NMR(重メタノール中CCl3F内部標準pp
m):68.13(d、5F、J=9.0H,)’H−
NM)L(重メタ/−/l、中TM8内部標準ppm)
:4.56(Q、IH,J=9.011ミ)。
m):68.13(d、5F、J=9.0H,)’H−
NM)L(重メタ/−/l、中TM8内部標準ppm)
:4.56(Q、IH,J=9.011ミ)。
6.77(d、IH,J−8,8H,)。
7.25(d、IH,J=8.8i1X)。
I’m ”:1120,1150,1180,1250
,1520゜1610 、1750(−C(JOH)、
5400(−Gl)。
,1520゜1610 、1750(−C(JOH)、
5400(−Gl)。
Mass : 221 (M”+1 ) 、220(M
”) 。
”) 。
元素分析
言十算有6:C;49.09 、l−1;5.18 %
。
。
央は川111↓:C;4):i、87.1−1;2.ν
8チ。
8チ。
特許出願人
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■ で表すされる(p−ヒドロキシフェニル)(ペルフルオ
ロアルキル)アセトニトリル誘導体(式中、几f 1l
t(lペルフルオロアルキル基であシ、■tは水素原子
又は第6級アルキル基である。)。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13734282A JPS5927862A (ja) | 1982-08-09 | 1982-08-09 | (p−ヒドロキシフエニル)(ペルフルオロアルキル)アセトニトリル誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13734282A JPS5927862A (ja) | 1982-08-09 | 1982-08-09 | (p−ヒドロキシフエニル)(ペルフルオロアルキル)アセトニトリル誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5927862A true JPS5927862A (ja) | 1984-02-14 |
| JPH0141136B2 JPH0141136B2 (ja) | 1989-09-04 |
Family
ID=15196398
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13734282A Granted JPS5927862A (ja) | 1982-08-09 | 1982-08-09 | (p−ヒドロキシフエニル)(ペルフルオロアルキル)アセトニトリル誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5927862A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0434813U (ja) * | 1990-07-04 | 1992-03-24 | ||
| CN110003047A (zh) * | 2019-05-06 | 2019-07-12 | 哈尔滨理工大学 | 一种丙酮氰醇与卤代烷反应制备腈的方法 |
| CN111620764A (zh) * | 2020-03-24 | 2020-09-04 | 荆楚理工学院 | 一种选择性的芳基烷基醚的醚键断裂方法 |
-
1982
- 1982-08-09 JP JP13734282A patent/JPS5927862A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0434813U (ja) * | 1990-07-04 | 1992-03-24 | ||
| CN110003047A (zh) * | 2019-05-06 | 2019-07-12 | 哈尔滨理工大学 | 一种丙酮氰醇与卤代烷反应制备腈的方法 |
| CN111620764A (zh) * | 2020-03-24 | 2020-09-04 | 荆楚理工学院 | 一种选择性的芳基烷基醚的醚键断裂方法 |
| CN111620764B (zh) * | 2020-03-24 | 2023-05-05 | 荆楚理工学院 | 一种选择性的芳基烷基醚的醚键断裂方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0141136B2 (ja) | 1989-09-04 |
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