JPS5936979B2 - ジフェニルスルホン誘導体、その製造法およびこれらを有効成分として含有する除草剤 - Google Patents
ジフェニルスルホン誘導体、その製造法およびこれらを有効成分として含有する除草剤Info
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- JPS5936979B2 JPS5936979B2 JP55162319A JP16231980A JPS5936979B2 JP S5936979 B2 JPS5936979 B2 JP S5936979B2 JP 55162319 A JP55162319 A JP 55162319A JP 16231980 A JP16231980 A JP 16231980A JP S5936979 B2 JPS5936979 B2 JP S5936979B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C15/00—Cyclic hydrocarbons containing only six-membered aromatic rings as cyclic parts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
- C07C317/16—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
- C07C317/22—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton with sulfone or sulfoxide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
- A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
- A01N41/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a sulfur atom bound to a hetero atom
- A01N41/02—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a sulfur atom bound to a hetero atom containing a sulfur-to-oxygen double bond
- A01N41/10—Sulfones; Sulfoxides
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規なジフエニルスルホン誘導体、その製造
法およびそれらを有効成分として含有する除草剤に関す
るものである。
法およびそれらを有効成分として含有する除草剤に関す
るものである。
除草剤は、原則として水田、畑、果樹園等の雑草防除対
象地域に発生する多くの種類の雑草を全て枯殺しないと
充分な効果は発揮できない。
象地域に発生する多くの種類の雑草を全て枯殺しないと
充分な効果は発揮できない。
除草剤としては、特に多種類の雑草に対して良く効き、
作物に対して薬害の少ない安全性の高い除草剤が望まれ
る。除草効果を高めるだけならば、除草剤の施用量を多
くすれば、その目的を達することができ場合があるが、
その際、作物に対する薬害も増し、雑草防除の本来の目
標である収量の確保に反することになる。
作物に対して薬害の少ない安全性の高い除草剤が望まれ
る。除草効果を高めるだけならば、除草剤の施用量を多
くすれば、その目的を達することができ場合があるが、
その際、作物に対する薬害も増し、雑草防除の本来の目
標である収量の確保に反することになる。
また一方では、昨今ある種の農薬による環境汚染が問題
化しつつある。
化しつつある。
そのようななかで、少量施用で有効であり、かつまた残
留性の少ない除草剤の開発が望まれている。以上のよう
な状況下で、本発明者らは上述の条件に合うような優秀
な除草剤の開発を目指して研究を進めていく中で、ジフ
エニルスルホン誘導体が、従来の除草剤ではみられない
広範囲の雑草に対して水田雑草および畑雑草の発芽前処
理または生育期処理で強い殺草作用を示し、かつ、イネ
、トウモロコシ、小麦、大豆等の重要作物に対して薬害
がきわめて少なく安全に使用できることを見出した。
留性の少ない除草剤の開発が望まれている。以上のよう
な状況下で、本発明者らは上述の条件に合うような優秀
な除草剤の開発を目指して研究を進めていく中で、ジフ
エニルスルホン誘導体が、従来の除草剤ではみられない
広範囲の雑草に対して水田雑草および畑雑草の発芽前処
理または生育期処理で強い殺草作用を示し、かつ、イネ
、トウモロコシ、小麦、大豆等の重要作物に対して薬害
がきわめて少なく安全に使用できることを見出した。
本発明は、一般式〔１〕
轟Ｅｊ）
＼暴ノ〔式中、Ｒ１はハロゲ
ン原子またはニトロ基を示し、Ｒ２はハロゲン原子また
はトリフルオロメチル基を示し、Ｒ３は水素原子または
ハロゲン原子を示し、Ｒ４は水素原子、低級アルキル基
、ハロゲン原子または低級アルコキシル基を示し、Ｒ５
は水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子、低級アル
コキシル基または一般式−０−｛Ａ｝−ＣＯＯＲ７（式
中、Ａは低級アルキレン基を示し、Ｒ７は水素原子また
は低級アルキル基を示す。
＼暴ノ〔式中、Ｒ１はハロゲ
ン原子またはニトロ基を示し、Ｒ２はハロゲン原子また
はトリフルオロメチル基を示し、Ｒ３は水素原子または
ハロゲン原子を示し、Ｒ４は水素原子、低級アルキル基
、ハロゲン原子または低級アルコキシル基を示し、Ｒ５
は水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子、低級アル
コキシル基または一般式−０−｛Ａ｝−ＣＯＯＲ７（式
中、Ａは低級アルキレン基を示し、Ｒ７は水素原子また
は低級アルキル基を示す。
）を示し、Ｒ６は水素原子、低級アルキル基、ハロゲン
原子または低級アルコキシル基を示す。〕で表わされる
ジフエニルスルホン誘導体、その製造法およびそれらを
有効成分として含有する除草剤に係るものである。
原子または低級アルコキシル基を示す。〕で表わされる
ジフエニルスルホン誘導体、その製造法およびそれらを
有効成分として含有する除草剤に係るものである。
本発明のジフエニルスルホン誘導体は、一般に下記の方
法によつて製造される。
法によつて製造される。
方法（ａ）
