JPS5927962A - 透明被膜形成用ペ−ストおよび透明被膜 - Google Patents
透明被膜形成用ペ−ストおよび透明被膜Info
- Publication number
- JPS5927962A JPS5927962A JP13789482A JP13789482A JPS5927962A JP S5927962 A JPS5927962 A JP S5927962A JP 13789482 A JP13789482 A JP 13789482A JP 13789482 A JP13789482 A JP 13789482A JP S5927962 A JPS5927962 A JP S5927962A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- paste
- organic
- transparent film
- compd
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/27—Oxides by oxidation of a coating previously applied
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ガラスやセラミックなどの基板上に形成され
る透明金属酸化物被膜に係り、更Ｇこ詳しくはその透明
被膜が酸化鉛−酸化、１１１鉛からなる透明被膜に関す
るものである。
る透明金属酸化物被膜に係り、更Ｇこ詳しくはその透明
被膜が酸化鉛−酸化、１１１鉛からなる透明被膜に関す
るものである。
酸化鉛−酸化亜鉛からなる透明金属酸化物被膜の形成方
法には、真空蒸着法、化学スプレー法ならひに浸漬法な
どがある。ところで前記真空蒸着法は形成される被膜の
特性は優ｎているが、量産ｅｌ： ｃこ問題があり、ま
た、パターン化に対応するためにはエツチングなどの処
理が必要であった。一方、化学スプレー法ならびに浸漬
法は比較的量産にノＮしているが、パターン化対応につ
いては前者と同様の問題がある。このように従来の方法
では一長一知があり、必すしも優れた方法とは言い難し
ゝ０ 本発明の目的は、このような従来技術の欠点を解消し、
陸産性に優ｎたスクリーン印刷が可能で、被膜特性の良
好な透明被膜形成用ペーストならびＧこその波−ストを
用いて形成した透明被膜を提供−３”るにある。
法には、真空蒸着法、化学スプレー法ならひに浸漬法な
どがある。ところで前記真空蒸着法は形成される被膜の
特性は優ｎているが、量産ｅｌ： ｃこ問題があり、ま
た、パターン化に対応するためにはエツチングなどの処
理が必要であった。一方、化学スプレー法ならびに浸漬
法は比較的量産にノＮしているが、パターン化対応につ
いては前者と同様の問題がある。このように従来の方法
では一長一知があり、必すしも優れた方法とは言い難し
ゝ０ 本発明の目的は、このような従来技術の欠点を解消し、
陸産性に優ｎたスクリーン印刷が可能で、被膜特性の良
好な透明被膜形成用ペーストならびＧこその波−ストを
用いて形成した透明被膜を提供−３”るにある。
この目的を達成するため、本発明は、焼成によって酸化
鉛−酸化亜鉛の被膜を形成する化合物で４１機溶剤に可
溶な有機鉛化合物ならびに有機亜鉛ｆ１・合物と、増粘
剤と、これら有機鉛化合物、有機亜鉛化合物ならびに増
粘剤を溶解する有機溶剤とを混練して透明被膜形成用ペ
ーストとすることを特徴とするものである。
鉛−酸化亜鉛の被膜を形成する化合物で４１機溶剤に可
溶な有機鉛化合物ならびに有機亜鉛ｆ１・合物と、増粘
剤と、これら有機鉛化合物、有機亜鉛化合物ならびに増
粘剤を溶解する有機溶剤とを混練して透明被膜形成用ペ
ーストとすることを特徴とするものである。
前記目的を達成するため、さらに本発明は、焼成によっ
て酸化鉛−酸化亜鉛の被膜を形成する化合物で有機溶剤
に可溶な有機鉛化合２費ならひに有機亜鉛化合物と、増
粘剤と、これら有機鉛化合物、有機亜鉛化合物ならひに
増粘剤を溶解する有機溶剤とを混練したペースト２基板
上に塗布し、焼成して酸化鉛−酸化亜鉛の透明被膜とし
