JPS5932474B2 - ７−アシルアミノ−２（または３）−セフエム−４−カルボン酸類を製造する方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は一般式 ＣＯＲ＿、 １Ｒ＿。

Ｒ＿１−ｘ−Ｎ□ −ＺＯ（Ｉ） （式中Ｒ＿１およびｋｌは互いに異なるアシル基からカ
ルボニル基が除かれた基、Ｒ＿２はアルコールからＯＨ
が除かれた基、Ｒ＿３はアルキル基、Ｘは一５−または
ｓ−、ＺＯはアシル化に際し遊離する陰イオンをそれぞ
れ意味する）で示される２（または３）−セフエム一４
−カルボン酸類もしくはそのカルボキシ基における誘導
体を加水分解して一般式（式中ｋ１、Ｒ３およびＸは前
と同じ意味）で示される７ーアシルアミノ一２（または
３）−セフエム一４−カルボン酸類もしくはそのカルボ
キシ基における誘導体を得ることからなる７ーアシルア
ミノ一２（または３）−セフエム一４−カルボン酸類を
製造する方法に関するものである。

この発明の原料物質、２（または３）−セフエム一４−
カルボン酸類１）もしくはそのカルボキシ基における誘
導体は新規物質であり、例えば対応する２−アルキル−
６−アシルアミノ−２・３ーメチレンペナム一３−カル
ボン酸もしくはそのカルボキシ基における誘導体または
それらの１−オキサイド化合物にルイス酸を作用させて
、対応する２−アルキルーJメ[アシルアミノ一２（また
は３）−セフエム一４−カ〃ホン酸もしくはそのカルボ
キシ基における誘導体またはそれらの１−オキサイド化
合物とした後、これにイミノハロゲン化剤ついでイミノ
エーテル化剤を作用させ、ついで反応生成物に対応する
アシル化剤を作用させることにより製造することができ
る。上記式の定義において、Ｒ１およびｋ１における互
いに異なるアシル基からカルボニル基が除かれた基で定
義されたアシル基としては、脂肪族アシル、芳香環を含
むアシルまたは複素環を含むアシルのすべてを意味し、
具体的には例えば次のようなものが例示される。

脂肪族アシルとしては飽和もしくは不飽和アルカノイル
であつて側鎖を有しあるいは環状になつてもよく、例え
ばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソ
ブチリル、バレリル、イソバレリル、ビバロイル、アク
リロイル、クロトノイル、２−メチルアクリロイル、シ
クロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、
シクロヘプチルカルボニル、シクロペンチルアセチル、
シクロヘキシルアセチル、シクロヘブチルアセチ（：′
，。

ごＳＳ″：挿；。ごズ；？）ζ！冒！６−シクロヘプタ
トリエニルアセチル、ジヒドロフエニルアセチル等が挙
げられ、またこれらの飽和もしくは不飽和アルカノイル
は酸素原子または硫黄原子で中断されていてもよく、こ
の様な基としては、例えばメトキシアセチル、メチルチ
オアセチル、２−プロペニルチオアセチル、シクロヘキ
シルチオアセチル、シクロヘキシルオキシアセチル、ジ
ヒドロフエノキシアセチル、ジヒドロフエニルチオアセ
チル等が挙げられる。また芳香環を含むアシルとしては
ベンゾイル、トルオイル、ナフトール、α−メチルナフ
トール、テトラヒドロナフトール等のアロイルおよびフ
エニルアセチル、フエニルプロピオニル、フエニルブチ
リル、トリルアセチル、キシリルアセチル、ナフチルア
セチル、テトラヒドロナフチルアセチル等のアラルカノ
イル等を含み、またこのアラルカノイルのアルキル部分
の炭素原子は酸素原子または硫黄原子で置き変えられて
いてもよく、この様な基としては例えばフエノキシアセ
チル、フエニルチオアセチル、２−フエノキシプロピオ
ニル、２−フエノキシブチリル等が挙げられる。

