JPS5928331B2 - 新規高分子物質の製造方法 - Google Patents
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Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は分子内にアクリルエステル基を有する新規高分
子物質の製造方法に関し、更に詳しくは不飽和高分子物
質と重合性不飽和モノマーとをN−・・口アミド化合物
の存在下で反応させることからなる分子内にアクリル酸
エステル基を有する、原料の高分子物質とは異なつた高
反応性を有する高分子物質を製造する方法に関する。
子物質の製造方法に関し、更に詳しくは不飽和高分子物
質と重合性不飽和モノマーとをN−・・口アミド化合物
の存在下で反応させることからなる分子内にアクリル酸
エステル基を有する、原料の高分子物質とは異なつた高
反応性を有する高分子物質を製造する方法に関する。
近年、公知高分子物質を改質することにより原料の高分
子物質とは異なつた性質を具備した高分子物質を得るこ
とは、各種技術分野でその用途に適した性能を有する高
分子材料を供給するための有利な手段として積極的に行
なわれている。
子物質とは異なつた性質を具備した高分子物質を得るこ
とは、各種技術分野でその用途に適した性能を有する高
分子材料を供給するための有利な手段として積極的に行
なわれている。
例えば高分子物質を改質し新規な高分子物質を製造する
方法としては、従来よりグラフト共重合、ブロック共重
合、ポリマーブレンド、或いは化学反応による誘導体の
生成などが知られている〔竹材、化学」旦(3)9(1
971)、CARL、etal、、J、Am、Cれem
、Soc、、五 858(1941)、wINKLER
9etal・、J−org、Chem″9に、に183
5(1960)〕。本発明者らは更に新規高分子誘導体
を製造すべく種々検討した結果、当該技術分野で全く未
知であり、しかも公知技術から何ら想到することのでき
ない性質を具備した高分子誘導体の製造に成功した〜 A 即ち本発明は一般式X−N″(ここでXはハ\pロゲン
原子を表わし、Aはカルボン酸残基、スルホン酸残基、
または炭酸モノエステル残基を表わし、Bは水素原子、
・・ロゲン原子、またはカルボン酸残基を表わす)で示
されるN−・・口アミド化合物の存在下で、液状の、も
しくは溶液状にした炭素一炭素不飽和二重結合を有する
高分子物質と下記一般式COO+(CH2)m−0〕I
H(ここでRは水素原子またはメチル基を表わし、nは
2〜5から選ばれる整数を、mは1〜4から選ばれる整
数を、lは1〜30から選ばれる整数をそれぞれ表わす
)で示される重合性不飽和モノマーの少なくとも1つと
を反応させることを特徴とする新規高分子物質の製造方
法である。
方法としては、従来よりグラフト共重合、ブロック共重
合、ポリマーブレンド、或いは化学反応による誘導体の
生成などが知られている〔竹材、化学」旦(3)9(1
971)、CARL、etal、、J、Am、Cれem
、Soc、、五 858(1941)、wINKLER
9etal・、J−org、Chem″9に、に183
5(1960)〕。本発明者らは更に新規高分子誘導体
を製造すべく種々検討した結果、当該技術分野で全く未
知であり、しかも公知技術から何ら想到することのでき
ない性質を具備した高分子誘導体の製造に成功した〜 A 即ち本発明は一般式X−N″(ここでXはハ\pロゲン
原子を表わし、Aはカルボン酸残基、スルホン酸残基、
または炭酸モノエステル残基を表わし、Bは水素原子、
・・ロゲン原子、またはカルボン酸残基を表わす)で示
されるN−・・口アミド化合物の存在下で、液状の、も
しくは溶液状にした炭素一炭素不飽和二重結合を有する
高分子物質と下記一般式COO+(CH2)m−0〕I
