JPS5928032Y2 - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
- Publication number
- JPS5928032Y2 JPS5928032Y2 JP10767880U JP10767880U JPS5928032Y2 JP S5928032 Y2 JPS5928032 Y2 JP S5928032Y2 JP 10767880 U JP10767880 U JP 10767880U JP 10767880 U JP10767880 U JP 10767880U JP S5928032 Y2 JPS5928032 Y2 JP S5928032Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum processing
- cleaning device
- chamber
- vacuum
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は主として合成樹脂フィルムから成るサブストレ
ートに真空蒸着処理を施す式の装置に関する。
ートに真空蒸着処理を施す式の装置に関する。
従来この種装置として、例えば第１図示のように合成樹
脂フィルムその他のサブストレートａを真空処理室す内
で走行させつ＼これに蒸発源Ｃによる蒸着処理と、その
上流側で１対の電極ｄ、ｄから成るイオンクリーニング
装置ｅによるイオンクリーニング処理とを施すようにし
た式のものは知られるが、この場合該室す内は比較的高
真空であり、例えば区劃壁ｆで区劃される下側の室内は
１０−５トール、上側の室内は１Ｏ−３）−ル程度であ
り、かくて該クリーニング装置ｅを該上側の室内に設備
する場合、そのま＼では高真空で両電極間＝ｄ、ｄに放
電がなく、かくてグロー放電を許容すべくその外周にク
リーニング室ｇを備え、その内部を外部からのガスの導
入により例えば１０−１ト一ル程度の内圧とすべきもの
で、か＼るものでは該室ｇの両側壁には該サブストレー
）ａの通過を許容すべく各スリットを形成させるを要し
、高い加工精度が要求されると共に作業性を損い勝ちで
ある等の不都合を伴う。
脂フィルムその他のサブストレートａを真空処理室す内
で走行させつ＼これに蒸発源Ｃによる蒸着処理と、その
上流側で１対の電極ｄ、ｄから成るイオンクリーニング
装置ｅによるイオンクリーニング処理とを施すようにし
た式のものは知られるが、この場合該室す内は比較的高
真空であり、例えば区劃壁ｆで区劃される下側の室内は
１０−５トール、上側の室内は１Ｏ−３）−ル程度であ
り、かくて該クリーニング装置ｅを該上側の室内に設備
する場合、そのま＼では高真空で両電極間＝ｄ、ｄに放
電がなく、かくてグロー放電を許容すべくその外周にク
リーニング室ｇを備え、その内部を外部からのガスの導
入により例えば１０−１ト一ル程度の内圧とすべきもの
で、か＼るものでは該室ｇの両側壁には該サブストレー
）ａの通過を許容すべく各スリットを形成させるを要し
、高い加工精度が要求されると共に作業性を損い勝ちで
ある等の不都合を伴う。
本考案はか＼る不都合のない装置を得ることをその目的
としたもので、合成樹脂フィルムその他のサブストレー
ト１を真空処理室２内で走行させてこれに蒸発源３によ
る真空蒸着その他の真空処理と、その上流側でｌ対の電
極４，４から成るイオンクリーニング装置５によるイオ
ンクリーニング処理とを施す式のものにおいて、該クリ
ーニング装置５の各電極４を筒状の電極本体４ａで構成
させ、その内部にドーナツ状の磁石６の複数個を並設し
て、該クリーニング装置５を該磁石６により磁場を作用
されるマグネトロン放電型に構成することを特徴とする
。
としたもので、合成樹脂フィルムその他のサブストレー
ト１を真空処理室２内で走行させてこれに蒸発源３によ
る真空蒸着その他の真空処理と、その上流側でｌ対の電
極４，４から成るイオンクリーニング装置５によるイオ
ンクリーニング処理とを施す式のものにおいて、該クリ
ーニング装置５の各電極４を筒状の電極本体４ａで構成
させ、その内部にドーナツ状の磁石６の複数個を並設し
て、該クリーニング装置５を該磁石６により磁場を作用
されるマグネトロン放電型に構成することを特徴とする
。
第２図及び第３図はその１例を示し、真空処理室２内は
区劃壁７により上側の室２ａと下側の室２ｂとに区劃さ
れ、上側の室２ａ内は例えば１０−３トール、下側の室
２ｂ内は例えば１０−５トールとされるものでこの点は
従来のものと特に異らない。
区劃壁７により上側の室２ａと下側の室２ｂとに区劃さ
れ、上側の室２ａ内は例えば１０−３トール、下側の室
２ｂ内は例えば１０−５トールとされるものでこの点は
従来のものと特に異らない。
図面で８は両電極４，４間の例えば５００〜６００Ｖの
交流の電源を示す。
交流の電源を示す。