ジフエニルエーテル誘導体とクロルスルホン酸またはフ
エノキシベンゼンスルホン酸とを適当な塩素化剤、たと
えばチオニルクロリド、五塩化リン等とを反応させるこ
とによつて得られる一般式〔〕〔式中、Ｒ１はハロゲン
原子またはニトロ基を示し、Ｒ２はハロゲン原子または
トリフルオロメチル基を示し、Ｒ３は水素原子またはハ
ロゲン原子を示し、Ｒ８は水素原子、低級アルキル基ま
たはハロゲン原子を示す。
エノキシベンゼンスルホン酸とを適当な塩素化剤、たと
えばチオニルクロリド、五塩化リン等とを反応させるこ
とによつて得られる一般式〔〕〔式中、Ｒ１はハロゲン
原子またはニトロ基を示し、Ｒ２はハロゲン原子または
トリフルオロメチル基を示し、Ｒ３は水素原子またはハ
ロゲン原子を示し、Ｒ８は水素原子、低級アルキル基ま
たはハロゲン原子を示す。
〕で表わされるフエノキシベンゼンスルホニルクロリド
誘導体と一般式〔ｌ〕 〔式中、Ｒ５は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシル基または一般式０−（４）−ＣＯ
ＯＲ７（式中、Ａは低級アルキレン基を示し、Ｒ７は低
級アルキル基を示す。
誘導体と一般式〔ｌ〕 〔式中、Ｒ５は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシル基または一般式０−（４）−ＣＯ
ＯＲ７（式中、Ａは低級アルキレン基を示し、Ｒ７は低
級アルキル基を示す。
）を示し、Ｒ６は水素原子、低級アルキル基、ハロゲン
原子または低級アルコキシル基を示す。〕で表わされる
ベンゼン誘導体とをルイス酸触媒存在下に反応させるこ
とによつて一般式〔１〕に含まれる下記一般式〔〕〔式
中、Ｒ，，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ５，Ｒ６およびＲ８は前述と
同じ意味を有する。
原子または低級アルコキシル基を示す。〕で表わされる
ベンゼン誘導体とをルイス酸触媒存在下に反応させるこ
とによつて一般式〔１〕に含まれる下記一般式〔〕〔式
中、Ｒ，，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ５，Ｒ６およびＲ８は前述と
同じ意味を有する。
〕で表わされるジフエニルスルホン誘導体を得る。
さらに詳しくは、一般式〔川〕で表わされるフエノキシ
ベンゼンスルホニルクロリド誘導体と一般式〔ｌ〕で表
わされる置換ベンゼン誘導体とを適当なルイス酸触媒、
たとえば無水塩化アルミニウム、無水塩化鉄、無水塩化
錫等の存在下に、無溶媒あるいは不活性溶媒、たとえば
ジクロルエタン、ニトロベンゼン、二硫化炭素等中、３
０〜１５０℃、好ましくは５０〜１２０℃の温度で反応
させることにより好収率で目的とする一般式〔〕で示さ
れるジフエニルスルホン誘導体を得る。方法（ｂ） 一般式〔〕 〔式中、Ｒ，はハロゲ原子またはニトロ基を示し、Ｒ２
はハロゲン原子またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒ
３は水素原子またはハロゲン原子を示し、Ｒ４は水素原
子、低級アルキル基、ハカゲン原子または低級アルコキ
シル基を示す。
ベンゼンスルホニルクロリド誘導体と一般式〔ｌ〕で表
わされる置換ベンゼン誘導体とを適当なルイス酸触媒、
たとえば無水塩化アルミニウム、無水塩化鉄、無水塩化
錫等の存在下に、無溶媒あるいは不活性溶媒、たとえば
ジクロルエタン、ニトロベンゼン、二硫化炭素等中、３
０〜１５０℃、好ましくは５０〜１２０℃の温度で反応
させることにより好収率で目的とする一般式〔〕で示さ
れるジフエニルスルホン誘導体を得る。方法（ｂ） 一般式〔〕 〔式中、Ｒ，はハロゲ原子またはニトロ基を示し、Ｒ２
はハロゲン原子またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒ
３は水素原子またはハロゲン原子を示し、Ｒ４は水素原
子、低級アルキル基、ハカゲン原子または低級アルコキ
シル基を示す。
〕で表わされるジフエニルエーテル誘導体と一般式〔〕
〔式中、Ｒ５は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシル基または一般式一０−（自）−Ｃ
ＯＯＲ７（式中、Ａは低級アルキレン基を示し、Ｒ７は
低級アルキル基を示す。
〔式中、Ｒ５は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシル基または一般式一０−（自）−Ｃ
ＯＯＲ７（式中、Ａは低級アルキレン基を示し、Ｒ７は
低級アルキル基を示す。
）を示し、Ｒ６は水素原子、低級アルキル基、ハロゲン
原子または低級アルコキシル基を示す。〕で表わされる
ベンゼンスルホニルクロリド誘導体とをルイス酸触媒存
在下に反応させることによつて、一般式〔１〕ＤｎＴ） 〔式中、Ｒｌ，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５およびＲ６は前
述と同じ意味を有する。
原子または低級アルコキシル基を示す。〕で表わされる
ベンゼンスルホニルクロリド誘導体とをルイス酸触媒存
在下に反応させることによつて、一般式〔１〕ＤｎＴ） 〔式中、Ｒｌ，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５およびＲ６は前
述と同じ意味を有する。
）で表わされるジフエニルスルホン誘導体を得る。
さらに詳しくは、一般式〕で表わされるジフエニルエー
テル誘導体と一般式〔〕で表わされるベンゼンスルホニ
ルクロリド誘導体とを適当なルイス酸触媒、たとえば塩
化アルミニウム、塩化鉄、塩化錫等の存在下に、無溶媒
あるいは不活性溶媒、たとえばジクロルエタン、ニトロ
ベンゼン、二硫化炭素等中、３０〜１５０℃、好ましく
は５０〜１２０℃の温度で反応させることにより好収率
で目的とする一般式〔１〕で示されるジフエニルスルホ
ン誘導体を得る。方法（ｃ） 一般式〔〕 〔式中、Ｒ，はハロゲン原子を示し、Ｒ２はハロゲン原
子またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒ３は水素原子
またはハロゲン原子を示し、ＲｌＯは水素原子または低
級アルコキシル基を示し、ド，およびＲｌｌは同一また
は相異なり、水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子
または低級アルコキシル基を示す。
テル誘導体と一般式〔〕で表わされるベンゼンスルホニ
ルクロリド誘導体とを適当なルイス酸触媒、たとえば塩
化アルミニウム、塩化鉄、塩化錫等の存在下に、無溶媒