さらに複素環を含むアシルとしては、酸素原子、硫黄原
子、窒素原子その他のヘテロ原子を少なくとも１個もし
くはそれ以上含む飽和もしくは不飽和複素単環もしくは
複素多環残基、例えばチエニル、ベンゾチエニル、フリ
ル、ピラニル、５・６ジヒトロー２Ｈ−ピラニル、イソ
ベンゾフラニル、クロメニル、キサンテニル、２Ｈ−ピ
ロリル、３Ｈ−ピロリル、ピロリル、イミダゾリル、ピ
ラゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリ
ダジニル、イソインドリル、インドリル、インタゾリル
、キノリル、イソキノリル、イソキサゾリル、イソチア
ゾリル、オキサジアゾリル、ピロリジニル、ピロリニル
、イミダゾリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ジ
アゾリル、トリアゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、
チアジアゾリル、テトラゾリル、ベンズオキサゾリル、
ベンズオキサジアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチ
アジアゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンズイミダゾリ
ル、シドノニル等の複素環を含む複素環カルボニルおよ
び前記複素環もしくは複素環置換オキシもしくは複素環
置換チオもしくは複素環置換アミノもしくはＮ−アルキ
ル複素環置換アミノ等の基を置換分として有するアセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、インブチリル、ノ≦レリ
ル、イソバレリル、ピバロイル、アクリロイル、クロト
ノイル、２−メチルアクリロイル等のアルカノイル、例
えば１Ｈ（もしくは２Ｈ）−テトラゾリルアセチル、チ
エニルアセチル、チエニルプロピオニル、フリルアセチ
ル、ピペラジニルアセチル、ピロリジニルアセチル、ピ
ロリジニルプロピオニル、ベンゾチアゾリルアセチル、
オキサゾリルアセチル、ベンズオキサゾリルアセチル、
４−ピリジルチオアセチル等が挙げられ、またこの複素
環を置換分として有するアルカノイルのアルキル部分の
炭素原子は酸素原子または硫黄原子で置きかえられてい
てもよく、この様な基としては、例えばピリジルメトキ
シアセチル、２−フリルメトキシアセチル、８−キノリ
ルメトキシアセチル等が挙げられる。

さらにこれらの脂肪族アシル、芳香環を含むアシルまた
は複素環を含むアシルはその任意の位置に適当な置換分
を１個もしくはそれ以上有していてもよく、この様な置
換分としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、１−プロペニル、２−プロペニル、シクロプロピル、
シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル等の
アルキル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロ
ポキシ等のアルコキシ、メチルチオ、エチルチオ等のア
ルキルチオ、フエニル、キシリル、ドリル等のアリール
、ベンジル、フエネチル等のアラルキル、アミノ、メル
カプト、ニトロ、クロル、フルオル、ブロム等のハロゲ
ン、カルボキシ、スルホ、ヒドロキシ、ヒドロキシアミ
ノ、モノ（もしくはジ）メチルアミノ、モノ（もしくは
ジ）エチルアミ人モノ（もしくはジ）プロピルアミノ、
モノ（もしくはジ）イソプロピルアミノ等のモノ（もし
くはジ）アルキルアミノ基、モノ（もしくはジ）フエニ
ルアミノ、モノ（もしくはジ）トリルアミノ等のモノ（
もしくはジ）アリールアミノ、モノ（もしくはジ）ベン
ジルアミノ、モノ（もしくはジ）フエネチルアミノ等の
モノ（もしくはジ）アラルキルアミノ等が挙げられ、さ
らにこの様な置換分を有する脂肪族アシル、芳香族を含
むアシルまたは複素環を含むアシルとして、例えばクロ
ロアセチル、２−クロロプロピオニル、トリフルオロア
セチル、アミノアジボイル、α−アミノフエニルアセチ
ル、α−ヒドロキシフエニルアセチル、ｐ−ヒドロキシ
フエニルアセチル、２−アミノ−２−（５・６−ジヒト
ロー２Ｈ−ピラン一３−イル）アセチル、２−アミノ−
２−（ｐ−ヒドロキシフエニル）アセチル、２・６−ジ
メトキシベンゾイル、３−フエニル一５−メチル−４−
オキサゾリルカルボニル、３−（２−クロロフエニル）
−５−メチル−４−オキサゾリルカルボニル、３−（２
●６−ジクロロフエニル）−５−メチル−４−オキサゾ
リルカルボニル、３−（２−クロロ−６−フルオロフエ
ニル）−５−メチル−４−オキサゾリルカルボニル等が
挙げられる。

またこの様なアシル基中に遊離のアミノ基、ヒドロキシ
基、メルカプト基、カルボキシ基、スルホ基等がある場
合に毫この様なアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基
、カルボキシ基、スルホ基等が保護基で保護された場合
も本発明の範囲に含まれるものである。