尚各電極４は例えば第３図に明示するように筒状の電極
本体４ａから戒り、その内部にドーナツ状の磁石６の複
数個を並設するもので、該本体４ａ内は冷却水の通過に
備えられるようにした。
本体４ａから戒り、その内部にドーナツ状の磁石６の複
数個を並設するもので、該本体４ａ内は冷却水の通過に
備えられるようにした。
図面で９，１０は冷却水の流入口及び流出口を示す。
尚サブストレート１は合成樹脂フィルムから成り、上側
の室２ａ内の１対の巻枠１１，１１間を中間下側のドラ
ム１２の周面を介して走行する。
の室２ａ内の１対の巻枠１１，１１間を中間下側のドラ
ム１２の周面を介して走行する。
その動作を説明するに、サブストレート１はその走行に
際し、先づイオンクリーニング装置５によるイオンクリ
ーニング処理と、次で蒸発源３による真空蒸着処理とを
順次に施されるもので、この点は従来のものと特に異る
ことなく、この際該装置５は磁石６を備えてマグネトロ
ン放電型に構成されるもので、該室２内の比較的高真空
にも係らず両電極４，４間に所定の放電を生じ、クリー
ニング効果を伴う。
際し、先づイオンクリーニング装置５によるイオンクリ
ーニング処理と、次で蒸発源３による真空蒸着処理とを
順次に施されるもので、この点は従来のものと特に異る
ことなく、この際該装置５は磁石６を備えてマグネトロ
ン放電型に構成されるもので、該室２内の比較的高真空
にも係らず両電極４，４間に所定の放電を生じ、クリー
ニング効果を伴う。
このように本考案によるときはイオンクリーニング装置
５を磁石６を備えたマグネトロン放電型とするもので、
外周のクリーニング室を不要とし、かくて該室を必要と
する従来のものの前記した不都合を無くし得られる効果
を有する。
５を磁石６を備えたマグネトロン放電型とするもので、
外周のクリーニング室を不要とし、かくて該室を必要と
する従来のものの前記した不都合を無くし得られる効果
を有する。
第１図は従来例の説明線図、第２図は本案装置の１例の
裁断正面線図、第３図はその要部の一部を截除した拡大
正面図である。 １・・・・・・サブストレート、２・・・・・・真空処
理室、３・・・・・・蒸発源、４，４・・・・・・電極
、４ａ、４ａ・・・・・・電極本体、５・・・・・・イ
オンクリーニング装置、６・・・・・・磁石。
裁断正面線図、第３図はその要部の一部を截除した拡大
正面図である。 １・・・・・・サブストレート、２・・・・・・真空処
理室、３・・・・・・蒸発源、４，４・・・・・・電極
、４ａ、４ａ・・・・・・電極本体、５・・・・・・イ
オンクリーニング装置、６・・・・・・磁石。
Claims (1)
- 合成樹脂フィルムその他のサブストレート１を真空処理
室２内で走行させてこれに蒸発源３による真空蒸着その
他の真空処理と、その上流側で１対の電極４，４から戒
るイオンクリーニング装置５によるイオンクリーニング
処理とを施す式のものにおいて、該クリーニング装置５
の各電極４を筒状の電極本体４ａで構成させ、その内部
にドーナツ状の磁石６の複数個を並設して、該クリーニ
ング装置５を該磁石６により磁場を作用されるマグネト
ロン放電型に構成することを特徴とする真空処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10767880U JPS5928032Y2 (ja) | 1980-07-31 | 1980-07-31 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10767880U JPS5928032Y2 (ja) | 1980-07-31 | 1980-07-31 | 真空処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5734578U JPS5734578U (ja) | 1982-02-23 |
| JPS5928032Y2 true JPS5928032Y2 (ja) | 1984-08-14 |
Family
ID=29468965
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10767880U Expired JPS5928032Y2 (ja) | 1980-07-31 | 1980-07-31 | 真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5928032Y2 (ja) |
-
1980
- 1980-07-31 JP JP10767880U patent/JPS5928032Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5734578U (ja) | 1982-02-23 |
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