JPS5933276A - 3−ピロリジノ置換プロピオフエノン誘導体 - Google Patents
3−ピロリジノ置換プロピオフエノン誘導体Info
- Publication number
- JPS5933276A JPS5933276A JP57143326A JP14332682A JPS5933276A JP S5933276 A JPS5933276 A JP S5933276A JP 57143326 A JP57143326 A JP 57143326A JP 14332682 A JP14332682 A JP 14332682A JP S5933276 A JPS5933276 A JP S5933276A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- methyl
- ethyl
- acid
- benzene ring
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- Granted
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
フ−ノン誘導体、及びその薬理学的に許容しうる酸付加
塩に関するものである。
塩に関するものである。
更に詳しく言えば、本発明は一般式(1)(式中、R]
は水素原子又はメチル基を表わし、R] が水素原子
の時、R2 はベンゼン環の2位又は3位に存在する炭
素数2もしくは乙の低級アルキル基を表わし、R1 が
メチル基の時.R2はベンゼン環の2位、3位又は4位
に存在する炭素数2もしくは乙の低級アルキル基を表わ
す。)で示される新規な3−ピロリジノ置換10ピオフ
=ノン誘導体、及びその薬理学的に許容しうる酸付加塩
に関するものである。
は水素原子又はメチル基を表わし、R] が水素原子
の時、R2 はベンゼン環の2位又は3位に存在する炭
素数2もしくは乙の低級アルキル基を表わし、R1 が
メチル基の時.R2はベンゼン環の2位、3位又は4位
に存在する炭素数2もしくは乙の低級アルキル基を表わ
す。)で示される新規な3−ピロリジノ置換10ピオフ
=ノン誘導体、及びその薬理学的に許容しうる酸付加塩
に関するものである。
本発明の一般式(1)中、R2で示される炭素数2もし
くは6の低級γルキル基としてC倉、エチル1プロピル
、イソプロピル基が挙げられる。
くは6の低級γルキル基としてC倉、エチル1プロピル
、イソプロピル基が挙げられる。
本発明の前記一般式(1)で示される化合物は、所望t
こ応じて薬理学的に許容しつる酸付加塩pこ変換するこ
とも、又は生成した酸付加塩から、塩基を遊離させるこ
とも′できる。
こ応じて薬理学的に許容しつる酸付加塩pこ変換するこ
とも、又は生成した酸付加塩から、塩基を遊離させるこ
とも′できる。
本発明の前記一般式(1)で示される化合物の薬理学的
に許容しつる酸付加塩としては、たとえば、塩酸、硝酸
、硫酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、燐酸等の鉱酸塩、
あるいは、酢酸。
に許容しつる酸付加塩としては、たとえば、塩酸、硝酸
、硫酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、燐酸等の鉱酸塩、
あるいは、酢酸。
マレイン酸、フマール酸、クエン酸、ンユウ酸。
酒石酸等の有機酸塩が挙げられる。
本発明の前記一般式(1)で示される新規なろ一ピロリ
ジノ置換グロビオ7−ノン誘導体は、次の一般式(11
) (式中、R1およびR2は前述と同意義を表わす。) で示されるケト化合物に、溶媒中ホルムアルデヒド類お
よび、次の式(II+) で示されるピロリジンもしくはその塩類を、それ自体公
知の方法(マンニッヒ反応)で反応させることにより製
造される。
ジノ置換グロビオ7−ノン誘導体は、次の一般式(11
) (式中、R1およびR2は前述と同意義を表わす。) で示されるケト化合物に、溶媒中ホルムアルデヒド類お
よび、次の式(II+) で示されるピロリジンもしくはその塩類を、それ自体公
知の方法(マンニッヒ反応)で反応させることにより製
造される。
使用されるホルムアルデヒド類としては、ホルムアルデ
ヒド、又はその線状もしくは環状重合体であるパラ、ホ
ルムアルデヒド、トリオキサン等が挙げられる。