ここにおいてアミノ基の保護基としては通常アミノ保護
基として使用しうるすべての基を含み、例えばトリクロ
ロエトキシカルボニル、トリブロモエトキシカルボニル
、ベンジルオキシカルボニル、ｐ−トルエンスルホニル
、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、Ｏ−ブロモペ
ンシルオキシカルボニル、０−ニトロフエニルスルフエ
ニル、クロロアセチル、トリフルオロアセチル、ホルミ
ル、ビニルオキシカルボニル、第３級ブトキシカルボニ
ル、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル、３・４−
ジメトキシベンジルオキシカルボニル、４−（フエニル
アゾ）ベンジルオキシカルボニル、４−（メトキシフエ
ニルアゾ）ベンジルオキシカルボニル、ピリジン−１−
オキサイド−２−メトキシカルボニル、２−ピリジルメ
トキシカルボニル、２−フリルオキシカルボニル、ジフ
エニルメトキシカルボニル、１・１−ジメチルプロポキ
シカルボニル、イソプロポキシカルボニル、１−シクロ
プロピルエトキシカルボニル、２−シアノ−１・１−ジ
メチルエトキシカルボニル、プタロール、サクシニル、
１−アダマンチルオキシカルボニル、８−キノリルオキ
シカルボニル、イソボルニルオキシカルボニル等の脱離
しやすいアシル基が挙げられ、さらに、例えば、トリチ
ル、２−ニトロフエニルチオ、２・４−ジニトロフエニ
ルチオ、ベンジリデン、４−ニトロベンジリデン、２−
ヒドロキシベンジリデン、２−ヒドロキシ−５−クロロ
ベンジリデン、２−ヒドロキシ−１−ナフチルメチレン
、３−ヒドロキシ−４−ピリジルメチレン、１−メトキ
シカルボニル−２−プロピリデン、１−エトキシカルボ
ニル−２−プロピリデン、３−エトキシカルボニル−２
−ブチリデン、１−アセチル−２−プロピリデン、１−
ベンゾイル一２−プロピリデン、１−｛Ｎ−２−メトキ
シフエニル）カルバモイル｝−２−プロピリデン、１−
｛Ｎ−（４−メトキシフエニル）カルバモイル｝−２−
プロピリデン、２−エトキシカルボニルシクロヘキシリ
デン、２−エトキシカルボニルシクロペンチリデン、２
−アセチルシクロヘキシリデン、３・３−ジメチル−５
−オキソシクロヘキシリデン等の脱離しやすい基（これ
らのうち例えば１−メトキシカルボニル−２−プロピリ
デンは１−メトキシカルボニル、１−プロペン−２−イ
ルと表わされることがあり、また例えば２−エトキシカ
ルボニルシクロヘキシリデンは２−エトキシカルボニル
−１−シクロヘキセニルと表わされることもある）、ま
たジもしくはトリアルキルシリル等のアシル基以外のア
ミノ基の保護基が挙げられ、またヒドロキシ基およびメ
ルカプト基の保護基としては通常ヒドロキシ基およびメ
ルカプト基の保護基として使用し得るすべての基を含み
、例えばホルミル、アセチル、ベンジルオキシカルボニ
ル、４−ニトロベンジルオキシカルボニル、４−ブロモ
ベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジルオキ
シカルボニル、３・４−ジメトキシベンジルオキシカル
ボニル、４−（フエニルアゾ）ベンジルオキシカルボニ
ル、４−（４−メトキシフエニルアゾ）ベンジルオキシ
カルボニル、第３級ブトキシカルボニル、１・１−ジメ
チルプロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル
、ジフエニルメトキシカルボニル、２−ピリジルメトキ
シカルボニル、２・２・２−トリクロロエトキシカルボ
ニル、２・２・２トリブロモエトキシカルボニル、３−
ヨードプロポキシカルボニル、２−フルフリルオキシカ
ルボニル、１−アダマンチルオキシカルボニル、１−シ
クロプロピルエトキシカルボニル、３−キノリルオキシ
カルボニル、トリフルオロアセチル等の脱離しやすいア
シル基のほか、ベンジル、トリチル、メトキシメチル、
２−ニトロフエニルチオ、２・４−ジニトロフエニルチ
オ等の基が挙げられ、さらにカルボキシ基の保護基とし
ては、通常のカルボキシ基の保護基として使用し得るす
べての基を含み、例えばそのエステル部分がメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、第３級ブチル、ブチル
、ベンジル、ジフエニルメチル、トリフエニルメチル、
ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベンジル、ベンゾイ
ルメチル、アセチルメチル、ｐ−ニトロベンゾイルメチ
ル、ｐ−ブロモベンゾイルメチル、ｐ−メタンスルホニ
ルベンゾイルメチル、フタルイミドメチル、トリクロロ
エチル、トリブロモエチル、１●１−ジメチル−２−プ
ロピニル、アセトキシメチル、プロピオニルオキシメチ
ル、ピバロイルオキシメチル、１・１−ジメチルプロピ
ル、１・１−ジメチル−２−プロペニル、３−メチル−
３−プテニル、サクシンイミドメチル、１−シクロプロ
ピルエチル、３・５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル、メチルスルフエニルメチル、フエニルスルフ
エニルメチル、メチルチオメチル、フエニルチオメチル
、ジメチルアミノメチル、ピリジン−１−オキサイド−
２メチル、キノリン−１−オキサイド−２−メチル、メ
チルスルフイニルメチル、ジ（ｐ−メトキシフエニル）
メチル、２−シアノ−１・１−ジメチルエチル等である
エステル、さらに特開昭４６−７０７３号公報およびオ
ランダ国公開公報第７１０５２５９号に記載されている
例えばジメチルジクロロシランの如きシリル化合物また
はドイツ国公開公報第２０６２９２５号に記載されてい
る例えば、４塩化チタンの如き非金属化合物でカルボキ
シ基が保護されている場合等を例示される。またＲ２で
示されるアルコールから０Ｈが除かれた基としては、メ
タノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノー
ル、ブタノール等のアルカノール、ベンジルアルコール
、フエネチルアルコール等のアラノ舊力ノールもしくは
これらがこの反応に悪影響を与えない、例えばメトキシ
、エトキシ、プロポキシ等のアルコキシ基の様な置換基
を有する場合を包含するアルコールから、そのヒドロキ
シ基を除いた残基が挙げられる。またＲ３におけるアル
キル基としては、例えばメチル、エチル、プロピル等が
挙げられる。