たことを特徴とするものである。
て酸化鉛−酸化亜鉛の被膜を形成する化合物で有機溶剤
に可溶な有機鉛化合２費ならひに有機亜鉛化合物と、増
粘剤と、これら有機鉛化合物、有機亜鉛化合物ならひに
増粘剤を溶解する有機溶剤とを混練したペースト２基板
上に塗布し、焼成して酸化鉛−酸化亜鉛の透明被膜とし
たことを特徴とするものである。
本発明に用いられる前記有機鉛化合物としては、オクチ
ル酸鉛が好適である１゜ また本発明に用いらγしる前記有機亜鉛化合物としてＧ
ま、オクチル酸亜鉛が好適である。
ル酸鉛が好適である１゜ また本発明に用いらγしる前記有機亜鉛化合物としてＧ
ま、オクチル酸亜鉛が好適である。
ざらに本発明に用いら２する増粘剤としては、ニトロセ
ルロースやエチルセルロースナトのセルロース化合物が
好適である。
ルロースやエチルセルロースナトのセルロース化合物が
好適である。
前記有機鉛化合物、有機亜鉛化合物ならびに増粘剤を溶
解する有機溶剤としては、・ターピネオール、２−エチ
ルヘキサノール、ベンジルアルコールなどの高沸点アル
コール類、ベルジルアセテート、ツメチルフタレートな
どの高沸点エステル類。
解する有機溶剤としては、・ターピネオール、２−エチ
ルヘキサノール、ベンジルアルコールなどの高沸点アル
コール類、ベルジルアセテート、ツメチルフタレートな
どの高沸点エステル類。
カルピトール、ブチルカルピトール、ブチルセロソルブ
などの高沸点アルコールエーテル類などが用いられる。
などの高沸点アルコールエーテル類などが用いられる。
不接鉛化合物と有機亜鉛化合物と増粘剤と有機溶剤と全
所定の割合に混合してペース］・をつくり、所望の形状
にパターン化されたスクリーン版を用いて前記梨−スト
を・ガラスや七ラミックなどの基板上にスクリーン印刷
する。これを予備乾燥後に約４００℃以上の温度で焼成
する２ことにより、酸化鉛−１・、・夕化亜鉛の透明被
膜が所望のパターンに形成ごｔ″Ｌる。この被膜は透明
であることは勿論、膜強度が大で、比較的高い絶縁性を
有している。また２、〈−スト中の有機鉛化合物と廟機
亜鉛化合物のトータル量ヲ適当にコントロールすること
により、４，０００Ｘ以下の被膜を自由に形成すること
かできる。
所定の割合に混合してペース］・をつくり、所望の形状
にパターン化されたスクリーン版を用いて前記梨−スト
を・ガラスや七ラミックなどの基板上にスクリーン印刷
する。これを予備乾燥後に約４００℃以上の温度で焼成
する２ことにより、酸化鉛−１・、・夕化亜鉛の透明被
膜が所望のパターンに形成ごｔ″Ｌる。この被膜は透明
であることは勿論、膜強度が大で、比較的高い絶縁性を
有している。また２、〈−スト中の有機鉛化合物と廟機
亜鉛化合物のトータル量ヲ適当にコントロールすること
により、４，０００Ｘ以下の被膜を自由に形成すること
かできる。
次に本発明の実施例について説明する。
有機鉛化合物としてオクチル酸鉛を有機亜鉛化合物とし
てオクチル酸亜鉛ご用い、こｎら有機化合物の混合比を
種々変えて次のような組成のペーストを作成した。
てオクチル酸亜鉛ご用い、こｎら有機化合物の混合比を
種々変えて次のような組成のペーストを作成した。
〔有機化合物〕 ５重量％オクチル酸亜鉛
５×面重量％（Ｘ＋Ｙ＝１００ ） 〔増 粘 剤：ｌ １４ｆ’Ｃｆｉ：％ニ
トロセルロース １４重量％ 〔有機溶剤１ ８１ｉｉｑ６プチルセロソル
ブ ４０．５重量％ブチルカルピトール ４
０．５ Ｍ Ｍ： ％また、比較のため有機化合物とし
てオクチル酸鉛ならびにオクチル酸亜鉛をそれぞれ単独
に用いて同様にペーストを作成した。
５×面重量％（Ｘ＋Ｙ＝１００ ） 〔増 粘 剤：ｌ １４ｆ’Ｃｆｉ：％ニ
トロセルロース １４重量％ 〔有機溶剤１ ８１ｉｉｑ６プチルセロソル
ブ ４０．５重量％ブチルカルピトール ４
０．５ Ｍ Ｍ： ％また、比較のため有機化合物とし
てオクチル酸鉛ならびにオクチル酸亜鉛をそれぞれ単独
に用いて同様にペーストを作成した。
＋ｌ’ｔう各’−ストを、２５０メツシユでレジスト厚
１０μｍのステンレス斗ットからなるスクリーン版を用
いてソーダガラス基板上に印刷する。そして１５０℃で