H(ここでRは水素原子またはメチル基を表わし、nは
2〜5から選ばれる整数を、mは1〜4から選ばれる整
数を、lは1〜30から選ばれる整数をそれぞれ表わす
)で示される重合性不飽和モノマーの少なくとも1つと
を反応させることを特徴とする新規高分子物質の製造方
法である。
本発明方法に従えば広汎な不飽和高分子物質中にアクリ
ル酸エステル基を導入することが出来、原料の不飽和高
分子物質とは異なつた、極めて反皿i富む高分子物質を
製造することが出来る。
ル酸エステル基を導入することが出来、原料の不飽和高
分子物質とは異なつた、極めて反皿i富む高分子物質を
製造することが出来る。
例えばその代表的な一例として、N−ハロアミド化合物
としてN,N−ジクロロエチルウレタンの存在下で、ベ
ンゼン溶媒中、1,4型のポリブタジエンに対し重合性
不飽和モノマーとしてアクリル酸またはその誘導体を反
応させた場合、その反応機構は次のように示すことがで
きる。(ここでmは1〜4から選ばれる整数を、lは1
〜30から選ばれる整数をそれぞれ表わし、Rは水素原
子またはメチル基を表わす)この反応においては反応助
剤として用いたN,N−ジクロロエチルウレタンがアク
リル酸誘導体の二重結合に反応したり、カルボキシル基
が他のアクリル酸誘導体の二重結合に付加したりするこ
とはない。
としてN,N−ジクロロエチルウレタンの存在下で、ベ
ンゼン溶媒中、1,4型のポリブタジエンに対し重合性
不飽和モノマーとしてアクリル酸またはその誘導体を反
応させた場合、その反応機構は次のように示すことがで
きる。(ここでmは1〜4から選ばれる整数を、lは1
〜30から選ばれる整数をそれぞれ表わし、Rは水素原
子またはメチル基を表わす)この反応においては反応助
剤として用いたN,N−ジクロロエチルウレタンがアク
リル酸誘導体の二重結合に反応したり、カルボキシル基
が他のアクリル酸誘導体の二重結合に付加したりするこ
とはない。
このことは他の反応助剤を使用した場合(・でつ(・て
も同様であり、本発明によつて得られた新事実である。
本発明によれば、分子内にアクリル酸エステル基が導入
された新規高分子物質を製造することができる。
も同様であり、本発明によつて得られた新事実である。
本発明によれば、分子内にアクリル酸エステル基が導入
された新規高分子物質を製造することができる。
この得られた新規高分子物質をアクリル酸エステル基に
基づく顕著な反応性を有し、例え−ブタジエンースチレ
ン共重合体、イソブチレン−イソプレン共重合体、アク
リル酸−ブタジエン共重合体、メタクリル酸−ブタジエ
ン共重合体、メチルアクリレートーブタジエン共重合体
、メチルメタクリレートーブタジエン共重合体、エチレ
ンープロピレンーシクロペンタジエン共重合体、エチレ
ンープロピレン−5−エチリデン−2−ノルボルネン共
重合体、エチレンープロピレンー1,4−ヘキサジエン
共重合体など分子中に不飽和二重結合を有する広汎な高
分子物質であり更には分子末端に不飽和二重結合を有す
るポリブテンなども使用することが出来る。これら高分
子物質の分子量は何ら限定されるものではなく、その使
用目的、用途により適宜選択して用いられるが、分子量
約500以上のものを用いるのが好ましい。本発明にお
いては上述した高分子物質は多くの場合適当な溶媒に溶
解させー(溶液状で用いられるが、常態で液状もしくは
粘稠物として得られる高分子物質は、そのままの状態で
反応に用いることができることは云うまでもない。使用
される溶媒は用いる高分子物質に対して溶解性の良いも
の、且つN−ハロアミドおよび自己重合性不飽和モノマ
ーを安定に溶解するものが選択され単一のままあるいは
混合溶媒として用いられる。溶媒の具体例を挙げるなら
ば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂
肪族系溶媒、シクロヘキサンなどの脂環族系溶媒、ベン
ゼン、ニトロベンゼン、ハロゲン化ベンゼン、トルエン
、キシレンなどの芳香族系溶媒、ジオキサン、テトラヒ
ド狛フランなどのエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸メ
チルなどのエステル系溶媒、メチルエチケトン、シクロ
ヘキサノン、アセトン、メチルイソブチルケトンなどの
ケトン系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素などのハロゲン化炭化水素溶媒などであり、中でも好
ましくはトルエン、ベンゼン テトラヒドロフラン ア
セトン ジクロ)1)ルメタン、ヘプタン、酢酸エチル
、メチルエチルケトンである。
基づく顕著な反応性を有し、例え−ブタジエンースチレ
ン共重合体、イソブチレン−イソプレン共重合体、アク
リル酸−ブタジエン共重合体、メタクリル酸−ブタジエ
ン共重合体、メチルアクリレートーブタジエン共重合体
、メチルメタクリレートーブタジエン共重合体、エチレ
ンープロピレンーシクロペンタジエン共重合体、エチレ
ンープロピレン−5−エチリデン−2−ノルボルネン共
重合体、エチレンープロピレンー1,4−ヘキサジエン
共重合体など分子中に不飽和二重結合を有する広汎な高
分子物質であり更には分子末端に不飽和二重結合を有す
るポリブテンなども使用することが出来る。これら高分
子物質の分子量は何ら限定されるものではなく、その使
用目的、用途により適宜選択して用いられるが、分子量
約500以上のものを用いるのが好ましい。本発明にお
いては上述した高分子物質は多くの場合適当な溶媒に溶
解させー(溶液状で用いられるが、常態で液状もしくは
粘稠物として得られる高分子物質は、そのままの状態で
反応に用いることができることは云うまでもない。使用
される溶媒は用いる高分子物質に対して溶解性の良いも
の、且つN−ハロアミドおよび自己重合性不飽和モノマ
ーを安定に溶解するものが選択され単一のままあるいは
混合溶媒として用いられる。溶媒の具体例を挙げるなら
ば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂
肪族系溶媒、シクロヘキサンなどの脂環族系溶媒、ベン
ゼン、ニトロベンゼン、ハロゲン化ベンゼン、トルエン
、キシレンなどの芳香族系溶媒、ジオキサン、テトラヒ
ド狛フランなどのエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸メ
チルなどのエステル系溶媒、メチルエチケトン、シクロ
ヘキサノン、アセトン、メチルイソブチルケトンなどの
ケトン系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素などのハロゲン化炭化水素溶媒などであり、中でも好
ましくはトルエン、ベンゼン テトラヒドロフラン ア
セトン ジクロ)1)ルメタン、ヘプタン、酢酸エチル
、メチルエチルケトンである。
本発明において使用される重合性不飽和モノマーは下記
一般式で示されるような、分子内にカルボキシル基もし
くはヒドロキシル基を有するアクリル酸またはアクリル
酸誘導体である。
一般式で示されるような、分子内にカルボキシル基もし
くはヒドロキシル基を有するアクリル酸またはアクリル
酸誘導体である。
(ここでRは水素原子またはメチル基を表わし、nは2
〜5から選ばれる整数を、mは1〜4から選ばれる整数
を、lは1〜30から選ばれる整数をそれそれ表わす)
具体例としてはアクリル酸、メタアクリル酸、2−ヒド
ロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタ
アクリレート、N−メチロールアクリルアミド、N−メ