ヒド、又はその線状もしくは環状重合体であるパラ、ホ
ルムアルデヒド、トリオキサン等が挙げられる。
又、ビ0 リン7は通常塩酸、臭化水素酸、硝酸等の鉱
酸塩として使用するが、遊離のピロリジンを使用すると
きは、反応系が充分酸性となるに足る鉱酸を加えて行う
ことにより実施できる0 反応当量比は適宜選択しうるが、特に反応後の処理eこ
おいて残留するピロリジンを消失させる必要から、前記
式(Il+ >で示されるピロリジン1当量tこ対して
、前記一般式(11)で示されるケト化合物の少なくと
も1当債以J−、、好ましくは2当計と、ホルムアルデ
ヒド類の少なくとも1当世以」−1好ましくけ6当量と
を反応せしめることである。
酸塩として使用するが、遊離のピロリジンを使用すると
きは、反応系が充分酸性となるに足る鉱酸を加えて行う
ことにより実施できる0 反応当量比は適宜選択しうるが、特に反応後の処理eこ
おいて残留するピロリジンを消失させる必要から、前記
式(Il+ >で示されるピロリジン1当量tこ対して
、前記一般式(11)で示されるケト化合物の少なくと
も1当債以J−、、好ましくは2当計と、ホルムアルデ
ヒド類の少なくとも1当世以」−1好ましくけ6当量と
を反応せしめることである。
反応(こ際して用いられる溶媒としては、メタノール、
エタノール、10パノール、イソプロパツール等のアル
コール系溶媒、ニトロメタン。
エタノール、10パノール、イソプロパツール等のアル
コール系溶媒、ニトロメタン。
ニトロエタン等のニトロアルカン系溶a、酢i+メチル
、酢酸エチル、プロピオン酸エチル等の低級脂肪酸低級
アルキルエステル系溶媒を挙げることができ、特に低級
脂肪酸低級アルキルエステル系溶媒を使用することが好
ましい。
、酢酸エチル、プロピオン酸エチル等の低級脂肪酸低級
アルキルエステル系溶媒を挙げることができ、特に低級
脂肪酸低級アルキルエステル系溶媒を使用することが好
ましい。
反応は室温から加熱還流下において行われ、特に好まし
くは使用する溶媒の還流温度下tこおいて行うことであ
る。
くは使用する溶媒の還流温度下tこおいて行うことであ
る。
この様にして製造される前記一般式(1)で示される新
規な3−ピロリジノ置換10ビオフェノン誘導体、及び
その薬理学的に許容しうる酸付加塩は、優れた筋弛緩、
を髄反射抑制、抗痙ψ作用等を有しており、腰背痛、椎
間板ヘルニア、変形性を椎症等の運動器疾俄に伴う有痛
性筋痙縮の治療剤として極めて有用である。
規な3−ピロリジノ置換10ビオフェノン誘導体、及び
その薬理学的に許容しうる酸付加塩は、優れた筋弛緩、
を髄反射抑制、抗痙ψ作用等を有しており、腰背痛、椎
間板ヘルニア、変形性を椎症等の運動器疾俄に伴う有痛
性筋痙縮の治療剤として極めて有用である。
以下、本発明を実施例tこよって説明する。
実施例1
4−エチル−2−メチル−3−ビロリン/10ビオフエ
ノン・fIX酸塩 4−エチルフ90ビオフェノン6.80gの酢酸エチル
エステル60 M! 溶液)こ、ピロリジノ150gお
よびパラホルムアルデヒド190gを加える。次いで、
冷却攪拌下、廖化水素ガスを導入し酸性となし、2時間
加熱還流する。反応後、塩酸水溶液を加えて振とうし、
水層を分取する。
ノン・fIX酸塩 4−エチルフ90ビオフェノン6.80gの酢酸エチル
エステル60 M! 溶液)こ、ピロリジノ150gお
よびパラホルムアルデヒド190gを加える。次いで、
冷却攪拌下、廖化水素ガスを導入し酸性となし、2時間
加熱還流する。反応後、塩酸水溶液を加えて振とうし、
水層を分取する。
水層は炭酸カリウムにてアルカリ性となし、酢酸エチル
エステル抽出する。酢酸エチルエステル層は水洗、脱水
。溶媒を留去し、得られた残渣にエタノール性塩酸を加
える。溶媒を留去し、得られた残渣に酢酸エチルエステ
ルを加え、析出結晶を戸取する。p載物をメチルエチル
ケトンから再結晶して、融点152〜156°の無色針
状晶3.’00 gを得る。
エステル抽出する。酢酸エチルエステル層は水洗、脱水
。溶媒を留去し、得られた残渣にエタノール性塩酸を加
える。溶媒を留去し、得られた残渣に酢酸エチルエステ
ルを加え、析出結晶を戸取する。p載物をメチルエチル
ケトンから再結晶して、融点152〜156°の無色針
状晶3.’00 gを得る。
元素分析値 C16823NO・HCI・−1−120
4 理論値 c、 67.12 ;H,862;N、 4.