あるいは不活性溶媒、たとえばジクロルエタン、ニトロ
ベンゼン、二硫化炭素等中、３０〜１５０℃、好ましく
は５０〜１２０℃の温度で反応させることにより好収率
で目的とする一般式〔１〕で示されるジフエニルスルホ
ン誘導体を得る。方法（ｃ） 一般式〔〕 〔式中、Ｒ，はハロゲン原子を示し、Ｒ２はハロゲン原
子またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒ３は水素原子
またはハロゲン原子を示し、ＲｌＯは水素原子または低
級アルコキシル基を示し、ド，およびＲｌｌは同一また
は相異なり、水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子
または低級アルコキシル基を示す。
〕で表わされるフエノキシジフエニルスルフイド誘導体
と酸化剤とを反応させることによつて、一般式〔１〕中
に含まれる下記一般式〔〕▲Ｔ３〜１１′ 〔式中、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ６，Ｒ，，ＲｌＯおよびＲｌｌ
は前述と同じ意味を有する。
と酸化剤とを反応させることによつて、一般式〔１〕中
に含まれる下記一般式〔〕▲Ｔ３〜１１′ 〔式中、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ６，Ｒ，，ＲｌＯおよびＲｌｌ
は前述と同じ意味を有する。
〕で表わされるジフエニルスルホン誘導体を得る。
さらに詳しくは、一般式〔〕で表わされるフエノキシジ
フエニルスルフイド誘導体を適当な溶媒、たとえば酢酸
、アセトン、水中で適当な酸化剤、たとえば過酸化水素
、過酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸に代表される有機過酸
、過酸化マンガン等とをＯ〜１２０℃、好ましくは３０
〜１００℃の温度で反応させることにより、好収率で目
的とする一般式〔〕で示されるジフエニルスルホン誘導
体を得る。次に本発明化合物の具体的な製造例およびそ
れらの方法に準じて合成された化合物例を記載するが、
もちろん本発明は下記の方法および化合物例に限定され
るものではない。
フエニルスルフイド誘導体を適当な溶媒、たとえば酢酸
、アセトン、水中で適当な酸化剤、たとえば過酸化水素
、過酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸に代表される有機過酸
、過酸化マンガン等とをＯ〜１２０℃、好ましくは３０
〜１００℃の温度で反応させることにより、好収率で目
的とする一般式〔〕で示されるジフエニルスルホン誘導
体を得る。次に本発明化合物の具体的な製造例およびそ
れらの方法に準じて合成された化合物例を記載するが、
もちろん本発明は下記の方法および化合物例に限定され
るものではない。
実施例 １
２４−ジクロルフエノキシ一４′−クロルジフ倉エニル
スルホンの製造法 ２，４−ジクロルジフエニルエーテル３９とｐクロルベ
ンゼンスルホニルクロリド２．６５９とを１００ｍ１の
二硫化炭素に溶かす。
スルホンの製造法 ２，４−ジクロルジフエニルエーテル３９とｐクロルベ
ンゼンスルホニルクロリド２．６５９とを１００ｍ１の
二硫化炭素に溶かす。
この溶液を１０℃以下に冷却して後無水塩化アルミニウ
ム１，８４９を加えた。５時間還流して反応を終る。
ム１，８４９を加えた。５時間還流して反応を終る。
反応液を濃縮してからトルエン８０ｍ１を加え、５％塩
酸水を滴下した。トルエン層を分離し、５％塩酸水、水
洗いをして硫酸マグネシウムで乾燥した。この液を濃縮
し、得られた油状物をシリカゲルクロマトグラフイ一で
精製した。メタノールで再結晶し、２，４−ジクロルフ
エノキシ一１クロルジフエニルスルホン０．６８９を得
た。融点１１３〜１１６ルＣ実施例 ２ ２−クロル−４−トリフルオロメチルフエノキシジフエ
ニルスルホンの製造法２−クロル−４−トリフルオロメ
チルフエノキシベンゼンスルホニルクロリド２ｆ！を２
０ｍ１のベンゼンに溶かす。
酸水を滴下した。トルエン層を分離し、５％塩酸水、水
洗いをして硫酸マグネシウムで乾燥した。この液を濃縮
し、得られた油状物をシリカゲルクロマトグラフイ一で
精製した。メタノールで再結晶し、２，４−ジクロルフ
エノキシ一１クロルジフエニルスルホン０．６８９を得
た。融点１１３〜１１６ルＣ実施例 ２ ２−クロル−４−トリフルオロメチルフエノキシジフエ
ニルスルホンの製造法２−クロル−４−トリフルオロメ
チルフエノキシベンゼンスルホニルクロリド２ｆ！を２
０ｍ１のベンゼンに溶かす。
これに塩化第二鉄０．９６９を加える。２時間還流して
反応を終る。
反応を終る。
ベンゼン溶液を５％塩酸水で洗い、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、濃縮し固化物を得た。エタノールで再結晶
し、２−クロル−４−トリフルオロメチルフエノキシジ
フエニルスルホン１．６ｇを得た。融点９１．５〜９．
３℃実施例 ３ ４−ブロム−′２！ ４′−ジクロロ−６′−フルオロ
ラフエノキシジフエニルスルホンの製造法 ２，４−ジクロロ−６−フルオロフエノキシベンゼンス
ルホニルクロリド２９を１５ｍ１のブロムベンゼンに溶
かす。
ムで乾燥後、濃縮し固化物を得た。エタノールで再結晶
し、２−クロル−４−トリフルオロメチルフエノキシジ
フエニルスルホン１．６ｇを得た。融点９１．５〜９．
３℃実施例 ３ ４−ブロム−′２！ ４′−ジクロロ−６′−フルオロ
ラフエノキシジフエニルスルホンの製造法 ２，４−ジクロロ−６−フルオロフエノキシベンゼンス
ルホニルクロリド２９を１５ｍ１のブロムベンゼンに溶
かす。
この溶液に塩化第二鉄１９を加え、１００℃まで加温し
、２時間反応させる。反応終了後、５％塩酸水で洗い、
トルエンを加えて抽出し、無水硫酸マグナシウムで乾燥
した。乾燥後トルエン液を濃縮し、シリカゲルクロマト
グラフイ一で精製した。この固化物をエタノールで再結
晶し、４−ブロム−２′，４′−ジクロロ−６′−フル
オロフエノキシジフエニルスルホン１．１９を得た。融
点１０９．５〜１１０．５ホＣ実施例 ４ ２，４−ジクロル−６−フルオロフエノキシジフエニル
スルホンの製造法２，４−ジクロル−６−フルオロフエ
ノキシジフエニルスルフイド２．５９を酢酸３０ｍ１に
溶かし、撹拌しながら常温で３０％の過酸化水素水３９
を滴下した。
、２時間反応させる。反応終了後、５％塩酸水で洗い、
トルエンを加えて抽出し、無水硫酸マグナシウムで乾燥
した。乾燥後トルエン液を濃縮し、シリカゲルクロマト