また前記式（１）〜（１１）の化合物のカルボキシ基に
おける誘導体としては、前記アシル基中における力 ５
ルボキシ基の保護基の所で例示された様なシリル化合物
または非金属化合物とカルボン酸との反応によつて誘導
される誘導体を含めて、例えば次の様なカルボキシ基に
おける誘導体を例示することができる。（イ）エステル
：ここにおいてエステルとしては活性エステル及び非活
性エステルのすべてを含み、例えば、エステル部分がメ
チル、エチル、プカピル、イソプロピル、ブチル、第３
級ブチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、ビニル、
１一プロペニル、２−プロペニル、１・１−ジメチル−
２−プロペニル、３−ブテニル、１・１ジメチル−２−
プロピニル等の飽和もしくは不飽和アルキル、フエニル
、キシリル、トリル、ナフチル等のアリール、ベンジル
、フエネチル ２０等のアラルキル、また前記飽和もし
くは不飽和アルキルおよびアラルキルのアルキル部分の
炭素原子が硫黄原子、窒素原子、酸素原子またはカルボ
ニル等でおきかえられた、メトキシメチル、エトキシメ
チル、メチルチオエチル、メチ ２５ルチオメチル、ジ
メチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、フエノキ
シメチル、フエニルチオメチル、メチルスルフエニルメ
チル、フエニルスルフエニルメチル、ベンゾイルメチル
、トルオイルメチル等、さらにこれら上記の基が３０適
当な置換分、例えばシアノ、ニトロ、フルオル、ク曜レ
、ブロム等のハロゲン、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ等のアルコキシ、アルカンスルホール、フエールアゾ
等を１個もしくはそれ以上有するクロロメチル、ブロモ
メチル、トリクロロエチル、シアノメチル、２−シアノ
−１●１−ジメチルエチル、ｐ−ニトロフエニル、２●
４●５−トリクロロフエニル、２●４・６−トリクロロ
フエニル、ペンタクロロフエニル、ｐ−メタンスルホニ
ルフエニル、４−（フ ４０エニルアゾ）フエニル、２
●４−ジニトロフエニル、ｐ−クロロベンジル、０−ニ
トロベンジル、ｐ−メトキシベンジル、ｐ−ニトロベン
ジル、３・４・５−トリメトキシベンジル、ビス（ｐ−
メトキシフエニル）メチル、ペンタクロロベンジル、ト
リクロロベンジル、３●５−ジ第３級ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル、ｐ−ニトロフエニルチオメチル、ｐ−
クロロフエニルチオメチル、ｐ−ニトロベンゾイルメチ
ル、ｐ−クロロベンゾイルメチル等、その他置換もしく
は非置換チオアルコール、Ｎ−ヒドロキシこはく酸イミ
ド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、テトラヒドロピラノ
ール、１−シクロプロピルエタノール、１−フエニル一
３−メチル−５−ピラゾロン、３−ヒドロキシピリジン
、２−ヒドロキシメチルピリジン−１−オキサイド、１
：奮゛７．γ二ごτ゛：、ご几）；Ｘ冫［：ζ；２，ア
ミン、ジエチルヒト狛キシルアミン、グリコールアミド
、８−ヒドロキシキノリン、アセトキシム、２−ヒドロ
キシメチルキノリン−１オキサイド、メトキシアセチレ
ン、エトキシアセチレン、第３級ブチルエチニルジメチ
ルアミン、第３級ブチルエチニルジエチルアミン、エチ
ルエチニルジエチルアミン、２−エチル−５（３−スル
ホフエニル）イソキサゾリウムヒドロキサイド分子内塩
、１・５・９・９・１０−ペンタクロル−９・１０−ジ
ヒドロアントラセン、９・９・１０−トリクロル−９・
１０−ジヒドロアントラセン−１・８・９・１０・１０
−ペンタクロル−９・１０−ジヒドロアントラセン等の
ハロゲノ一９・１０−ジヒドロアントラセン誘導体等と
のエステル。