チロールメタアクリルアミド、ポリエチレングリコール
モノアクリレート、ポリエチレングリコールモノメタア
クリレート、ポリテトラメチレングリコールモノメタア
クリレートなどが挙げられる。
〜5から選ばれる整数を、mは1〜4から選ばれる整数
を、lは1〜30から選ばれる整数をそれそれ表わす)
具体例としてはアクリル酸、メタアクリル酸、2−ヒド
ロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタ
アクリレート、N−メチロールアクリルアミド、N−メ
チロールメタアクリルアミド、ポリエチレングリコール
モノアクリレート、ポリエチレングリコールモノメタア
クリレート、ポリテトラメチレングリコールモノメタア
クリレートなどが挙げられる。
この重合性不飽和モノマーは不飽和高分子物質中に含有
される二重結合1モルに対し1モル以下の量で広く選択
、使用される本発明にお(・て使用される反応助剤は下
記一般式で示されるN−ハロアミドである。
される二重結合1モルに対し1モル以下の量で広く選択
、使用される本発明にお(・て使用される反応助剤は下
記一般式で示されるN−ハロアミドである。
(ここでXはハロゲン原子を表わし、Aはカルボン酸残
基、スルホン酸残基、もしくは炭酸モノエステル残基を
表わし、Bは水素原子、ハロゲン原子、もしくはカルボ
ン酸残基を表わす)具体例としては炭酸モノエステル残
基を持つものとして、N,N−ジクロロエチルウレタン
、N,N−ジクロロメチルウレタン、N,N−ジクロロ
プロピルウレタン、N,N−ジクロロブチルウレタン、
N,N−ジクロロペンチルウレタン、N,N−ジクロロ
ヘキシルウレタン、N,N−ジブロモメチルウレタン、
N,N−ジブロモエチルウジタン、N,N−ジブロモプ
ロピルウレタン、N,N−ジブロモブチルウレタン、N
,N−ジブロモペンチルウレタン、N,N−ジブロモヘ
キシルウレタン、N,N−ジクロロアリルウレタン、N
,N−ジクロロイソブロピルウレタン、N,N−ジクロ
ロ−sec−ブチルウレタン、N,N−ジクロロベンジ
ルウレタン、N,N−ジクロロフエニルウレタン、N,
N−ジクロロメタリルウレタンなどがあるが、この他に
もN,N,N′,N/−テトラクロロエチレングリコー
ルビスカルバメート、N,N,N′,N/−テトラブロ
モエチレングリコールビスカルバメートも使用する′S
:とが出来る。
基、スルホン酸残基、もしくは炭酸モノエステル残基を
表わし、Bは水素原子、ハロゲン原子、もしくはカルボ
ン酸残基を表わす)具体例としては炭酸モノエステル残
基を持つものとして、N,N−ジクロロエチルウレタン
、N,N−ジクロロメチルウレタン、N,N−ジクロロ
プロピルウレタン、N,N−ジクロロブチルウレタン、
N,N−ジクロロペンチルウレタン、N,N−ジクロロ
ヘキシルウレタン、N,N−ジブロモメチルウレタン、
N,N−ジブロモエチルウジタン、N,N−ジブロモプ
ロピルウレタン、N,N−ジブロモブチルウレタン、N
,N−ジブロモペンチルウレタン、N,N−ジブロモヘ
キシルウレタン、N,N−ジクロロアリルウレタン、N
,N−ジクロロイソブロピルウレタン、N,N−ジクロ
ロ−sec−ブチルウレタン、N,N−ジクロロベンジ
ルウレタン、N,N−ジクロロフエニルウレタン、N,
N−ジクロロメタリルウレタンなどがあるが、この他に
もN,N,N′,N/−テトラクロロエチレングリコー
ルビスカルバメート、N,N,N′,N/−テトラブロ
モエチレングリコールビスカルバメートも使用する′S
:とが出来る。
またスルホン酸残基を有するものとしては代表的なもの
としてN,N−ジクロロベンゼンスルホンアミド、N,
N−ジブロモベンゼンスルホンアミドがある。その他の
N,N−ジハロスルホンアミド基を有する化合物として
はN,N−ジクロロメチルスルホンアミド、N,N−ジ
