JPS6159351B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6159351B2
JPS6159351B2 JP55162774A JP16277480A JPS6159351B2 JP S6159351 B2 JPS6159351 B2 JP S6159351B2 JP 55162774 A JP55162774 A JP 55162774A JP 16277480 A JP16277480 A JP 16277480A JP S6159351 B2 JPS6159351 B2 JP S6159351B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
insulating film
organic
paste
transparent insulating
Prior art date
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Expired
Application number
JP55162774A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5785860A (en
Inventor
Yoshimi Kamijo
Mitsuru Kano
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Alps Electric Co Ltd filed Critical Alps Electric Co Ltd
Priority to JP55162774A priority Critical patent/JPS5785860A/ja
Publication of JPS5785860A publication Critical patent/JPS5785860A/ja
Publication of JPS6159351B2 publication Critical patent/JPS6159351B2/ja
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  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Inorganic Insulating Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、液晶セル等の透明絶縁被膜に係り、
特に液晶セルの下部基板等よりのアルカリイオン
溶出防止膜、基板上に形成された電極層と、液晶
層とを分離する絶縁膜、TN型液晶表示装置等に
おける液晶配向膜、などとして用いられる透明絶
縁被膜及び透明絶縁被膜形成用ペーストに関す
る。 従来、この種の透明絶縁被膜は、SiO2を主成
分とした膜で、真空蒸着法、浸漬法などにより形
成していた。しかし、真空蒸着法は、生産性が悪
るく、設備も大型になりがちであつた。又、浸漬
法は、不必要な箇所にも被膜が形成され、パター
ンの微細化に対応できない欠点があつた。 これらの欠点を解消するため、スクリーン印刷
法により基板上等にペーストを所望形状に印刷
し、焼成して透明絶縁被膜を形成する方法が試み
られているが、形成された被膜は、もろく、ポー
ラスであることが多く、被膜自体の特性は、真空
蒸着法、浸漬法により形成された被膜より劣つて
いた。 本発明は、叙上の欠点を解消し、成膜性がよ
く、電気絶縁性も良く、透明度良好、被膜強度
大、液晶分子に対する配向性が良く、スクリーン
印刷により形成可能な透明絶縁被膜を提供する目
的でなされたものである。 本発明の第1の特徴は、透明絶縁被膜の成分と
して、酸素の直接結合した、有機シリコン化合物
と有機ジルコニウム化合物とを焼成して得られる
SiO2とZrO2とを選択したことである。被膜組成
物として、成膜性の良い被膜をもたらすZrO2
SiO2に添加することにより、優れた特性の透明
絶縁被膜の形成に成功した。第2の特徴は、透明
絶縁被膜を形成するためのペーストの成分とし
て、酸素の直接結合した、有機シリコン化合物と
有機ジルコニウム化合物との混合物を使用したこ
とである。透明絶縁被膜をスクリーン印刷法にて
形成可能ならしめるためには、シリコン化合物、
ジルコニウム化合物が、高沸点(180℃以上)有
機溶媒に、安定に溶解する必要があり、かつ、ペ
ーストの焼成温度450〜700℃で完全に酸化物とな
るものでなければならず、ビニルトリス(2−メ
トキシエトキシ)シラン(V−5000)等の有機シ
リコン化合物、テトラアセチルアセトナートジル
コニウム(Zr(acac)4)等の有機ジルコニウム化
合物が該当する。有機シリコン化合物と、有機ジ
ルコニウム化合物との混合物を、有機溶媒に溶解
させ、さらに粘性剤を添加し、混合して透明絶縁
被膜形成用ペーストを作成するが、有機溶媒とし
ては、前記混合物に対して反応性が乏しく、沸点
が180〜350℃の性質があるものでなければなら
ず、ベンジルアルコール、ジプロピレングリコー
ル等の高沸点アルコール類、ベンジルアセテー
ト、カルビトールアセテート等の高沸点エステル
類、ブチルセロソルブ等の高沸点エーテル類など
の高沸点有機溶媒が適用できる。前記有機溶媒
は、二種以上を混合使用してよい。次に、粘性剤
としては、前記有機溶媒に対して溶解能がよく、
ペーストの焼成温度450〜700℃で完全に熱分解す
るものでなければならないが、エチルセルロー
ズ、ニトロセルローズ等のセルローズ系粘性剤が
適用できる。 本発明ペーストを、スクリーン印刷により、絶
縁基板上に印刷、焼成して得られる絶縁被膜は、
成膜性よく、電気絶縁性大、透明度良く、被膜強
度大で、しかも液晶分子に対する配向性が良いも
のであつた。 以下実施例をもとに、本発明をさらに詳しく説
明する。 実施例 有機ジルコニウム化合物として、テトラアセチ
ルアセトナートジルコニウム(Zr(acac)4)、有
機シリコン化合物として、ビニルトリス(2−メ
トキシエトキシ)シラン(V−5000)を用いて、
これらの混合比を変え、下記の組成により、ペー
ストを作成した。 金属部(Zr(acac)4+V−5000) 5wt% 溶媒部(ブチルセロソルブ) 83wt% 粘性剤(エチルセルローズ) 12wt% 又、金属部として、有機シリコン化合物V−
5000のみを用いてペーストを作成し、比較例とし
た。作成したペーストを、ステン250メツシユ、
レジスト厚10μmのスクリーン版を用いて、ソー
ダガラス絶縁基板上に印刷し、150℃で15分間予
備乾燥し、500℃で30分間焼成し、被膜を形成し
た。第1表は、これら被膜の特性比較結果を示し
たものである。
【表】 ×:不良 △:やや不良 ○:良好
第1表からわかるように、ZrO2を添加し作成
したペーストを用いて得られる透明絶縁被膜は、
有機ジルコニウム化合物の添加量が多い程密着強
度大、表面抵抗が高く、透明度良好であつた。
又、ZrO2添加により得られるペーストの印刷
性、成膜性も良好であつた。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 酸素の直接結合した、有機ジルコニウム化合
    物と、有機シリコン化合物との混合物を焼成して
    得られる、ZrO2−SiO2系酸化物を含有した透明
    絶縁被膜。
JP55162774A 1980-11-19 1980-11-19 Transparent insulating film and paste for forming transparent insulating film Granted JPS5785860A (en)

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JP5004786A Division JPS61215668A (ja) 1986-03-06 1986-03-06 透明絶縁被膜形成用ペースト

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JPS5785860A JPS5785860A (en) 1982-05-28
JPS6159351B2 true JPS6159351B2 (ja) 1986-12-16

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KR102202101B1 (ko) 2019-11-28 2021-01-14 주식회사 신아티앤씨 다관능 아크릴레이트 화합물, 이를 포함하는 양자점층 형성용 조성물 및 광학 필름

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JP2639537B2 (ja) * 1987-10-23 1997-08-13 東京応化工業株式会社 絶縁性金属酸化膜の形成方法
JP2512781B2 (ja) * 1988-02-01 1996-07-03 アルプス電気株式会社 液晶表示素子の製造方法

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