・）アミド：ここにおいてアミドとしては、酸アミド、
Ｎ一置換酸アミド、Ｎ−Ｎ−ジ置換酸アミドのすべてを
含み、例えばＮ−メチル酸アミド、Ｎ−エチル酸アミド
等のＮ−アルキル酸アミド、Ｎ−フエニル酸アミド、Ｎ
−Ｎ−ジメチル酸アミド、Ｎ−Ｎ−ジエチル酸アミド、
Ｎ−エチル−Ｎ−メチル酸アミド等のＮ−Ｎ−ジアルキ
ル酸アミド、ピラゾール、イミダゾール、４一置換イミ
ダゾール等との酸アミド功璋げられる。

またＺｅで示されるアシル化に際し遊離する陰イオンと
は、一般式Ｒ′１Ｃ０Ｚ（式中ｋ１は前と同じ意味）で
示されるアシル化剤から遊離する陰イオンである。

即ち、ＺｅとはＲＣＯＺが対応する遊離のカルボン酸ま
たはそのカルボキシ基における反応性誘導体であるアシ
ル化剤からアシル化に際し遊離する陰イオンである。こ
こにおいて、前記カルボキシ基における反応性誘導体と
しては酸無水物、アミド、エステル等が挙げられるが、
特に繁用されるものとしてぱ酸クロライド、酸アジド、
ジアルキル燐酸混合無水物、ジフエニル燐酸混合無水物
、ジベンジル燐酸混合無水物、ハロゲン化燐酸混合無水
物、ジアルキル亜燐酸混合無水物、亜硫酸混合無水物、
チオ硫酸混合無水物、硫酸混合無水物、アルキル炭酸混
合無水物、脂肪族カルボン酸（たとえばピバリン酸、ペ
ンタン酸、イソペンタン酸、２−エチルブタン酸）混合
無水物、芳香族カルボン酸（たとえば安息香酸）混合無
水物、対称型酸無水物等の酸無水物、イミダゾール、４
一置換イミダゾール、ジメチルピラゾール、トリアゾー
ル、テトラゾール等との酸アミド、シアノメチルエステ
ル、メトキシメチルエステル、ビニルエステル、１−メ
トキシビニルエステル、１−エトキシビニルエステル、
プロパルギルエステル、ｐ−ニトロフエニルエステル、
トリクロロフエニルエステル、ペンタクロロフエニルエ
ステル、メタンスルホニルフエニルエステル、フエニル
アゾフエニルエステル、フエニルチオエステル、ｐ−ニ
トロフエニルチオエステル、ｐ−クレジルチオエステル
、カルボキシメチルチオエステル、ピラニルエステル、
ピリジルエステル、ピペリジルエステル、８−キノリル
チオエステル、Ｎ−Ｎ−ジメチルヒドロキシルアミン、
１−ヒドロキシ−２（１Ｈ）ピリドン、Ｎ−ヒドロキシ
サクシンイミドもしくはＮ−ヒドロキシフタルイミドと
のエステル等のエステル類等が挙げられる。この発明の
反応は、２（または３）−セフエム一４−カルボン酸類
（１）もしくはそのカルボキシ基における誘導体を加水
分解することにより行なわれる。

