JPS5932965Y2 - 光学干渉フィルタ - Google Patents
光学干渉フィルタInfo
- Publication number
- JPS5932965Y2 JPS5932965Y2 JP703279U JP703279U JPS5932965Y2 JP S5932965 Y2 JPS5932965 Y2 JP S5932965Y2 JP 703279 U JP703279 U JP 703279U JP 703279 U JP703279 U JP 703279U JP S5932965 Y2 JPS5932965 Y2 JP S5932965Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filter element
- optical
- element made
- spectral transmittance
- optical filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、光学干渉フィルタに関するものであって、詳
しくは、分光透過率の温度変化による変化量が小さな光
学干渉フィルタを提供するものである。
しくは、分光透過率の温度変化による変化量が小さな光
学干渉フィルタを提供するものである。
たとえば、赤外線吸収形のガス分析計では、光学干渉フ
ィルタを透過する光量の変化に基づいてガス濃度等を測
定するように構成されている。
ィルタを透過する光量の変化に基づいてガス濃度等を測
定するように構成されている。
第１図は、従来のこの種の光学干渉フィルタの一例を示
す構成説明図であって、１は支持体である基板、２は基
板１の一方の面に蒸着技術により形成された多層膜より
なる光学フィルタ要素である。
す構成説明図であって、１は支持体である基板、２は基
板１の一方の面に蒸着技術により形成された多層膜より
なる光学フィルタ要素である。
基板１としては、シリコン（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇ
ｅ）、石英、ガラス等が用いられ、多層膜２の材料とし
ては、ゲルマニウム（Ｇｅ）、酸化シリコン（Ｓｉｎ）
、硫化亜鉛（ＺｎＳ）等、屈折率の異なる複数の材料が
用いられる。
ｅ）、石英、ガラス等が用いられ、多層膜２の材料とし
ては、ゲルマニウム（Ｇｅ）、酸化シリコン（Ｓｉｎ）
、硫化亜鉛（ＺｎＳ）等、屈折率の異なる複数の材料が
用いられる。
そして、これら多層膜材料は、透過波長域に対応した所
定の膜厚で所定の順序にしたがって順次積層され、光学
フィルタ要素２として形成される。
定の膜厚で所定の順序にしたがって順次積層され、光学
フィルタ要素２として形成される。
ところで、このような構成の光学干渉フィルタの分光透
過率の温度特性に着目すると、たとえば第２図のように
なる。
過率の温度特性に着目すると、たとえば第２図のように
なる。
第２図において、実線Ａは常温状態の分光透過率特性を
表わし、破線Ｂは常温より３０℃程度高い高温状態での
分光透過率特性を表わしている。
表わし、破線Ｂは常温より３０℃程度高い高温状態での
分光透過率特性を表わしている。
なお、第２図において、横軸には波長λ（μｍ）をとり
、縦軸には透過率Ｔ（％）をとっている。
、縦軸には透過率Ｔ（％）をとっている。
これら第２図から明らかなように、温度が変化すると、
最大透過波長がλいからλ８に変化し、その最大透過率
もＴＡからＴＢに変化する。
最大透過波長がλいからλ８に変化し、その最大透過率
もＴＡからＴＢに変化する。
したがって、このような光学干渉フィルタを用いた場合
には、温度変化による透過率の変化の影響を受けて測定
誤差を生じるおそれがある。
には、温度変化による透過率の変化の影響を受けて測定
誤差を生じるおそれがある。
このような影響をなくする方法としては、たとえば光学
干渉フィルタの温度を一定に保つことが考えられるが、
温度調節された光学干渉フィルタの収納容器が必要とな
り、小形化も困難である。
干渉フィルタの温度を一定に保つことが考えられるが、
温度調節された光学干渉フィルタの収納容器が必要とな
り、小形化も困難である。
本考案は、これらの欠点を解決するものであって、以下
、図面を用いて詳細に説明する。
、図面を用いて詳細に説明する。
第３図は、本考案の一実施例を示す構成説明図であって
、第１図と同等部分には同一符号を付している。
、第１図と同等部分には同一符号を付している。
すなわち、３は単層膜よりなる光学フィルタ要素であっ
て、多層膜２を構成する材料のうちの一つの材料で形成
され、基板１の他方の面に蒸着技術により形成されてい
る。
て、多層膜２を構成する材料のうちの一つの材料で形成
され、基板１の他方の面に蒸着技術により形成されてい
る。
第４図は、このような単層膜３として用いる材料の一種
であるゲルマニウム（Ｇｅ）の分光透過率の温度特性の
一例を示したものであって、第２図と同様に、実線Ｃは
常温状態の分光透過率特性を表わし、破線りは高温状態
の分光透過率特性を表わしている。
であるゲルマニウム（Ｇｅ）の分光透過率の温度特性の