グラフイ一で精製した。この固化物をエタノールで再結
晶し、４−ブロム−２′，４′−ジクロロ−６′−フル
オロフエノキシジフエニルスルホン１．１９を得た。融
点１０９．５〜１１０．５ホＣ実施例 ４ ２，４−ジクロル−６−フルオロフエノキシジフエニル
スルホンの製造法２，４−ジクロル−６−フルオロフエ
ノキシジフエニルスルフイド２．５９を酢酸３０ｍ１に
溶かし、撹拌しながら常温で３０％の過酸化水素水３９
を滴下した。
その後５『Ｃの湯浴に浸し、３時間反応させた。反応終
了後５％のハイポ水溶液を加えててから反応液を濃縮し
、トルエンにて抽出した。このトルエン層を５％力性ソ
ーダ水、５％塩酸水、さらに水で洗い、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。乾燥トルエン溶液を濃縮し、油状物
を得る。さらにシリカゲルクロマトグラフイ一で精製し
、油状物を得る。これをエタノールから再結晶し、２４
−ジクロル−６−フルオロフエノキシジフラエニルスル
ホン１．１９を得た。
了後５％のハイポ水溶液を加えててから反応液を濃縮し
、トルエンにて抽出した。このトルエン層を５％力性ソ
ーダ水、５％塩酸水、さらに水で洗い、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。乾燥トルエン溶液を濃縮し、油状物
を得る。さらにシリカゲルクロマトグラフイ一で精製し
、油状物を得る。これをエタノールから再結晶し、２４
−ジクロル−６−フルオロフエノキシジフラエニルスル
ホン１．１９を得た。
融点９２〜９７実施例 ５４−（２，４−ジクロルフエ
ノキシ）−２，４′−ジメトキシジフエニルスルホンの
製造法４−（２，４−ジクロルフエノキシ）−２，４′
ジメトキシジフエニルスルフイド１．２９を酢酸３０ｍ
１に溶かし、攪拌しながら、常温で３０％過酸化水素水
３９を滴下した。
ノキシ）−２，４′−ジメトキシジフエニルスルホンの
製造法４−（２，４−ジクロルフエノキシ）−２，４′
ジメトキシジフエニルスルフイド１．２９を酢酸３０ｍ
１に溶かし、攪拌しながら、常温で３０％過酸化水素水
３９を滴下した。
その後５０℃の湯浴に浸し、３時間反応させた。反応終
了後５％ハイポ水溶液を加えてから反応液を濃縮し、ト
ルエンにて抽出し、トルエン層を水洗し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。このトルエン液を濃縮し、放置し
ておくと結晶化した。これをエタノールで再結晶し、４
−（２，４−ジクロルフエノキシ）２，４′−ジメトキ
シジフエニルスルホン０．７９を得た。融点１２４〜１
２８．５スＣ実施例 ６ ４−（２−クロル−４−トリフルオロメチルフエノキシ
）−２−エトキシ−４′−メトキシジフエニルスルホン
の製造法４−（２−クロル−４−トリフルオロメチルフ
エノキシ）−２−エトキシ−４′−メトキシジフエニル
スルフイド４０９を酢酸２００ｄに溶かし、攪拌しなが
ら３０％過酸化水素水５６ｇを滴下した。
了後５％ハイポ水溶液を加えてから反応液を濃縮し、ト
ルエンにて抽出し、トルエン層を水洗し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。このトルエン液を濃縮し、放置し
ておくと結晶化した。これをエタノールで再結晶し、４
−（２，４−ジクロルフエノキシ）２，４′−ジメトキ
シジフエニルスルホン０．７９を得た。融点１２４〜１
２８．５スＣ実施例 ６ ４−（２−クロル−４−トリフルオロメチルフエノキシ
）−２−エトキシ−４′−メトキシジフエニルスルホン
の製造法４−（２−クロル−４−トリフルオロメチルフ
エノキシ）−２−エトキシ−４′−メトキシジフエニル
スルフイド４０９を酢酸２００ｄに溶かし、攪拌しなが
ら３０％過酸化水素水５６ｇを滴下した。
滴下後５０℃で３時間反応させた。反応終了後５％ハイ
ポ水溶液を加えてから、反応液を濃縮し、トルエンにて
抽出し、５％力性ソーダ水溶液で洗い更に水洗後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。このトルエン液を濃縮し
、油状物を得た。この油状物をシリカゲルクロマトグラ
フイ一により、精製し、得られた油状物にエタノールを
加えて放置すると結晶化した。これをエタノールで再結
晶し、４−（２−クロル−４−トリフルオロメチルフエ
ノキシ）−２−エトキシ−４′−メトキシジフエニルス
ルホン１１．４ｆ１を得た。融点１０１〜１０２ルＣ実
施例 ７ ４−（２，６−ジクロロ−４−Ｕフルオロメチルフエノ
キシ）−２−メトキシ−４′−メトキシジフエニルスル
ホンの製造法２６−ジクロロ−４−トリフルオロメチル
ーツ３′−メトキシジフエニルエーテル２９とｐ−メト
キシベンゼンスルホニルクロリド１．２２９をジクロル
エタン５０ｍ１に溶かし、これに塩化第二鉄１．１５９
を加え、２時間還流して反応を終る。
ポ水溶液を加えてから、反応液を濃縮し、トルエンにて
抽出し、５％力性ソーダ水溶液で洗い更に水洗後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。このトルエン液を濃縮し
、油状物を得た。この油状物をシリカゲルクロマトグラ
フイ一により、精製し、得られた油状物にエタノールを
加えて放置すると結晶化した。これをエタノールで再結
晶し、４−（２−クロル−４−トリフルオロメチルフエ
ノキシ）−２−エトキシ−４′−メトキシジフエニルス
ルホン１１．４ｆ１を得た。融点１０１〜１０２ルＣ実
施例 ７ ４−（２，６−ジクロロ−４−Ｕフルオロメチルフエノ
キシ）−２−メトキシ−４′−メトキシジフエニルスル
ホンの製造法２６−ジクロロ−４−トリフルオロメチル
ーツ３′−メトキシジフエニルエーテル２９とｐ−メト
キシベンゼンスルホニルクロリド１．２２９をジクロル
エタン５０ｍ１に溶かし、これに塩化第二鉄１．１５９
を加え、２時間還流して反応を終る。
反応終了後、５％塩酸水で洗い、さらに水洗いし、有機
層を濃縮した。得られた油状物にエタノールを加え、冷
却すると結晶化した。これをトルエンで再結晶し、４−
（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフエノキ
シ）−２−メトキシ−１−メトキシジフエニルスルホン
０．８４９を得た。融点１６８〜１６９．５℃さらに詳
しく本発明を説明すると、本発明化合物は水田において
は、雑草の発芽前または発芽後に土壌兼茎葉処理をする
ことにより、水稲に対し害作用を及ぼすことなく、タイ
ヌビエ、イヌビエ等のイネ科雑草、タマガヤツリ、カヤ