加水分解反応は水と接触させるだけで充分進行するが、
炭酸水素アルカリ金属、トリアルキルアミン等の塩基も
しくは希塩酸、酢酸等の酸を予め水に添加しておいても
構わない。この反応の温度は特に限定されないが、室温
程度の緩和な条件で充分進行する場合が多い。反応生成
物は常法により単離、採取される。この発明の反応にお
いて、反応中もしくは反応の後処理中にカルボキシ基が
カルボキシ基の誘導体に転じる場合、カルボキシ基にお
ける誘導体他の誘導体もしくはカルボキシ基に転じる場
合もこの発明の範囲に含まれるものである。

この発明により得られる７ーアシルアミノ一２（または
３）−セフエム一４−カルボン酸類ｍもしくはそのカル
ボキシ基における誘導体は新規物質であり、抗菌活性を
有し、医薬として有用であり、また他の抗菌性物質を製
造する中間体として有用である。

次にこの発明を実施例により説明する６ 実施例 １ ２−メチルーJヨ黶i２−フエニルアセトアミド）−３−
セフエム一４−カルボン酸の２・２・２一トリクロロエ
チルエステル１．１２７を無水ジクロルメタン２０ｍ１
に溶解し、−１５℃に冷却撹拌下この溶液にピリジン０
．２９６ｆ７ついで５塩化りん０．６１６７を加え同温
で２０分攪拌後、室温でさらに２時間攪拌する。

再び−１５℃冷却下、この溶液に無水メタノール５ｍ１
を加え、同温度で１時間攪拌後、ジメチルアニリン２．
２７ついで２−チエニルアセチルクロリド０．４２７を
無水ジクロルメタン５ｍ１に溶解した溶液を滴下し、同
温度で２．５時間攪拌することにより得られた液を、５
％塩酸、水、５％炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順に
洗浄したのち乾燥する。乾燥後、溶液を濃縮し、得られ
た油分にエーテルを加えて結晶化するとＭｐｌ６ｌ〜１
６２ーＣ（分解）の２−メチルーJヨ黶o２−（２−チエ
ニル）アセトアミド｝−３セフエム一４−カルボン酸の
２・２・２−トリクロロエチルエステル７５０ヮを得る
。赤外線吸収スペクトル（ヌジヨール） ３３００１１７９５、１７４８、１６７５、１６３０Ｃ
Ｔ！Ｌ−１核磁気共鳴スペクトル（ＣＤＣｌ３、τ）８
．５０（３Ｈ．ｄ．Ｊ−７Ｈｚ） ６．２６（１Ｈ，．ｍ） ６．１５（２Ｈ．．ｓ） ５．１２（２Ｈ．．ｓ） ５．０２（１Ｈ．．ｄ．．Ｊ−４Ｈｚ） ４．０５（１Ｈ，．ｄ０ｆｄ，．Ｊ−８、４Ｈｚ）３．
２９（１Ｈ，．ｄ，．Ｊ−６Ｈｚ）２．６７〜３．０３
（３Ｈ，．ｍ） 同様にして次の化合物を得る。