ブロモメチルスルホンアミド、N,N−ジクロロエチル
スルホンアミド、N,N−ジブロモエチルスルホンアミ
ド、N,N−ジクロロプロピルスルホンアミド、N,N
−ジブロモプロピルスルホンアミド、N,N−ジクロロ
フチルスルホンアミド、N,N−ジブロモブチルスルホ
ンアミド、N,N−ジクロロペンチルスルホンアミド、
N,N−ジフロムペンチルスルホンアミド、N,N−ジ
クロロヘキシルスルホンアミド、N,N−ジブロモヘキ
シルスルホンアミド、N,N−ジクロロ−p−トルエン
スルホンアミド、N,N−ジブロモ−pトルエンスルホ
ンアミド、N,N−ジクロロ−0−トルエンスルホンア
ミド、N,N−ジブロモ−0−トルエンスルホンアミド
、N,N−ジクロロ−p−クロロベンゼンスルホンアミ
ド、N,N−ジブロモ−p−クロロベンゼンスルホンア
ミド、N,N−ジクロロ−p−ブロモベンゼンスルホン
アミド、N,N−ジブロモ−p−ブロモベンゼンスルモ
ンアミド、N,N−ジクロロ−p−ヨードベンゼンスル
ホンアミド、N,Nジブロモ−p−ヨードベンゼンスル
ホンアミドがあり、更にN,N,NZN′,−テトラク
ロロ−1,3−ベンゼンジスルホンアミド、N,N,N
ZN′ーテトラブロモ−1 3−ベンゼンジスルホンア
ミド、N,N,N′.,N′−テトラブロモ−1,5−
ナフタリンジスルホンアミド、N,N,N′,N/テト
ラクロロ−1,5−ナフタリンジスルホンアミド、N,
N,N′,N/−テトラクロローオキシビス(ベンゼン
スルホンアミド)、N,N,N/,N′テトラブロモー
オキシビス(ベンゼンスルホンアミド)、N,N,N/
,マーテトラクロロ−4,4−ビフエニルジスルホンア
ミド、N,N,NZマーテトラブロモ−4,4−ビフエ
ニルジスルホンアミド、N,N,N/,N′,マ,N〃
−ヘキサクロロ−1,3,5−トリスルホンアミドなど
も用いることが出来る。またカルボン酸残基を有するも
のとしては、N,N−ジクロロアセタミド、N,N−ジ
ブロモアセタミド、N−クロルコハク酸イミド、N−ブ
ロモコハク酸イミドなどがある。本発明を実施するにあ
たり、上記反応助剤は重合性不飽和モノマーに対しモル
比にして1:1で使用されるが、この比率は本発明にお
ける決定的な因子ではなく、目的に応じ決定することが
できる。また反応温度も重要な因子とはなり得ないが生
成物の安定性を考慮して、例えば−4『C〜80℃、中
でも−10°C〜400Cの範囲が適当である。本発明
を実施するにあたり反応助剤、N−ハロアミド化合物の
添加は重合性不飽和モノマーと同時か、それより後に行
なうのが好ましい。
としてN,N−ジクロロベンゼンスルホンアミド、N,
N−ジブロモベンゼンスルホンアミドがある。その他の
N,N−ジハロスルホンアミド基を有する化合物として
はN,N−ジクロロメチルスルホンアミド、N,N−ジ
ブロモメチルスルホンアミド、N,N−ジクロロエチル
スルホンアミド、N,N−ジブロモエチルスルホンアミ
ド、N,N−ジクロロプロピルスルホンアミド、N,N
−ジブロモプロピルスルホンアミド、N,N−ジクロロ
フチルスルホンアミド、N,N−ジブロモブチルスルホ
ンアミド、N,N−ジクロロペンチルスルホンアミド、
N,N−ジフロムペンチルスルホンアミド、N,N−ジ
クロロヘキシルスルホンアミド、N,N−ジブロモヘキ
シルスルホンアミド、N,N−ジクロロ−p−トルエン
スルホンアミド、N,N−ジブロモ−pトルエンスルホ
ンアミド、N,N−ジクロロ−0−トルエンスルホンア
ミド、N,N−ジブロモ−0−トルエンスルホンアミド
、N,N−ジクロロ−p−クロロベンゼンスルホンアミ
ド、N,N−ジブロモ−p−クロロベンゼンスルホンア
ミド、N,N−ジクロロ−p−ブロモベンゼンスルホン
アミド、N,N−ジブロモ−p−ブロモベンゼンスルモ
ンアミド、N,N−ジクロロ−p−ヨードベンゼンスル
