JPH0335309B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0335309B2 JPH0335309B2 JP60200079A JP20007985A JPH0335309B2 JP H0335309 B2 JPH0335309 B2 JP H0335309B2 JP 60200079 A JP60200079 A JP 60200079A JP 20007985 A JP20007985 A JP 20007985A JP H0335309 B2 JPH0335309 B2 JP H0335309B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- general formula
- reaction
- carboxydibenzoylmethanes
- carbon atoms
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/347—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reactions not involving formation of carboxyl groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は2−カルボキシジベンゾイルメタン類
の製造法、更に詳細には、植物の根の地向性阻害
剤、あるいは植物の生長調節剤、更に含ハロゲン
樹脂の安定化剤として有用な2−カルボキシジベ
ンゾイルメタン類の製造法に関する。
の製造法、更に詳細には、植物の根の地向性阻害
剤、あるいは植物の生長調節剤、更に含ハロゲン
樹脂の安定化剤として有用な2−カルボキシジベ
ンゾイルメタン類の製造法に関する。
2−カルボキシジベンゾイルメタン類のたがら
し、どくむぎ属の根の地向性阻害及び植物の生長
調節剤としての有用性は、ビー.テイー.ブラウ
ン(B.T.Brown)等によつて詳しく検討がなさ
れている〔エクスペリエンテイア
(Experientia),28,1290(1972);ペステイサイ
ド・サイエンス(Pesticide Science),4,473
(1973)等〕。そして、2−カルボキシジベンゾイ
ルメタン類を出発原料とした様々な誘導体も植物
の生長調節剤として有用であることも知られてい
る〔西ドイツ公開DE2600655(1976)〕。
し、どくむぎ属の根の地向性阻害及び植物の生長
調節剤としての有用性は、ビー.テイー.ブラウ
ン(B.T.Brown)等によつて詳しく検討がなさ
れている〔エクスペリエンテイア
(Experientia),28,1290(1972);ペステイサイ
ド・サイエンス(Pesticide Science),4,473
(1973)等〕。そして、2−カルボキシジベンゾイ
ルメタン類を出発原料とした様々な誘導体も植物
の生長調節剤として有用であることも知られてい
る〔西ドイツ公開DE2600655(1976)〕。
一方、2−カルボキシジベンゾイルメタン類
は、含ハロゲン樹脂の安定化剤としても有用であ
ることが知られている〔米国特許第4381360号
(1983)、特開昭56−99254号〕。
は、含ハロゲン樹脂の安定化剤としても有用であ
ることが知られている〔米国特許第4381360号
(1983)、特開昭56−99254号〕。
而して、このような化合物を得るための方法と
しては、次に示す反応式に従つてフタル酸ジエス
テルとアセトフエノン類を塩基の存在下縮合せし
める方法が知られていた。
しては、次に示す反応式に従つてフタル酸ジエス
テルとアセトフエノン類を塩基の存在下縮合せし
める方法が知られていた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、この方法では2−アシルインダ
ン−1,3−ジオンが20〜40%の収率で副生して
しまい、目的とする2−カルボキシジベンゾイル
メタン類は20〜50%の低収率でしか得られない。
ン−1,3−ジオンが20〜40%の収率で副生して
しまい、目的とする2−カルボキシジベンゾイル
メタン類は20〜50%の低収率でしか得られない。
斯かる実状において、本発明者は鋭意研究の結
果、2−カルボキシジベンゾイルメタン類を高収
率で、しかも容易、安価に、なおかつ大量に製造
しうる方法を見出し、本発明を完成した。
果、2−カルボキシジベンゾイルメタン類を高収
率で、しかも容易、安価に、なおかつ大量に製造
しうる方法を見出し、本発明を完成した。
本発明方法は次の反応式によつて示される。
(式中、R1及びR2はベンゼン核の任意の位置
に置換することができ、各々同一又は異つて、水
素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜18の直鎖もし
くは分岐のアルキル基もしくはアルケニル基、又
は炭素数1〜18の直鎖もしくは分岐の飽和もしく