１５分間予備乾燥し、引き続き５００℃で３０分間焼成
してそれぞれ透明金属酸化物波膜を形成する。
１０μｍのステンレス斗ットからなるスクリーン版を用
いてソーダガラス基板上に印刷する。そして１５０℃で
１５分間予備乾燥し、引き続き５００℃で３０分間焼成
してそれぞれ透明金属酸化物波膜を形成する。
こσ）各透明ネル膜の膜特性を調べた結果を次の表に示
す。なお表中の○印は良好、Δ印はやや悪い、×印Ｃま
思゛７いと判断したものを示す。また膜強度は一ミンン
ル型ひつかき試験を用いて調べ、光透過率は可視部での
最小光透過率を示す。
す。なお表中の○印は良好、Δ印はやや悪い、×印Ｃま
思゛７いと判断したものを示す。また膜強度は一ミンン
ル型ひつかき試験を用いて調べ、光透過率は可視部での
最小光透過率を示す。
表
この表から明らかなように、本発明のように有機溶剤し
こ可溶な有機鉛化合物と有機亜鉛化合物とを含むペース
トを用いて形成さｎた透明金属酸化物被膜は、膜厚が比
較的厚くても可視部の最小光透過率が高く、しかも高い
電気絶縁性を有している。また本発明のペーストを用い
たものは、スクリーン印刷性が良好で、印刷表面が非常
にきれいである。
こ可溶な有機鉛化合物と有機亜鉛化合物とを含むペース
トを用いて形成さｎた透明金属酸化物被膜は、膜厚が比
較的厚くても可視部の最小光透過率が高く、しかも高い
電気絶縁性を有している。また本発明のペーストを用い
たものは、スクリーン印刷性が良好で、印刷表面が非常
にきれいである。
ベース、ト中における有機鉛化合物と有機亜鉛化合物と
のトータル含有率と形成された被膜のクラック発生の有
無について横割した結果、前記トータル含有率が１０重
量％を越えるとクラックの発生がある。一方、トータル
含有率が２重量％未満では少量過ぎて被膜の形成かほと
んど不可能である。従ってペース）・中に：Ｉ６ ＆’
Ｊるイ１１ルー鉛イ）′１合′１η１とイ１機亜鉛化合
物とのトータル含有率を約２〜１０重量％の範囲に規制
すれば、膜厚５００Ｘ〜４０００Ｘの美しい透明金属酸
化物被膜が形成される。
のトータル含有率と形成された被膜のクラック発生の有
無について横割した結果、前記トータル含有率が１０重
量％を越えるとクラックの発生がある。一方、トータル
含有率が２重量％未満では少量過ぎて被膜の形成かほと
んど不可能である。従ってペース）・中に：Ｉ６ ＆’
Ｊるイ１１ルー鉛イ）′１合′１η１とイ１機亜鉛化合
物とのトータル含有率を約２〜１０重量％の範囲に規制
すれば、膜厚５００Ｘ〜４０００Ｘの美しい透明金属酸
化物被膜が形成される。
本発明は前述のような構成になっており、量産に適した
スクリーン印刷が可能で、／？ターン化カ容易な透明被
膜形成用ペーストならびに膜厚が比較的厚くても光透過
率ならひに絶縁性の高い透明被膜を形成することができ
る。
スクリーン印刷が可能で、／？ターン化カ容易な透明被
膜形成用ペーストならびに膜厚が比較的厚くても光透過
率ならひに絶縁性の高い透明被膜を形成することができ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）焼成によって酸化鉛−酸化亜鉛の被膜を形成する
化合物で有機溶剤に可溶な有機鉛化物ならびに有機亜鉛
化合物と、増粘剤と、前記有機鉛化合物、有機！ｌＦ鉛
化合物ならびに増粘剤を溶解する有機溶剤とからなるこ
とを特徴とする透明被膜形成用ペースト。 （２、特許請求の範囲第（１）項記載において、前記有
機鉛化物か、オクチル酸鉛であることを特徴とする透明
被膜形成用ペースト。 （３）特許請求の範囲第（１）項記載において、前記有
機亜鉛化合物が、オクチル酸亜鉛であることを特徴とす
る透明被膜形成用ペースト。 （４）特許請求の範囲第（１）項記載において、前記増
粘剤かセルロース化合物であること？特徴とする透明被
膜形成用ペースト。 （５）特許請求の範囲第（１）項記載において、前記有
機鉛化合物および有機亜鉛化合物のイースト中（こおけ
るトータル含有率が約２〜１０重Ｌ１チの範囲に規制さ
れていることを特徴とする透明被膜形成用ペースト。 （６）焼成によって酸化鉛−酸化亜鉛の被膜な形成する