ホンアミド、N,Nジブロモ−p−ヨードベンゼンスル
ホンアミドがあり、更にN,N,NZN′,−テトラク
ロロ−1,3−ベンゼンジスルホンアミド、N,N,N
ZN′ーテトラブロモ−1 3−ベンゼンジスルホンア
ミド、N,N,N′.,N′−テトラブロモ−1,5−
ナフタリンジスルホンアミド、N,N,N′,N/テト
ラクロロ−1,5−ナフタリンジスルホンアミド、N,
N,N′,N/−テトラクロローオキシビス(ベンゼン
スルホンアミド)、N,N,N/,N′テトラブロモー
オキシビス(ベンゼンスルホンアミド)、N,N,N/
,マーテトラクロロ−4,4−ビフエニルジスルホンア
ミド、N,N,NZマーテトラブロモ−4,4−ビフエ
ニルジスルホンアミド、N,N,N/,N′,マ,N〃
−ヘキサクロロ−1,3,5−トリスルホンアミドなど
も用いることが出来る。またカルボン酸残基を有するも
のとしては、N,N−ジクロロアセタミド、N,N−ジ
ブロモアセタミド、N−クロルコハク酸イミド、N−ブ
ロモコハク酸イミドなどがある。本発明を実施するにあ
たり、上記反応助剤は重合性不飽和モノマーに対しモル
比にして1:1で使用されるが、この比率は本発明にお
ける決定的な因子ではなく、目的に応じ決定することが
できる。また反応温度も重要な因子とはなり得ないが生
成物の安定性を考慮して、例えば−4『C〜80℃、中
でも−10°C〜400Cの範囲が適当である。本発明
を実施するにあたり反応助剤、N−ハロアミド化合物の
添加は重合性不飽和モノマーと同時か、それより後に行
なうのが好ましい。
なぜならばN−・・ロアミドはそれ自体不飽和高分子物
質の二重結合に対し反応性を有するからである。しかし
反応助剤としてアルキルハイポハライトを使用する場合
には、この添加順序は特に重要な因子とならない。従つ
て本発明は通常次のように、即ち不飽和高分子物質を溶
解した溶解中に予め重合性不飽和モノマーを添加してお
き、この混合物に対して反応助剤のN−ハロアミド化合
物を溶解した溶液を添加するか、或いは不飽和高分子物
質を溶解した溶液中に重合性不飽和モノマーと反応助剤
とを溶解した溶液を添加するかして実施される。
質の二重結合に対し反応性を有するからである。しかし
反応助剤としてアルキルハイポハライトを使用する場合
には、この添加順序は特に重要な因子とならない。従つ
て本発明は通常次のように、即ち不飽和高分子物質を溶
解した溶解中に予め重合性不飽和モノマーを添加してお
き、この混合物に対して反応助剤のN−ハロアミド化合
物を溶解した溶液を添加するか、或いは不飽和高分子物
質を溶解した溶液中に重合性不飽和モノマーと反応助剤
とを溶解した溶液を添加するかして実施される。
反応は緩和に進行し、数分から数時間で完結する。
反応後、得られた生成物は通常の方法、即ち非溶媒の添
加による沈澱法、減圧蒸留法、凍結乾燥法などにより精
製分離される。尚、精製は生成物の安定性を考慮し室温
以下で実施するのが好ましい本発明は以上述べたような
構成からなり、本発明方法においては原料不飽和高分子
物質の種類、分子量および該不飽和高分子物質に対し反
応、置換させられる重合性不飽和モノマーの種類や置換
の程度を変化させることによりエラストマー状物質から
樹脂状物質に到るまで様々な性状、性質を有する生成物
を得ることができる。
加による沈澱法、減圧蒸留法、凍結乾燥法などにより精
製分離される。尚、精製は生成物の安定性を考慮し室温
以下で実施するのが好ましい本発明は以上述べたような
構成からなり、本発明方法においては原料不飽和高分子
物質の種類、分子量および該不飽和高分子物質に対し反
応、置換させられる重合性不飽和モノマーの種類や置換
の程度を変化させることによりエラストマー状物質から
樹脂状物質に到るまで様々な性状、性質を有する生成物
を得ることができる。