は不飽和のアルコキシ基を示し、mは1〜4の整
数、nは1〜5の整数を示す) すなわち、本発明は、無水フタル酸類()と
アセトフエノン類()を塩基の存在下反応させ
て2−カルボキシジベンゾイルメタン類()を
製造する方法である。
に置換することができ、各々同一又は異つて、水
素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜18の直鎖もし
くは分岐のアルキル基もしくはアルケニル基、又
は炭素数1〜18の直鎖もしくは分岐の飽和もしく
は不飽和のアルコキシ基を示し、mは1〜4の整
数、nは1〜5の整数を示す) すなわち、本発明は、無水フタル酸類()と
アセトフエノン類()を塩基の存在下反応させ
て2−カルボキシジベンゾイルメタン類()を
製造する方法である。
本発明方法を実施するには、まずアセトフエノ
ン類()と塩基をトルエン、キシレン、その他
反応に不活性な溶媒中で0〜200℃、好ましくは
80〜150℃の温度で反応させてアセトフエノン類
のエノラートを調製する。塩基としては、例えば
水素化ナトリウム、ナトリウムアルコラート、ナ
トリウムアミド等を挙げることができるが、エノ
ラートを生成しうる塩基であればいずれをも使用
することができる。塩基は、アセトフエノン類
()に対し1〜20当量、好ましくは1〜6当量
使用される。
ン類()と塩基をトルエン、キシレン、その他
反応に不活性な溶媒中で0〜200℃、好ましくは
80〜150℃の温度で反応させてアセトフエノン類
のエノラートを調製する。塩基としては、例えば
水素化ナトリウム、ナトリウムアルコラート、ナ
トリウムアミド等を挙げることができるが、エノ
ラートを生成しうる塩基であればいずれをも使用
することができる。塩基は、アセトフエノン類
()に対し1〜20当量、好ましくは1〜6当量
使用される。
エノラートが生成するにつれて発生する水素、
アンモニア等のガス類、アルコール等の溶液類は
系外に除去し、更に加熱還流をして反応を完結さ
せる。
アンモニア等のガス類、アルコール等の溶液類は
系外に除去し、更に加熱還流をして反応を完結さ
せる。
次いでこの反応液を0〜150℃、好ましくは40
〜80℃に冷却し、これに無水フタル酸類()を
激しく撹拌しながら加え反応させる。無水フタル
酸類()はアセトフエノン類()に対し0.5
〜5当量、好ましくは1〜1.5当量使用される。
更に、反応液から溶媒を留去して得られるスラリ
ーに目的化合物()を均一に溶解しうる有機溶
媒及び酸水溶液を加え有機層が酸性になるように
する。有機溶媒としては、例えばメチルエチルケ
トン、酢酸エチル等が好適に使用される。また、
酸としては塩酸、硫酸等の無機酸又はコハク酸等
の有機酸が好ましく、生成物の単離精製の点から
無機酸が特に好ましい。有機層を分取した後にPH
5〜6になるまで水洗を行ない、その後溶媒を留
去すれば目的の2−カルボキシジベンゾイルメタ
ン類()が収率良く得られてくる。
〜80℃に冷却し、これに無水フタル酸類()を
激しく撹拌しながら加え反応させる。無水フタル
酸類()はアセトフエノン類()に対し0.5
〜5当量、好ましくは1〜1.5当量使用される。
更に、反応液から溶媒を留去して得られるスラリ
ーに目的化合物()を均一に溶解しうる有機溶
媒及び酸水溶液を加え有機層が酸性になるように
する。有機溶媒としては、例えばメチルエチルケ
トン、酢酸エチル等が好適に使用される。また、
酸としては塩酸、硫酸等の無機酸又はコハク酸等
の有機酸が好ましく、生成物の単離精製の点から
無機酸が特に好ましい。有機層を分取した後にPH
5〜6になるまで水洗を行ない、その後溶媒を留
去すれば目的の2−カルボキシジベンゾイルメタ
ン類()が収率良く得られてくる。
本発明によれば、2−カルボキシジベンゾイル
メタン類()を、安価かつ容易に、しかも高収
率で得ることができる。
メタン類()を、安価かつ容易に、しかも高収
率で得ることができる。
次に実施例を挙げて説明する。
実施例 1
還流冷却器付1フラスコに、共沸脱水したキ
シレン700mlとナトリウムメチラート(28%メタ
ノール溶液)99.2g(0.51モル)をとり、110℃
に加熱してメタノールを留去する。この溶液に溶
融したp−メトキシアセトフエン30g(0.2モル)
を加え、さらに110℃に加熱し、生成してくるメ
タノールを留去する。メタノールの留出が止まつ
たら、さらに溶媒の還流温度で加熱を続け、反応
を完結させる。これを60℃まで冷却し、激しく撹
拌しながら無水フタル酸35g(0.24モル)を加え
る。反応は発熱的に進行し、反応が進むにつれて
塩が析出し、反応溶液はスラリー化する。反応紙
了後、キシレンを留去し、得られるスラリーにメ
チルエチルケトン700ml、12%塩酸水溶液160gを
加え、撹拌することにより固型物を全て溶解させ
る。有機層を分取後、イオン交換水100mlで3回
洗浄を行ない、減圧下で溶媒を留去し、黄色の固
体を得る。このものは熱エタノール200mlに溶解
させ、室温に冷却すれば目的の4′−メトキシ−2