ツリグサ等の一年生カヤツリグサ科雑草などの単子葉雑
草、またアゼナ、アゼトウガラシ、アブノメ、コナギ、
キカシグサ、ミゾハコベ等の広葉雑草またはウリカワ等
の多年生雑草を防除することができる。
層を濃縮した。得られた油状物にエタノールを加え、冷
却すると結晶化した。これをトルエンで再結晶し、４−
（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフエノキ
シ）−２−メトキシ−１−メトキシジフエニルスルホン
０．８４９を得た。融点１６８〜１６９．５℃さらに詳
しく本発明を説明すると、本発明化合物は水田において
は、雑草の発芽前または発芽後に土壌兼茎葉処理をする
ことにより、水稲に対し害作用を及ぼすことなく、タイ
ヌビエ、イヌビエ等のイネ科雑草、タマガヤツリ、カヤ
ツリグサ等の一年生カヤツリグサ科雑草などの単子葉雑
草、またアゼナ、アゼトウガラシ、アブノメ、コナギ、
キカシグサ、ミゾハコベ等の広葉雑草またはウリカワ等
の多年生雑草を防除することができる。
また、畑地においては、雑草の発芽前または発芽後茎葉
兼土壌処理することにより、畑地の雑草であるシロザ、
イチビ、マルバアサガオ、アオビユ、ソバカズラ等の広
葉雑草を防除することができる。さらに狭葉雑草では、
カヤツリグサ、ヒエ、エノコログサ、メヒシバ、オオク
サキビ、オヒシバ、ヤセチヤヒキ、ヒメカモジグサ等も
防除することができる。一方実用薬量では、イネ、トウ
モロコシ、小麦、大麦等の作物は薬害をうけることはな
い。
兼土壌処理することにより、畑地の雑草であるシロザ、
イチビ、マルバアサガオ、アオビユ、ソバカズラ等の広
葉雑草を防除することができる。さらに狭葉雑草では、
カヤツリグサ、ヒエ、エノコログサ、メヒシバ、オオク
サキビ、オヒシバ、ヤセチヤヒキ、ヒメカモジグサ等も
防除することができる。一方実用薬量では、イネ、トウ
モロコシ、小麦、大麦等の作物は薬害をうけることはな
い。
さらに、果樹園、非農耕地、山林等においても除草剤と
して有効に使用することができる。
して有効に使用することができる。
本発明化合物は、担体および必要に応じて他の補助剤と
混合して、除草剤として通常用いられる製剤形態、たと
えば粉剤、粗粉剤、微粒剤、粒剤、水和剤、乳剤、フロ
アブル剤、水溶剤、油懸濁剤等に調製されて使用される
。ここでいう担体とは、処理すべき部位へ有効成分化合
物の到達性を助け、また有効成分化合物の貯蔵、輸送あ
るいは取り扱いを容易にするために除草剤中に混合され
る合成または天然の無機または有機物質を意味する。適
当な固体担体としては、カオリナイト群、モンモリロナ
イト群あるいはアタパルジヤイト群等で代表されるクレ
ー類、タルク、雲母、葉ロウ石、軽石、バーミユキライ
ト、石こう、炭酸カルシウム、ドロマイト、けいそう土
、マグネシウム石灰、りん灰石、ゼオライト、無水ケイ
酸、合成ケイ酸カルシウム、等の無機物質、大豆粉、タ
バコ粉、クルミ粉、小麦粉、木粉、でんぷん、結晶セル
ロース等の植物｛生有機物質、クマロン樹脂、石油樹脂
、アルキド樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリアルキレングリ
コール、ケトン樹脂、エステルガム、コーバルガム、ダ
ンマルガム等の合成または天然の高分子化合物、カルナ
バロウ、密ロウ等のワツクス類あるいは尿素等があげら
れる。適当な液体担体としては、ケロシン、鉱油、スピ
ンドル油、ホワイトオイル等のパラフイン系もしくはナ
フテン系炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、エ
チルベンゼン、クメン、メチルナフタリン等の芳香族炭
化水素、四塩化炭素、クロロホルム、トリクロルエチレ
ン、モノクロルベンゼン、０−クロルトルエン等の塩素
化炭化水素、ジオキサン、テトラヒドロフランのような
エーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジイソブ
チルケトン、シクロヘキサノン、アセトフエノン、イソ
ボロン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸アミル、エチレ
ングリコールアセテート、ジエチレングリコールアセテ
ート、マレイン酸ジブチル、コハク酸ジエチル等のエス
テル類、メタノール、ｎ一ヘキサノール、エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、シクロヘキサノール、
ベンジルアルコール等のアルコール類、エチレングリコ
ールエチルエーテル、エチレングリコールフエニルエー
テル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレ
ングリコールブチルエーテル等のエーテルアルコール類
、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極
性溶媒あるいは水等があげられる。
混合して、除草剤として通常用いられる製剤形態、たと
えば粉剤、粗粉剤、微粒剤、粒剤、水和剤、乳剤、フロ
アブル剤、水溶剤、油懸濁剤等に調製されて使用される
。ここでいう担体とは、処理すべき部位へ有効成分化合
物の到達性を助け、また有効成分化合物の貯蔵、輸送あ
るいは取り扱いを容易にするために除草剤中に混合され
る合成または天然の無機または有機物質を意味する。適
当な固体担体としては、カオリナイト群、モンモリロナ
イト群あるいはアタパルジヤイト群等で代表されるクレ
ー類、タルク、雲母、葉ロウ石、軽石、バーミユキライ
ト、石こう、炭酸カルシウム、ドロマイト、けいそう土
、マグネシウム石灰、りん灰石、ゼオライト、無水ケイ
酸、合成ケイ酸カルシウム、等の無機物質、大豆粉、タ
バコ粉、クルミ粉、小麦粉、木粉、でんぷん、結晶セル
ロース等の植物｛生有機物質、クマロン樹脂、石油樹脂
、アルキド樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリアルキレングリ
コール、ケトン樹脂、エステルガム、コーバルガム、ダ
ンマルガム等の合成または天然の高分子化合物、カルナ
バロウ、密ロウ等のワツクス類あるいは尿素等があげら
れる。適当な液体担体としては、ケロシン、鉱油、スピ
ンドル油、ホワイトオイル等のパラフイン系もしくはナ
フテン系炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、エ
チルベンゼン、クメン、メチルナフタリン等の芳香族炭
化水素、四塩化炭素、クロロホルム、トリクロルエチレ