化合物で有機溶剤に可溶な有機鉛化物ならびに有機亜鉛
化合物と、増粘剤と、ＭｉＪ記有機鉛化合物、有機亜鉛
化合物ならびに増粘剤を溶解する有機溶剤とを混練した
Ｒ−ストを基板上に塗布（・、焼成して酸化鉛−酸化亜
鉛の被膜を形成したこと′？ｉ：特徴とする透明被膜。 （７）特許請求の範囲第（６）項記載に１５いて、前記
有機鉛化合物および有機亜鉛化合物のイースト中におけ
るトータル含有率が約２〜１０重発チの範囲に規制され
ていること２特徴とする透明被膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13789482A JPS5927962A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | 透明被膜形成用ペ−ストおよび透明被膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13789482A JPS5927962A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | 透明被膜形成用ペ−ストおよび透明被膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5927962A true JPS5927962A (ja) | 1984-02-14 |
Family
ID=15209158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13789482A Pending JPS5927962A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | 透明被膜形成用ペ−ストおよび透明被膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5927962A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62278147A (ja) * | 1986-05-26 | 1987-12-03 | Dainippon Printing Co Ltd | 絵付けされている公衆電話ボツクス用強化ガラス板の製造方法 |
| JPH03126642A (ja) * | 1989-10-09 | 1991-05-29 | Asahi Glass Co Ltd | 機能薄膜付ガラスの製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5012110A (ja) * | 1973-06-06 | 1975-02-07 | ||
| JPS55140703A (en) * | 1979-04-20 | 1980-11-04 | Seiko Epson Corp | Thin film element |
-
1982
- 1982-08-10 JP JP13789482A patent/JPS5927962A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5012110A (ja) * | 1973-06-06 | 1975-02-07 | ||
| JPS55140703A (en) * | 1979-04-20 | 1980-11-04 | Seiko Epson Corp | Thin film element |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62278147A (ja) * | 1986-05-26 | 1987-12-03 | Dainippon Printing Co Ltd | 絵付けされている公衆電話ボツクス用強化ガラス板の製造方法 |
| JPH03126642A (ja) * | 1989-10-09 | 1991-05-29 | Asahi Glass Co Ltd | 機能薄膜付ガラスの製造方法 |
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