−カルボキシジベンゾイルメチン52.1gを微黄色
結晶として得る(収率87%)。
シレン700mlとナトリウムメチラート(28%メタ
ノール溶液)99.2g(0.51モル)をとり、110℃
に加熱してメタノールを留去する。この溶液に溶
融したp−メトキシアセトフエン30g(0.2モル)
を加え、さらに110℃に加熱し、生成してくるメ
タノールを留去する。メタノールの留出が止まつ
たら、さらに溶媒の還流温度で加熱を続け、反応
を完結させる。これを60℃まで冷却し、激しく撹
拌しながら無水フタル酸35g(0.24モル)を加え
る。反応は発熱的に進行し、反応が進むにつれて
塩が析出し、反応溶液はスラリー化する。反応紙
了後、キシレンを留去し、得られるスラリーにメ
チルエチルケトン700ml、12%塩酸水溶液160gを
加え、撹拌することにより固型物を全て溶解させ
る。有機層を分取後、イオン交換水100mlで3回
洗浄を行ない、減圧下で溶媒を留去し、黄色の固
体を得る。このものは熱エタノール200mlに溶解
させ、室温に冷却すれば目的の4′−メトキシ−2
−カルボキシジベンゾイルメチン52.1gを微黄色
結晶として得る(収率87%)。
mp.156〜158℃
IR(KBr cm-1):
2950,1690,1590,1500,1460,1440,1415,
1290,1255,1225,1175,1020,930,850,
805,775 NMR(CD3OD)δppm: 3.85(s,3H,−OCH3) 6.90〜7.07(m,2H,芳香環プロトン) 7.53〜8.04(m,6H,芳香環プロトン) 実施例 2 実施例1におけるp−メトキシアセトフエノン
30g(0.2モル)の代りにアセトフエノン24.0g
(0.2モル)を用いる以外は実施例1と同様にして
2−カルボキシジベンゾイルメタン45.6gを得る
(収率85%)。
1290,1255,1225,1175,1020,930,850,
805,775 NMR(CD3OD)δppm: 3.85(s,3H,−OCH3) 6.90〜7.07(m,2H,芳香環プロトン) 7.53〜8.04(m,6H,芳香環プロトン) 実施例 2 実施例1におけるp−メトキシアセトフエノン
30g(0.2モル)の代りにアセトフエノン24.0g
(0.2モル)を用いる以外は実施例1と同様にして
2−カルボキシジベンゾイルメタン45.6gを得る
(収率85%)。
mp110〜112℃(文献111〜113℃)
実施例 3
実施例1におけるp−メトキシアセトフエノン
30g(0.2モル)の代りに3,4−ジクロロアセ
トフエノン37.8g(0.2モル)を用いる以外は実
施例1と同様にして3′,4′−ジクロロ−2−カル
ボキシジベンゾイルメタン53.9gを得る(収率80
%)。
30g(0.2モル)の代りに3,4−ジクロロアセ
トフエノン37.8g(0.2モル)を用いる以外は実
施例1と同様にして3′,4′−ジクロロ−2−カル
ボキシジベンゾイルメタン53.9gを得る(収率80
%)。
mp170〜171℃(文献170〜172℃)
実施例 4
実施例1におけるp−メトキシアセトフエノン
30g(0.2モル)の代りに2,4,6−トリメチ
ルアセトフエノン32.4g(0.2モル)を用いる以
外は実施例1と同様にして2′,4′,6′−トリメチ
ル−2−カルボキシジベンゾイルメタン44.1gを
得る(収率71%)。
30g(0.2モル)の代りに2,4,6−トリメチ
ルアセトフエノン32.4g(0.2モル)を用いる以
外は実施例1と同様にして2′,4′,6′−トリメチ
ル−2−カルボキシジベンゾイルメタン44.1gを
得る(収率71%)。
mp154〜156℃(文献155〜157℃)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式() で表わされる無水フタル酸類と一般式()、 で表わされるアセトフエノン類を塩基の存在下反
応せしめることを特徴とする一般式() (上記各式中、R1及びR2はベンゼン核の任意
の位置に置換することができ、各々同一又は異つ
て、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜18の直
鎖もしくは分岐のアルキル基もしくはアルケニル
基、又は炭素数1〜18の直鎖もしくは分岐の飽和
もしくは不飽和のアルコキシ基を示し、mは1〜
4の整数、nは1〜5の整数を示す) で表わされる2−カルボキシジベンゾイルメタン
類の製造法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60200079A JPS6259243A (ja) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | 2−カルボキシジベンゾイルメタン類の製造法 |
| US06/898,714 US4670585A (en) | 1985-09-10 | 1986-08-21 | Process for preparing 2-carboxydibenzoylmethanes |