ン、モノクロルベンゼン、０−クロルトルエン等の塩素
化炭化水素、ジオキサン、テトラヒドロフランのような
エーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジイソブ
チルケトン、シクロヘキサノン、アセトフエノン、イソ
ボロン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸アミル、エチレ
ングリコールアセテート、ジエチレングリコールアセテ
ート、マレイン酸ジブチル、コハク酸ジエチル等のエス
テル類、メタノール、ｎ一ヘキサノール、エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、シクロヘキサノール、
ベンジルアルコール等のアルコール類、エチレングリコ
ールエチルエーテル、エチレングリコールフエニルエー
テル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレ
ングリコールブチルエーテル等のエーテルアルコール類
、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極
性溶媒あるいは水等があげられる。
乳化、分散、湿潤、拡展、結合、崩壊性調節、有効成分
安定化、流動性改良、防錆等の目的で使用される界面活
性剤は、非イオン性、陰イオン性、陽イオン性および両
性イオン性のいずれのものをも使用しうるが、通常は非
イオン性および（または）陰イオン性のものが使用され
る。
安定化、流動性改良、防錆等の目的で使用される界面活
性剤は、非イオン性、陰イオン性、陽イオン性および両
性イオン性のいずれのものをも使用しうるが、通常は非
イオン性および（または）陰イオン性のものが使用され
る。
適当な非イオン性界面活性剤としては、たとえば、ラウ
リルアルコール、ステアリルアルコール、オレイルアル
コール等の高級アルコールにエチレンオキシドを重合付
加させたもの、イソオクチルフエノール、ノニルフエノ
ール等のアルキルフエノールにエチレンオキシドを重合
付加させたもの、ブチルナフトール、オクチルナフトー
ル等のアルキルナフトールにエチレンオキシドを重合付
加させたもの、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン
酸等の高級脂肪酸にエチレンオキシドを重合付加させた
もの、ステアリルりん酸、ジラウリルりん酸等のモノも
しくはジアルキルリん酸にエチレンオキシドを重合付加
させたもの、ドデシルアミン、ステアリン酸アミド等の
アミンにエチレンオキシドを重合付加させたもの、ゾル
ビタン等の多価アルコ一ルの高級脂肪酸エステルおよび
それにエチレンオキシドを重合付加させたもの、エチレ
ンオキシドとプロピレンオキシドを重合付加させたもの
等があげられる。適当な陰イオン性界面活性剤としては
、たとえば、ラウリル硫酸ナトリウム、オレイルアルコ
ール硫酸エステルアミン塩等のアルキル硫酸エステル塩
、スルホこはく酸ジオクチルエステルナトリウム、２−
エチルヘキセンスルホン酸ナトリウム等のアルキルスル
ホン酸塩、イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウ
ム、メチレンビスナフタレンスルホン酸ナトリウム、リ
グニンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム等のアリールスルホン酸塩等があげられ
る。さらに本発明の除草剤には製剤の性状を改善し、生
物効果を高める目的で、カゼイン、ゼラチン、アルブミ
ン、ニカワ、アルギン酸ソーダ、カルボキシメチルセル
ロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロー
ス、ポリビニルアルコール等の高分子化合物や他の補助
剤を併用することもできる。
リルアルコール、ステアリルアルコール、オレイルアル
コール等の高級アルコールにエチレンオキシドを重合付
加させたもの、イソオクチルフエノール、ノニルフエノ
ール等のアルキルフエノールにエチレンオキシドを重合
付加させたもの、ブチルナフトール、オクチルナフトー
ル等のアルキルナフトールにエチレンオキシドを重合付
加させたもの、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン
酸等の高級脂肪酸にエチレンオキシドを重合付加させた
もの、ステアリルりん酸、ジラウリルりん酸等のモノも
しくはジアルキルリん酸にエチレンオキシドを重合付加
させたもの、ドデシルアミン、ステアリン酸アミド等の
アミンにエチレンオキシドを重合付加させたもの、ゾル
ビタン等の多価アルコ一ルの高級脂肪酸エステルおよび
それにエチレンオキシドを重合付加させたもの、エチレ
ンオキシドとプロピレンオキシドを重合付加させたもの
等があげられる。適当な陰イオン性界面活性剤としては
、たとえば、ラウリル硫酸ナトリウム、オレイルアルコ
ール硫酸エステルアミン塩等のアルキル硫酸エステル塩
、スルホこはく酸ジオクチルエステルナトリウム、２−
エチルヘキセンスルホン酸ナトリウム等のアルキルスル
ホン酸塩、イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウ
ム、メチレンビスナフタレンスルホン酸ナトリウム、リ
グニンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム等のアリールスルホン酸塩等があげられ
る。さらに本発明の除草剤には製剤の性状を改善し、生
物効果を高める目的で、カゼイン、ゼラチン、アルブミ
ン、ニカワ、アルギン酸ソーダ、カルボキシメチルセル
ロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロー
ス、ポリビニルアルコール等の高分子化合物や他の補助
剤を併用することもできる。
上記の担体および種々の補助剤は製剤の剤型、適用場面
等を考慮して、目的に応じてそれぞれ単独にあるいは組
合わせて適宜使用される。
等を考慮して、目的に応じてそれぞれ単独にあるいは組
合わせて適宜使用される。
粉剤は、たとえば有効成分化合物を通常１ないし２５重
量部含有し、残部は固体担体である。
量部含有し、残部は固体担体である。
水和剤は、たとえば有効成分化合物を通常２５ないし９
０重量部含有し、残部は固体担体、分散湿潤剤であつて
、必要に応じて保護コロイド剤、チキソトロビ一剤、消
泡剤等が加えられる。粒剤は、たとえば有効成分化合物
を通常０．５ないし３５重量部含有し、残部は大部分が