（１） ２−メチルーJヨ黶o２−（３移Ｆロフェニル）
アセトアミド｝−３−セフエム一４−カルボン酸の２・
２・２−トリクロロエチルエステル｛Ｍｐｌ４４〜１４
４．５℃（分解）｝（２） ２−メチルーJヨ黶o２−（
１・２・５−チア ５ジアゾール−３−イル）アセトア
ミド｝−３一セフエム一４−カルボン酸の２・２・２−
トリクロロエチルエステル｛Ｍｐｌ８Ｏ〜１８５℃（分
解）｝（３） ２−メチルーJヨ黶i２−フエノキシアセ
トア １０ミド）−３−セフエム一４−カルボン酸のメ
チルエステル（油状）（４） ２−メチルーJヨ黶i２−
フエノキシアセトアミド）−３−セフエム一４−カルボ
ン酸の２・２・２−トリクロロエチルエステル（Ｍｐｌ
５ｌｌ８〜１２０℃）（５） ２−メチルーJヨ黶oＮ−
（１−シクロプロピルエトキシ）カルボニルフエニルグ
リシル｝アミノ−３−セフエム一４−カルボン酸（Ｍｐ
ｌ６８〜１６９℃） ２０（
６） ２−メチルーJヨ黶o２−（１Ｈ−テトラゾール−
１−イル）アセトアミド｝−３−セフエム４−カルボン
酸｛Ｍｐ２Ｏ２〜２０３℃（分解）｝（７） ２−メチ
ルーJヨ黶o２−（２−チエニル）アセトアミド｝−３−
セフエム一４−カルボン酸２５｛Ｍｐｌ７５℃（分解）
｝（８） ２−メチルーJヨ黶i２−フエニルチオアセト
アミド）−３−セフエム一４−カルボン酸｛Ｍｐｌ６８
〜１７１℃（分解）｝ （９） ２−メチルーJヨ黶o２−（３−クロロフエニ
３０ル）アセトアミド｝−３−セフエム一４−カルボン
酸｛Ｍｐｌ７３〜１７４℃（分解）｝ＡＯ） ２−メチ
ルーJヨ黶o３−（Ｎ一第３級ブトキシカルボニルアミノ
）−３−（２−チエニル）プロピオンアミド｝−３−セ
フエム一４−カル ３５ホン酸｛Ｍｐｌ６７〜１７０℃
（分解）｝ａυ ２−メチルーJヨ黶i２−シアノアセト
アミド）３−セフエム一４−カルボン酸（Ｍｐｌ６２〜
１６６゜ｃ）０２） ２−メチルーJヨ黶o２−（１・３
・４−チア ４０ジアゾール−２−イルチオ）アセトア
ミド｝−３−セフエム一４−カルボン酸（Ｍｐｌ９７〜
１９９℃）０３） ２−メチルーJヨ黶oＮ一第３級ブト
キシカルボニル一２−チエニルグリシル｝アミノ−３セ
フエム一４−カルボン酸（粉末）４） ２−メチルーJ
ヨ黶o２−（５−メチル−１・３・４−チアジアゾール
一２−イルオキシ）アセトアミド｝−３−セフエム一４
−カルボン酸（Ｍｐｌｌ３〜１１６℃）５２−メチルー
Jヨ黶o３−（２−クロロフエニル）−５−メチル−イソ
オキサゾール−４−イル｝カルボキサミド一３−セフエ
ム一４−カルボン酸（Ｍｐ２Ｏ２〜２０３℃）６） ２
−メチルーJヨ黶i２−メチルチオアセトアミド）−３−
セフエム一４−カルボン酸｛Ｍｐｌ８ｌ〜１８３℃（分
解）｝７） ２−メチルーJヨ黶i２−アリル（Ａｌｌｙ
ｌ）チオアセトアミド）−３−セフエム一４−カルボン
酸（Ｍｐｌ２ｌ〜１２３℃）８） ２−メチルーJヨ黶
i２−アジド−２−フエニルアセトアミド）−３−セフ
エム一４−カルボン酸（Ｍｐ６５〜６８℃）９） ２−
メチル２−Jヨ黶oＮ一第３級ブトキシカルボニル一２−
（４−ヒドロキシフエニル）−Ｄグリシル｝アミノ−３
−セフエム一４−カルボン酸の２・２・２−トリクロロ
エチルエステル｛Ｍｐｌ３Ｏ〜１３５℃（分解）｝！０
） ２−メチルーJヨ黶o２−（３−ピリジル）アセトア
ミド｝−３−セフエム一４−カルボン酸｛Ｍｐｌ４７〜
１４９℃（分解）｝１） ２−メチルーJヨ黶oＮ一第３
級ブトキシカルボニル一２−（２●５−ジヒドロフエニ
ル）グリシル｝アミノ−３−セフエム一４−カルボン酸
｛Ｍｐｌ２６〜１３ＦＣ（分解）｝２） ２−メチルー
Jヨ黶oＮ一第３級ブトキシカルボニル一２−（４−ヒド
ロキシフエニル）−Ｄ−グリシル｝アミノ−３−セフエ
ム一４−カルボン酸（粉末）３） ２−メチルーJヨ黶
oＮ一第３級ブトキシカルボニル一２−（４−メチルチ
オフエニル）グリシル｝アミノ−３−セフエム一４−カ
ルボン酸（ＭｐｌｌＯ〜１２０℃）４） ２−メチルー
Jヨ黶oＮ一第３級ブトキシカルボニル一２−（４−メト
キシフエニル）グリシル｝アミノ−３−セフエム一４−
カルボン酸｛Ｍｐ８ｌ〜８６℃（分解）｝〕） ２−メ
チルーJヨ黶oＮ一第３級ブトキンカルボニル一２−（４
−メチルチオフエニル）グリシル｝アミノ−３−セJャ