| DE19863630553 DE3630553A1 (de) | 1985-09-10 | 1986-09-08 | Verfahren zur herstellung von 2-carboxydibenzoylmethanen |
| CH3607/86A CH669191A5 (de) | 1985-09-10 | 1986-09-09 | Verfahren zur herstellung von 2-carboxydibenzoylmethanen. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60200079A JPS6259243A (ja) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | 2−カルボキシジベンゾイルメタン類の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6259243A JPS6259243A (ja) | 1987-03-14 |
| JPH0335309B2 true JPH0335309B2 (ja) | 1991-05-27 |
Family
ID=16418501
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60200079A Granted JPS6259243A (ja) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | 2−カルボキシジベンゾイルメタン類の製造法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4670585A (ja) |
| JP (1) | JPS6259243A (ja) |
| CH (1) | CH669191A5 (ja) |
| DE (1) | DE3630553A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU611437B2 (en) * | 1987-05-29 | 1991-06-13 | Ortho Pharmaceutical Corporation | Pharmacologically active 2- and 3-substituted (1',5'-diaryl-3-pyrazolyl)-n-hydroxypropanamides and method for synthesizing the same |
| EP0293221A3 (en) * | 1987-05-29 | 1990-07-04 | Ortho Pharmaceutical Corporation | Regioselective synthesis of 1,5-disubstituted pyrazoles |
| DE4237356A1 (de) * | 1992-11-05 | 1994-05-11 | Eckart Rinde | Münzbetätigte Reinigungsvorrichtung |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3812181A (en) * | 1971-12-27 | 1974-05-21 | Hoffmann La Roche | O-(alpha-hydroxycinnamoyl)benzoic acid and related compounds |
| JPS60190708A (ja) * | 1984-03-12 | 1985-09-28 | Kao Corp | 長波長紫外線吸収剤 |
-
1985
- 1985-09-10 JP JP60200079A patent/JPS6259243A/ja active Granted
-
1986
- 1986-08-21 US US06/898,714 patent/US4670585A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-09-08 DE DE19863630553 patent/DE3630553A1/de not_active Withdrawn
- 1986-09-09 CH CH3607/86A patent/CH669191A5/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CH669191A5 (de) | 1989-02-28 |
| JPS6259243A (ja) | 1987-03-14 |
| DE3630553A1 (de) | 1987-03-12 |
| US4670585A (en) | 1987-06-02 |
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