一例を示したものであって、第２図と同様に、実線Ｃは
常温状態の分光透過率特性を表わし、破線りは高温状態
の分光透過率特性を表わしている。
また、横軸には波長λ（μｍ）をとり、縦軸には透過率
Ｔ（％）をとっている。
Ｔ（％）をとっている。
この第４図から明らかなように、ゲルマニウムの単層膜
３の分光透過率温度特性は、第２図の多層膜２の分光透
過率温度特性と同一極性を有している。
３の分光透過率温度特性は、第２図の多層膜２の分光透
過率温度特性と同一極性を有している。
また、第２図における最大透過波長の変化量を△λＡ８
、第４図における最大透過波長の変化量を△λＣＤとす
ると、△λ。
、第４図における最大透過波長の変化量を△λＣＤとす
ると、△λ。
０〉△λＡ８の関係にある。このような特性を有するゲ
ルマニウム単層膜３を基板１に形成するのにあたって、
膜厚を調整して、多層膜２の常温状態における最大透過
波長λ□と単層膜３の高温状態における最大透過波長λ
Ｄとをほぼ一致させることにより、多層膜２および単層
膜３の分光透過率の温度特性は、それぞれ第５図のＡ−
Ｄのようになる。
ルマニウム単層膜３を基板１に形成するのにあたって、
膜厚を調整して、多層膜２の常温状態における最大透過
波長λ□と単層膜３の高温状態における最大透過波長λ
Ｄとをほぼ一致させることにより、多層膜２および単層
膜３の分光透過率の温度特性は、それぞれ第５図のＡ−
Ｄのようになる。
この結果、第３図の光学干渉フィルタ全体の分光透過率
の温度特性は、第６図のＥ、Ｆのようになり、温度変化
による最大透過率の変化に小さな光学干渉フィルタが実
現できる。
の温度特性は、第６図のＥ、Ｆのようになり、温度変化
による最大透過率の変化に小さな光学干渉フィルタが実
現できる。
なお、第６図において、実線Ｅは常温状態の特性を表わ
し、破線Ｆは高温状態の特性を表わしている。
し、破線Ｆは高温状態の特性を表わしている。
すなわち、常温状態における波長λ。、λ４での分光透
過率ＴＥはＴＡ−Ｔｏとなり、高温状態における波長λ
１．λ８での分光透過率ＴＦはＴＢ ” ＴＤとなる。
過率ＴＥはＴＡ−Ｔｏとなり、高温状態における波長λ
１．λ８での分光透過率ＴＦはＴＢ ” ＴＤとなる。
第７図は、単層膜３として用いる材料の一種である酸化
シリコン（Ｓｉｎ）の分光透過率特性の一例を示したも
のである。
シリコン（Ｓｉｎ）の分光透過率特性の一例を示したも
のである。
このような酸化シリコン単層膜の温度変化による分光透
過率の変化量は、多層膜２の変化量に比べて充分小さい
ことが知られている。
過率の変化量は、多層膜２の変化量に比べて充分小さい
ことが知られている。
このような特性を有する酸化シリコン単層膜３を基板１
に形成するにあたって、膜厚を調整して、多層膜２の常
温状態における最大透過波長λＡと単層膜３の透過波長
λ６□とをほぼ一致させることにより、多層膜２および
単層膜３の各分光透過率特性はそれぞれ第８図のＡ、Ｂ
、Ｇのようになる。
に形成するにあたって、膜厚を調整して、多層膜２の常
温状態における最大透過波長λＡと単層膜３の透過波長
λ６□とをほぼ一致させることにより、多層膜２および
単層膜３の各分光透過率特性はそれぞれ第８図のＡ、Ｂ
、Ｇのようになる。
この結果、第３図の光学干渉フィルタ全体の分光透過率
の温度特性は、第９図のＨ，Ｉのようになり、温度変化
による最大透過率の変化の小さな光学干渉フィルタが実
現できる。
の温度特性は、第９図のＨ，Ｉのようになり、温度変化
による最大透過率の変化の小さな光学干渉フィルタが実
現できる。
なお、実線Ｈは常温状態における特性を表わし、破線■
は高温状態の特性を表わしている。
は高温状態の特性を表わしている。
すなわち、常温状態における波長λ□、λ４ての分光透
過率ＴＨはＴＡ−Ｔ６□となり、高温状態における波長
λ１．λ８での分光透過率Ｔ１はＴＢ ” Ｔｃｍとな
る。
過率ＴＨはＴＡ−Ｔ６□となり、高温状態における波長
λ１．λ８での分光透過率Ｔ１はＴＢ ” Ｔｃｍとな
る。
なお、第３図の実施例では、多層膜よりなる光学フィル
タ要素２と単層膜よりなる光学フィルタ要素３とを共通
の基板１の両面にそれぞれ形成する例について示してい
るが、これら各光学フィルタ要素２，３をそれぞれ異な
った基板に形威し、これら複数の基板を組み合わせて光
学干渉フィルタを構成することもできる。
タ要素２と単層膜よりなる光学フィルタ要素３とを共通
の基板１の両面にそれぞれ形成する例について示してい
るが、これら各光学フィルタ要素２，３をそれぞれ異な
った基板に形威し、これら複数の基板を組み合わせて光
学干渉フィルタを構成することもできる。
第１０図にこのような構成の一例を示す。
以上説明したように、本考案によれば、比較的簡単な構
成で、温度変化による分光透過率の変化量の小さな光学
干渉フィルタが実現でき、各種測定器の光学系のフィル
タとして好適である。
成で、温度変化による分光透過率の変化量の小さな光学
干渉フィルタが実現でき、各種測定器の光学系のフィル
タとして好適である。
第１図は従来の光学干渉フィルタの一例を示す構成説明
図、第２図は第１図のフィルタの分光透過率の温度特性