固体担体である。有効成分化合物は固体担体と均一に混
合されているか、あるいは固体担体の表面に均一に固着
もしくは吸着されており、粒の径は約０．２ないし１．
５顛程度である。乳剤は、たとえば有効成分化合物を通
常５ないし５０重量部含有しており、これに約５ないし
２０重量部の乳化剤が含まれ、残部は液体担体であり、
必要に応じて防錆剤が加えられる。
０重量部含有し、残部は固体担体、分散湿潤剤であつて
、必要に応じて保護コロイド剤、チキソトロビ一剤、消
泡剤等が加えられる。粒剤は、たとえば有効成分化合物
を通常０．５ないし３５重量部含有し、残部は大部分が
固体担体である。有効成分化合物は固体担体と均一に混
合されているか、あるいは固体担体の表面に均一に固着
もしくは吸着されており、粒の径は約０．２ないし１．
５顛程度である。乳剤は、たとえば有効成分化合物を通
常５ないし５０重量部含有しており、これに約５ないし
２０重量部の乳化剤が含まれ、残部は液体担体であり、
必要に応じて防錆剤が加えられる。
このようにして種々の剤型に調製された本発明の除草剤
を、たとえば、水田または畑地において雑草の発芽前ま
たは発芽後に土壌処理するときは、１０ａあたり有効成
分として５ないし２０００９ＺＵを投することにより、
有効に雑草を駆除することができる。
を、たとえば、水田または畑地において雑草の発芽前ま
たは発芽後に土壌処理するときは、１０ａあたり有効成
分として５ないし２０００９ＺＵを投することにより、
有効に雑草を駆除することができる。
また、非農耕地たとえば道路、グランド、家屋敷地、線
路等において非選択的に雑草を，駆除しようとするとき
は、１０ａあたり有効成分として２０ないし４０００９
を投することにより、有効に雑草を駆除できる。本発明
の除草剤は、殺草スペクトラムを広げるために他の除草
剤が配合されることは好ましく、場合によつては相乗効
果を期待することもできる。
路等において非選択的に雑草を，駆除しようとするとき
は、１０ａあたり有効成分として２０ないし４０００９
を投することにより、有効に雑草を駆除できる。本発明
の除草剤は、殺草スペクトラムを広げるために他の除草
剤が配合されることは好ましく、場合によつては相乗効
果を期待することもできる。
このような他の除草剤の例としては、たとえば、２−メ
チルチオ−４６−ビスエチルアミノ−１ラ
ラ３，５−トリアジン；２−クロル−４，６−
ビスエチルアミノ−１，３，５−トリアジン；２−メチ
ルチオ−４−エチルアミノ−６−（１，２−ジメチルプ
ロピル）アミノ−ｓ−トリアジン；２−メトキシ−４−
エチルアミノ−６−イソプロピルアミノ−１，３，５−
トリアジン；２−クロル−４ーエチルアミノ−６−イソ
プロピルアミノ−ｓ−トリアジン；２−メチルチオ−４
，６−ビス（イソプロピルアミノ）−ｓ−トリアジン；
２−メチルチオ−４−エチルアミノ−６−イソプロピル
アミノｓ−トリアジン；４−アミノ−６−ターシヤリブ
チル一３−（メチルチオ）−１，２，４−トリアジン一
５（４Ｈ）オン等のトリアジン系除草剤、２，４−ジク
ロルフエノキシ酢酸およびそのメチル、エチルまたはブ
チルエステル；４−クロル−２−メチルフエノキシ酢酸
、エチル２−メチル−４−クロルフエノキシブチレート
等のフエノキシ系除草剤、２，４，６−トリクロルフエ
ニル４′−ニトロフエニルエーテル；２，４−ジクロル
フエニル一４′−ニトロフエニルエーテル；２，４−ジ
クロルフエニル一１−ニトロ−３′−メトキシフエニル
エーテル等のジフエニルエーテル系除草剤、３−（３，
４−ジクロルフエニル）−１ーメトキシ−１−メチルウ
レア；３−（３，４−ジクロルフエニノ（ハ）−１，１
−ジメチルウレア；１（α，α−ジメチルベンジル）−
３−（４−トリル）ウレア、Ｎ−〔４−（４−メチルフ
エネチルオキシ）フエニル〕−Ｎ′−メチル−Ｎ′−メ
トキシウレア；３−（４−クロロフエニノ（ハ）−１，
１ジメチルウレガ等の尿素系除草剤、３−メトキシカル
ボニルアミノフエニル Ｎ−（３−メチルフエニル）カ
ーバメート；イソプロピル Ｎ−（３−クロルフエニル
）カーバメート；メチルＮ−（３，４−ジクロロフエニ
ノ（ハ）カーバメート等のカーバメート系除草剤、５−
ブロム−３ーｓｅｃ−ブチル−６−メチルウラシル；１
−シクロヘキシル−３，５−プロピレンウラシル等のウ
ラシル系除草剤、Ｓ−（４−クロルベンジル）Ｎ，Ｎ−
ジエチルチオールカーバメント；Ｓ−エチルＮ−シクロ
ヘキシル−Ｎ−エチルチオールカーバメート；Ｓ−エチ
ルーヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン−１−カーボチオエ
ート；Ｓ−エチル−Ｎ，Ｎ−ジノルマルプロピルチオカ
ーバメート等のチオールカーバメート系除草剤、１，１
′−ジメチル−４，４′−ビスピリジニウムジクロライ
ド等のピリジニウム塩系除草剤、Ｎ−（ホスホノメチル
）グリシン、Ｏ−エチル−０−（２−ニトロ−５ーメチ
ルフエニル）−Ｎ−セコンダリーブチルホスホロアミド
チオエート等のリン系除草剤、α，α，α一トリフルオ
ロ−２ ６−ジニトロ−Ｎ Ｎーラ
９ジプロピル−ｐ
−トルイジン；４−（メチルスルホニノ（ハ）２，６−
ジニトロ−Ｎ，Ｎ−ジプロピルアニリン等のアニリン系
除草剤、２−クロル−２′，６′−ジエチル−Ｎ−（ブ
トキシメチル）アセトアニリド、ｎ−ブチル Ｎ−クロ
ロアセチル−２，６−ジエチルアニリノアセテート；２
−クロルー２′，６′−ジエチル−Ｎ−（メトキシメチ
ノ（ハ）アセトアニリド；３，４−ジクロロプロピオン
アニリド、Ｎ−（α，α−ジメチルベンジノ（ハ）−α
−ブロモーターシヤリーブチルアセトアミド等の酸アニ
リド系除草剤、５−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（２，４−
ジクロロ−５−イソプロポキシフエニル）１，３，４−
オキサジアゾリン−２−オン；２−（αーナフトキシ）
−Ｎ，Ｎ−ジエチルプロピオンアミド；１，３−ジメチ
ル−４−（２，４−ジクロロベンゾイル）−５−ピラゾ
リルｐ−トルエンスルホネート；３−イソプロピルーべ
ンゾ−２−チア−１ ３−ジアジノンー（４）−２ ２
−ジオキシ聾
９ド；３−（２−メ
チルフエノキシ）ピリダジン等があげられるが、これら
に限られるものではない。本発明の除草剤はまた、殺菌
剤、微生物農薬、ピレスロイド系殺虫剤、その他の殺虫
剤、植物生長調節剤、肥料との混用も可能である。本発
明の除草剤の製剤例を次にあげる。
チルチオ−４６−ビスエチルアミノ−１ラ
ラ３，５−トリアジン；２−クロル−４，６−
ビスエチルアミノ−１，３，５−トリアジン；２−メチ