しかも得られた生成物は、その分子内に導入されたアク
リル酸エステル基に基づく顕著なラジカル反応性を有す
るものであり、例えば酸素を遮断することによりアクリ
ル酸エステル基が架橋反応を起こして硬化する所謂嫌気
性の硬化性能を示す。また、この生成物はラジカル発生
剤の添加または加熱、紫外線照射などによつても同様の
硬化性能を発揮するものであり、そのままで、または他
のビニルモノマーと混合し、接着剤、塗料、配合剤、充
填剤として、また感光性能を生かして感光性材料として
幅広く工業材料となり得るものである。次に本発明を実
施例により具体的に説明するが本発明は以下の実施例に
より何ら限定されるものではない。
リル酸エステル基に基づく顕著なラジカル反応性を有す
るものであり、例えば酸素を遮断することによりアクリ
ル酸エステル基が架橋反応を起こして硬化する所謂嫌気
性の硬化性能を示す。また、この生成物はラジカル発生
剤の添加または加熱、紫外線照射などによつても同様の
硬化性能を発揮するものであり、そのままで、または他
のビニルモノマーと混合し、接着剤、塗料、配合剤、充
填剤として、また感光性能を生かして感光性材料として
幅広く工業材料となり得るものである。次に本発明を実
施例により具体的に説明するが本発明は以下の実施例に
より何ら限定されるものではない。
更に、本発明の意図または範囲から逸脱することなしに
各種の変更並びに修正がなされ得ることは当業界の技術
に精通する者には明らかである。実施例 1 液状ポリブタジエンR−45HT(出光石油化学(株)
社製、液状ポリブタジエン)509をトルエン509に
溶解したものを3つ用意し、それぞれにメタクリル酸8
9を添加した。
各種の変更並びに修正がなされ得ることは当業界の技術
に精通する者には明らかである。実施例 1 液状ポリブタジエンR−45HT(出光石油化学(株)
社製、液状ポリブタジエン)509をトルエン509に
溶解したものを3つ用意し、それぞれにメタクリル酸8
9を添加した。
この混合物を攪拌しながら、N,N−ジクロロエチルウ
レタン14.49(メタクリル酸に対し約等モノ(ハ)
をトルエン109に希釈した溶液、N,N−ジクロロト
ルエンスルホンアミド22.29(メタクリル酸に対し
約等モル)を同じくトルエン209に希釈した溶液及び
N−ブロモコハク酸イミド16.49(メタクリル酸に
対し約等モル)をトルエン209に希釈した溶液をそれ
ぞれ滴下した。滴下終了後5時間で反応が終了した。こ
の後、大量のメタノール中にこの反応混合物を注ぎ析出
したポリマーを取り出し乾燥した後、トルエンに溶解し
た。このトルエン溶液の赤外吸収スペクトルはカルボニ
ル基に基づく1710m−1およびエステル基(C−0
−C−)に基づく1160m−1の吸収を示した。また
、このトルエン溶液を密栓つきの三角フラスコ4個に分
け、その内2つには触媒としてメチルエチルケトンパー
オキシド(MEKPO)の50(f)フタル酸ジメチル
溶液を重合体分に対して2重量%添加した。この2組の
試料につき、それぞれ一方は窒素置換をした後密栓した
。その結果を表1に示す。この結果より、得られた重合
体は嫌気性の硬化性能を有するものであることがわかる
。
レタン14.49(メタクリル酸に対し約等モノ(ハ)
をトルエン109に希釈した溶液、N,N−ジクロロト
ルエンスルホンアミド22.29(メタクリル酸に対し
約等モル)を同じくトルエン209に希釈した溶液及び
N−ブロモコハク酸イミド16.49(メタクリル酸に
対し約等モル)をトルエン209に希釈した溶液をそれ
ぞれ滴下した。滴下終了後5時間で反応が終了した。こ
の後、大量のメタノール中にこの反応混合物を注ぎ析出
したポリマーを取り出し乾燥した後、トルエンに溶解し
た。このトルエン溶液の赤外吸収スペクトルはカルボニ
ル基に基づく1710m−1およびエステル基(C−0