例図、第３図は本考案の一実施例を示す構成説明図、第
４図は本考案に用いる単層膜光学フィルタ要素の分光透
過率の温度特性例図、第５図は第２図と第４図の特性図
を同一目盛でそれぞれ表わした特性図、第６図は第５図
の各温度特性を合成した特性図、第７図は本考案に用い
る他の単層膜光学フィルタ要素の分光透過率の特性図、
第８図は第２図と第７図の特性図を同一目盛でそれぞれ
表わした特性図、第９図は第８図の各特性を合成した特
性図、第１０図は本考案の他の実施例を示す構成説明図
である。 １・・・・・・基板（支持体）、２・・・・・・多層膜
光学フィルタ要素、３・・・・・・単層膜光学フィルタ
要素。
図、第２図は第１図のフィルタの分光透過率の温度特性
例図、第３図は本考案の一実施例を示す構成説明図、第
４図は本考案に用いる単層膜光学フィルタ要素の分光透
過率の温度特性例図、第５図は第２図と第４図の特性図
を同一目盛でそれぞれ表わした特性図、第６図は第５図
の各温度特性を合成した特性図、第７図は本考案に用い
る他の単層膜光学フィルタ要素の分光透過率の特性図、
第８図は第２図と第７図の特性図を同一目盛でそれぞれ
表わした特性図、第９図は第８図の各特性を合成した特
性図、第１０図は本考案の他の実施例を示す構成説明図
である。 １・・・・・・基板（支持体）、２・・・・・・多層膜
光学フィルタ要素、３・・・・・・単層膜光学フィルタ
要素。
Claims (5)
- （１）多層膜よりなる光学フィルタ要素を有する光学干
渉フィルタに単層膜よりなる光学フィルタ要素を付加し
、多層膜よりなる光学フィルタ要素の温度変化による分
光透過率の変化量を単層膜よりなる光学フィルタ要素の
温度変化による分光透過率の変化量で補償することを特
徴とする光学干渉フィルタ。 - （２）基板の一方の面に多層膜よりなる光学フィルタ要
素を形成するとともに基板の他方の面に単層膜よりなる
光学フィルタ要素を形成することを特徴とする実用新案
登録請求の範囲第１項記載の光学干渉フィルタ。 - （３）多層膜よりなる光学フィルタ要素と単層膜よりな
る光学フィルタ要素とをそれぞれ異なった基板に形成す
ることを特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項記載
の光学干渉フィルタ。 - （４）単層膜よりなる光学フィルタ要素として、多層膜
よりなる光学フィルタ要素と同一極性の分光透過率温度
特性を有しかつ温度変化による分光透過率の変化量が多
層膜よりなる光学フィルタ要素よりも大きなものを用い
ることを特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項記載
の光学干渉フィルタ。 - （５）単層膜よりなる光学フィルタ要素として、温度変
化による分光透過率の変化量が多層膜よりなる光学フィ
ルタ要素よりも充分小さなものを用いることを特徴とす
る実用新案登録請求の範囲第１項記載の光学干渉フィル
タ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP703279U JPS5932965Y2 (ja) | 1979-01-19 | 1979-01-19 | 光学干渉フィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP703279U JPS5932965Y2 (ja) | 1979-01-19 | 1979-01-19 | 光学干渉フィルタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55105405U JPS55105405U (ja) | 1980-07-23 |
| JPS5932965Y2 true JPS5932965Y2 (ja) | 1984-09-14 |
Family
ID=28814408
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP703279U Expired JPS5932965Y2 (ja) | 1979-01-19 | 1979-01-19 | 光学干渉フィルタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5932965Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0718961B2 (ja) * | 1984-03-21 | 1995-03-06 | 株式会社堀場製作所 | 帯域透過フィルタ |
| JPH0812281B2 (ja) * | 1985-11-13 | 1996-02-07 | 富士通株式会社 | 光減衰板 |
-
1979
- 1979-01-19 JP JP703279U patent/JPS5932965Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55105405U (ja) | 1980-07-23 |
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