Gム一４−カルボン酸の２・２・２−トリクロロエチル
エステル（Ｍｐｌｌ５〜１２０℃） Ｃ２６） ２−メチルーJヨ黶oＮ一第３級ブトキシカル
５ボニル一２−（４−メトキシフエニル）グリシル｝
アミノ−３−セフエム一４−カルボン酸の２・２・２−
トリクロロエチルエステル｛Ｍｐ９２〜９５℃（分解）
｝（２７） ２−メチルーJヨ黶oＮ一第３級ブトキシカ
ル １０ボニル一２−（２・５−ジヒドロフエニル）グ
リシル｝アミノ−３−セフエム一４−カルボン酸の２・
２・２−トリクロロエチルエステル｛ＭｐｌＯ４〜１１
１℃（分解）｝（２８） ２−メチルーJヨ黶oＮ−（１
−シクロプロピ １５ルエトキシ）カルボニル一２−（
５・６−ジヒトロー２Ｈ−ピラン一３−イル）グリシル
｝アミノ−３−セフエム一４−カルボン酸の２・２・２
−トリクロロエチルエステル｛Ｍｐｌｌ８〜１２０℃（
分解）｝ Ｘ（２９） ２−
メチルーJヨ黶oＮ一第３級ブトキシカルボニル一２−（
４一第３級ブトキシカルボニルメトキシフエニル）グリ
シル｝アミノ−３−セフエム一４−カルボン酸の２・２
・２−トリクロロエチルエステル（粉末）
２５（３０） ２−メチルーJヨ黶oＮ−（１・３
・４−チアジアゾール一２−イル）チオメチルカルボニ
ル２−フエニルグリシル｝アミノ−３−セフエム一４−
カルボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエステル｛
Ｍｐｌ４８〜１５００Ｃ（分解）｝３θ（３０２−メチ
ルーJヨ黶oＮ一第３級ブトキシカルボニル一２−（４−
メチルスルフイニルフエニル）グリシル｝アミノ−３−
セフエム一４−カルボン酸の２・２●２−トリクロロエ
チルエステル（Ｍｐｌｌ５〜１２５℃）
３５（１） ２−メチルーJヨ黶i２−イソニコチノイ
ルオキシ一２−フエニルアセトアミド）−３−セフエム
一４−カルボン酸（Ｍｐ２ｌ７〜２１９℃）（３３）
２−メチルーJヨ黶i２−イソニコチノイルオキシ一２−
フエニルアセトアミド）−３−セフ 功エム一４−カル
ボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエステル｛Ｍｐ
ｌＯＯ〜１１５℃（分解）｝Ｃ３４） ２−メチルーJ
ヨ黶o２−（５−インダニル）オキシカルボニル−２−
JャGニルアセトアミド｝一３−セフエム一４−カルボン
酸の２・２・２−トリクロロエチルエステル（Ｍｐｌ６
５〜１７０℃）？ ２−メチルーJヨ黶oＮ−（１・３・
４−チアジアゾール一２−イル）チオメチルカルボニル
ー２−フエニルグリシル｝アミノ−３−セフエム一４−
カルボン酸｛Ｍｐｌ４３〜１４５℃（分解）｝：６）
２−メチルーJヨ黶oＮ一第３級ブトキシカルボニル一２
−（４一第３級ブトキシカルボニルメトキシフエニル）
グリシル｝アミノ−３−セフエム一４−カルボン酸（粉
末）（７）２−メチルーJヨ黶oＮ−（１−シクロプロピ
ルエトキシ）カルボニル一２−（５・６−ジヒトロー２
Ｈ−ピラン一３−イル）グリシル｝アミノ−３−セフエ
ム一４−カルボン酸（Ｍｐｌ９５〜１９７℃）ト８）
２−メチルーJヨ黶o２−（１・２・５−チアジアゾール
一３−イル）アセトアミド｝−３セフエム一４−カルボ
ン酸｛Ｍｐｌ８８〜１９『Ｃ（分解）｝

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿１およびＲ′＿１は互いに異なるアシル基か
   らカルボニル基が除かれた基、Ｒ＿２はアルコールから
   ＯＨが除かれた基、Ｒ＿３はアルキル基、Ｘは−Ｓ−ま
   たは▲数式、化学式、表等があります▼、Ｚ＾■はアシ
   ル化に際し遊離する陰イオンをそれぞれ意味する）で示
   される２（または３）−セフエム−４−カルボン酸類も
   しくはそのカルボキシ基における誘導体を加水分解して
   一般式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ′＿１、Ｒ＿３およびＸは前と同じ意味）で示
   される７−アシルアミノ−２（または３）−セフエム−
   ４−カルボン酸類もしくはそのカルボキシ基における誘
   導体を得ることを特徴とする７−アシルアミノ−２（ま
   たは３）−セフエム−４−カルボン酸類を製造する方法
   。