−C−)に基づく1160m−1の吸収を示した。また
、このトルエン溶液を密栓つきの三角フラスコ4個に分
け、その内2つには触媒としてメチルエチルケトンパー
オキシド(MEKPO)の50(f)フタル酸ジメチル
溶液を重合体分に対して2重量%添加した。この2組の
試料につき、それぞれ一方は窒素置換をした後密栓した
。その結果を表1に示す。この結果より、得られた重合
体は嫌気性の硬化性能を有するものであることがわかる
。
次に前記精製し、取出したポリマーを乾燥した後、その
ままガラス板の上に一滴落としその上から他のガラス板
で挟み押えて固定したところ一日後に硬化しガラス板は
ずれなくなつた。
ままガラス板の上に一滴落としその上から他のガラス板
で挟み押えて固定したところ一日後に硬化しガラス板は
ずれなくなつた。
Claims (1)
- 1 一般式▲数式、化学式、表等があります▼(ここで
Xはハロゲン原子を表わし、Aはカルボン酸残基、スル
ホン酸残基、または炭酸モノエステル残基を表わし、B
は水素原子、ハロゲン原子、またはカルボン酸残基を表
わす)で示されるN−ハロアミド化合物の存在下で、液
状の、もしくは溶液状にした炭素−炭素不飽和二重結合
を有する高分子物質と下記一般式( I )▲数式、化学
式、表等があります▼、(II)▲数式、化学式、表等が
あります▼(III)▲数式、化学式、表等があります▼
(ここでRは水素原子またはメチル基を表わし、nは2
〜5から選ばれる整数を、mは1〜4から選ばれる整数
を、lは1〜30から選ばれる整数をそれぞれ表わす)
で示される重合性不飽和モノマーの少なくとも1つとを
反応させることを特徴とする新規高分子物質の製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14898778A JPS5928331B2 (ja) | 1978-12-04 | 1978-12-04 | 新規高分子物質の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14898778A JPS5928331B2 (ja) | 1978-12-04 | 1978-12-04 | 新規高分子物質の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50143767A Division JPS5271590A (en) | 1975-12-01 | 1975-12-01 | Production of novel high polymer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5490288A JPS5490288A (en) | 1979-07-17 |
| JPS5928331B2 true JPS5928331B2 (ja) | 1984-07-12 |
Family
ID=15465157
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14898778A Expired JPS5928331B2 (ja) | 1978-12-04 | 1978-12-04 | 新規高分子物質の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5928331B2 (ja) |
-
1978
- 1978-12-04 JP JP14898778A patent/JPS5928331B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5490288A (en) | 1979-07-17 |
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