89実験値 0.67.35 i H,8,65; N
、 5.01尚、 出発原料4−エチルプロピオフ−ノ
ンは、77 ルマソイ−(Pharmazie) 、
24 、 735(1969)rこ従って、エチルベン
ゼンより製造することができる。
4 理論値 c、 67.12 ;H,862;N、 4.
89実験値 0.67.35 i H,8,65; N
、 5.01尚、 出発原料4−エチルプロピオフ−ノ
ンは、77 ルマソイ−(Pharmazie) 、
24 、 735(1969)rこ従って、エチルベン
ゼンより製造することができる。
特許出願人 北陸製薬株式会社
手 続 補 正 書
昭和58年4 月 4日
特許庁長官 若 杉 和 夫 殿
1事件の表示 昭和57年 特許項第145326号
2発明の名称 6−ビロリジ/置換プロピオフェノ
ン誘導体6補正をする者 事件との関係 特許出願人 〒911 住 所 福井県勝山市立用町1丁目6−144補正
命令の日付 自 発 5捕正により増加する発明の数 す シロ補正の
対象 明細書中「発明の詳細な説明」の摺 入補正の内容 (1) 明細書第7頁上第7行目と出願人名との間
に、以下の文章を加入する。
2発明の名称 6−ビロリジ/置換プロピオフェノ
ン誘導体6補正をする者 事件との関係 特許出願人 〒911 住 所 福井県勝山市立用町1丁目6−144補正
命令の日付 自 発 5捕正により増加する発明の数 す シロ補正の
対象 明細書中「発明の詳細な説明」の摺 入補正の内容 (1) 明細書第7頁上第7行目と出願人名との間
に、以下の文章を加入する。
[実施例2
ポープロピル−2−メチル−6−ピロリジノプロピオフ
ェノン・塩酸塩 4′−プロピルプロピオフェノン5.00gのイソプロ
パ/−ル10m1!溶液に、ピロリジン・塩M塩3.0
0 g 、バラホルムアルデヒド1.30g及び40%
エタノール性塩酸0、5 rnlを加え、4.5時間加
熱還流する。反応後溶媒を留去し、残渣に塩酸水溶液を
加えて抽出し、水層を分取する。水層をエーテルで洗浄
後、炭酸カリウムにてアルカリ性となし、エーテル抽出
する。エーテル層は水洗、脱水。溶媒を留去し、得られ
た残渣をエーテルに溶解後、40%エタノール性塩酸を
加える。析出結晶を戸数し、p載物をエタノール及びエ
ーテルの混液で洗浄する。p載物をメチルエチルケトン
かう再結晶して、融点151〜152°の無色針状晶1
.50g7に得る。
ェノン・塩酸塩 4′−プロピルプロピオフェノン5.00gのイソプロ
パ/−ル10m1!溶液に、ピロリジン・塩M塩3.0
0 g 、バラホルムアルデヒド1.30g及び40%
エタノール性塩酸0、5 rnlを加え、4.5時間加
熱還流する。反応後溶媒を留去し、残渣に塩酸水溶液を
加えて抽出し、水層を分取する。水層をエーテルで洗浄
後、炭酸カリウムにてアルカリ性となし、エーテル抽出
する。エーテル層は水洗、脱水。溶媒を留去し、得られ
た残渣をエーテルに溶解後、40%エタノール性塩酸を
加える。析出結晶を戸数し、p載物をエタノール及びエ
ーテルの混液で洗浄する。p載物をメチルエチルケトン
かう再結晶して、融点151〜152°の無色針状晶1
.50g7に得る。
元素分析値 C16823NO・HOI理論値 0.6
9.02;H,8,86;N、 4.73実験値 (!
、 68.75i)1.9.25iN、 4.64尚、
出発原料ギーブロビルプロピオフェ/ンは、7アルマツ
イー (Pharmazj、e)、24゜735(19
69)に従って、プロピルベンゼンより製造することが
できる。一 実施例6 4′−イソプロピル−2−メチル−6−ピロリジノプロ
ピオフェノン・塩酸塩 4I−イソプロピルプロピ牙フェ/ン10゜00gの酢
酸エチルエステル8[1srl溶液、ピロリジン2.0
0g、バラホルムアルデヒド2.50g及び塩化水素ガ
スを用い、以下実施例1と同様に処理する。戸載物をメ
チルエチルケトンから再結晶して、融点151〜133
°の無色針状晶3.58g’r得る。
9.02;H,8,86;N、 4.73実験値 (!
、 68.75i)1.9.25iN、 4.64尚、
出発原料ギーブロビルプロピオフェ/ンは、7アルマツ
イー (Pharmazj、e)、24゜735(19
69)に従って、プロピルベンゼンより製造することが
できる。一 実施例6 4′−イソプロピル−2−メチル−6−ピロリジノプロ
ピオフェノン・塩酸塩 4I−イソプロピルプロピ牙フェ/ン10゜00gの酢
酸エチルエステル8[1srl溶液、ピロリジン2.0
0g、バラホルムアルデヒド2.50g及び塩化水素ガ
スを用い、以下実施例1と同様に処理する。戸載物をメ
チルエチルケトンから再結晶して、融点151〜133
°の無色針状晶3.58g’r得る。
元素分析値 017825NO−HCjl理論値 0.
69.02 、u、 8.86 ; N、 4.73実
験値 C,68,62iH,9,01;N、 4.62
尚、出発原料4°−イソプロピルプロピ刈フェノンは、
フフルマツイ−(Pharmazi、e )+24.7
35 (196,9)に従って、イソプロピルベンゼン
より製造することがてきる。
69.02 、u、 8.86 ; N、 4.73実
験値 C,68,62iH,9,01;N、 4.62
尚、出発原料4°−イソプロピルプロピ刈フェノンは、
フフルマツイ−(Pharmazi、e )+24.7
35 (196,9)に従って、イソプロピルベンゼン
より製造することがてきる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1一般式 (式中、R〕 は水素原子又はメチル基を表わし、R1
が水素原子の時、R2はベンゼン環の2位又は6位eこ
存在する炭素数2もしくは乙の低級アルキル基を表わし
、R1がメチル基の時、R2はベンゼン環の2位、6位
又は4位に存在する炭素数2もしくは3の低級アルキル
基を表わす。) で示される3−ピロリジノ置換10ビオフーノン誘導体
、及びその薬理学的tこ許容しつる酸付加塩。 2式 で示される特許請求の範囲第1項に記載の化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57143326A JPS5933276A (ja) | 1982-08-20 | 1982-08-20 | 3−ピロリジノ置換プロピオフエノン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57143326A JPS5933276A (ja) | 1982-08-20 | 1982-08-20 | 3−ピロリジノ置換プロピオフエノン誘導体 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8868887A Division JPS6339816A (ja) | 1987-04-13 | 1987-04-13 | 3−ピロリジノ置換プロピオフエノン誘導体を有効成分とする筋弛緩剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5933276A true JPS5933276A (ja) | 1984-02-23 |
| JPS6353989B2 JPS6353989B2 (ja) | 1988-10-26 |
Family
ID=15336180
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57143326A Granted JPS5933276A (ja) | 1982-08-20 | 1982-08-20 | 3−ピロリジノ置換プロピオフエノン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5933276A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0273375A3 (en) * | 1986-12-26 | 1990-05-16 | Hokuriku Pharmaceutical Co.,Ltd | Propiophenone derivatives for treatment of pollakiuria (frequency urination) |
| JPH03216667A (ja) * | 1990-01-23 | 1991-09-24 | Oki Electric Ind Co Ltd | 画像形成装置 |
-
1982
- 1982-08-20 JP JP57143326A patent/JPS5933276A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0273375A3 (en) * | 1986-12-26 | 1990-05-16 | Hokuriku Pharmaceutical Co.,Ltd | Propiophenone derivatives for treatment of pollakiuria (frequency urination) |
| JPH03216667A (ja) * | 1990-01-23 | 1991-09-24 | Oki Electric Ind Co Ltd | 画像形成装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6353989B2 (ja) | 1988-10-26 |
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