ルチオ−４−エチルアミノ−６−（１，２−ジメチルプ
ロピル）アミノ−ｓ−トリアジン；２−メトキシ−４−
エチルアミノ−６−イソプロピルアミノ−１，３，５−
トリアジン；２−クロル−４ーエチルアミノ−６−イソ
プロピルアミノ−ｓ−トリアジン；２−メチルチオ−４
，６−ビス（イソプロピルアミノ）−ｓ−トリアジン；
２−メチルチオ−４−エチルアミノ−６−イソプロピル
アミノｓ−トリアジン；４−アミノ−６−ターシヤリブ
チル一３−（メチルチオ）−１，２，４−トリアジン一
５（４Ｈ）オン等のトリアジン系除草剤、２，４−ジク
ロルフエノキシ酢酸およびそのメチル、エチルまたはブ
チルエステル；４−クロル−２−メチルフエノキシ酢酸
、エチル２−メチル−４−クロルフエノキシブチレート
等のフエノキシ系除草剤、２，４，６−トリクロルフエ
ニル４′−ニトロフエニルエーテル；２，４−ジクロル
フエニル一４′−ニトロフエニルエーテル；２，４−ジ
クロルフエニル一１−ニトロ−３′−メトキシフエニル
エーテル等のジフエニルエーテル系除草剤、３−（３，
４−ジクロルフエニル）−１ーメトキシ−１−メチルウ
レア；３−（３，４−ジクロルフエニノ（ハ）−１，１
−ジメチルウレア；１（α，α−ジメチルベンジル）−
３−（４−トリル）ウレア、Ｎ−〔４−（４−メチルフ
エネチルオキシ）フエニル〕−Ｎ′−メチル−Ｎ′−メ
トキシウレア；３−（４−クロロフエニノ（ハ）−１，
１ジメチルウレガ等の尿素系除草剤、３−メトキシカル
ボニルアミノフエニル Ｎ−（３−メチルフエニル）カ
ーバメート；イソプロピル Ｎ−（３−クロルフエニル
）カーバメート；メチルＮ−（３，４−ジクロロフエニ
ノ（ハ）カーバメート等のカーバメート系除草剤、５−
ブロム−３ーｓｅｃ−ブチル−６−メチルウラシル；１
−シクロヘキシル−３，５−プロピレンウラシル等のウ
ラシル系除草剤、Ｓ−（４−クロルベンジル）Ｎ，Ｎ−
ジエチルチオールカーバメント；Ｓ−エチルＮ−シクロ
ヘキシル−Ｎ−エチルチオールカーバメート；Ｓ−エチ
ルーヘキサヒドロ−１Ｈ−アゼピン−１−カーボチオエ
ート；Ｓ−エチル−Ｎ，Ｎ−ジノルマルプロピルチオカ
ーバメート等のチオールカーバメート系除草剤、１，１
′−ジメチル−４，４′−ビスピリジニウムジクロライ
ド等のピリジニウム塩系除草剤、Ｎ−（ホスホノメチル
）グリシン、Ｏ−エチル−０−（２−ニトロ−５ーメチ
ルフエニル）−Ｎ−セコンダリーブチルホスホロアミド
チオエート等のリン系除草剤、α，α，α一トリフルオ
ロ−２ ６−ジニトロ−Ｎ Ｎーラ
９ジプロピル−ｐ
−トルイジン；４−（メチルスルホニノ（ハ）２，６−
ジニトロ−Ｎ，Ｎ−ジプロピルアニリン等のアニリン系
除草剤、２−クロル−２′，６′−ジエチル−Ｎ−（ブ
トキシメチル）アセトアニリド、ｎ−ブチル Ｎ−クロ
ロアセチル−２，６−ジエチルアニリノアセテート；２
−クロルー２′，６′−ジエチル−Ｎ−（メトキシメチ
ノ（ハ）アセトアニリド；３，４−ジクロロプロピオン
アニリド、Ｎ−（α，α−ジメチルベンジノ（ハ）−α
−ブロモーターシヤリーブチルアセトアミド等の酸アニ
リド系除草剤、５−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（２，４−
ジクロロ−５−イソプロポキシフエニル）１，３，４−
オキサジアゾリン−２−オン；２−（αーナフトキシ）
−Ｎ，Ｎ−ジエチルプロピオンアミド；１，３−ジメチ
ル−４−（２，４−ジクロロベンゾイル）−５−ピラゾ
リルｐ−トルエンスルホネート；３−イソプロピルーべ
ンゾ−２−チア−１ ３−ジアジノンー（４）−２ ２
−ジオキシ聾
９ド；３−（２−メ
チルフエノキシ）ピリダジン等があげられるが、これら
に限られるものではない。本発明の除草剤はまた、殺菌
剤、微生物農薬、ピレスロイド系殺虫剤、その他の殺虫
剤、植物生長調節剤、肥料との混用も可能である。本発
明の除草剤の製剤例を次にあげる。
文中、単に部とあるのは全て重量部を意味する。以下化
合物例は第１表に記載の化合物番号で示す。〔製剤例〕
Ｚσ 実施例 ７ 粒剤 化合物（７）４部をクレ−６６部およびべントナイト３
０部と共に混合機中で均一に混和する。
合物例は第１表に記載の化合物番号で示す。〔製剤例〕
Ｚσ 実施例 ７ 粒剤 化合物（７）４部をクレ−６６部およびべントナイト３
０部と共に混合機中で均一に混和する。
このものに適当量の水を加え、ニーダー中で混和し、直
径０．８ｍ１１ｌのスクリーンより押し出し、５０℃の
通風乾燥機中で乾燥する。このものをシフターによつて
整粒して粒剤を得る。実施例 ８ 粒剤 化合物（３９）２部をクレ−９０部、タルク３部および
リグニンスルホン酸ナトリウム５部と共に混合機中で均
一に混和する。
径０．８ｍ１１ｌのスクリーンより押し出し、５０℃の
通風乾燥機中で乾燥する。このものをシフターによつて
整粒して粒剤を得る。実施例 ８ 粒剤 化合物（３９）２部をクレ−９０部、タルク３部および
リグニンスルホン酸ナトリウム５部と共に混合機中で均
一に混和する。
このものに適当量の水を加え、ニーダー中で混和し、直
径０．８１！のスクリーンより押し出し、５０℃の通風
乾燥機中で乾燥する。このものをシフターによつて整粒
して粒剤を得る。実施例 ９ 水和剤 化合物（３６）５０部、クレ−３０部、硅藻土１０部、
ホワイトカーボン５部およびアルキルベンゼンスルホン
酸ソーダ５部をよく粉砕混合して水和剤を得る。
径０．８１！のスクリーンより押し出し、５０℃の通風
乾燥機中で乾燥する。このものをシフターによつて整粒
して粒剤を得る。実施例 ９ 水和剤 化合物（３６）５０部、クレ−３０部、硅藻土１０部、
ホワイトカーボン５部およびアルキルベンゼンスルホン
酸ソーダ５部をよく粉砕混合して水和剤を得る。
実施例 １０
乳剤
化合物（４０）２０部、キシレン４５部、およびソルポ
ールＳＭ１００（東邦化学登録商標）１５部を混合し、
均一に溶解させて乳剤を得る。
ールＳＭ１００（東邦化学登録商標）１５部を混合し、
均一に溶解させて乳剤を得る。
このようにして調製された本発明の除草剤の試験例を次
にあげる。〔除草試験例〕 実施例 １１ 水田雑草湛水土壌処理試験 表面積７０（１７７ｆのポリエチレン製ポツトに水田土
壌を充填し、ノビエおよびコナギ、アゼナ、キカシグサ
、アブノメ等の水葉雑草の種子を混和し、ポツトに湛水
した水田状態にする。
にあげる。〔除草試験例〕 実施例 １１ 水田雑草湛水土壌処理試験 表面積７０（１７７ｆのポリエチレン製ポツトに水田土
壌を充填し、ノビエおよびコナギ、アゼナ、キカシグサ
、アブノメ等の水葉雑草の種子を混和し、ポツトに湛水
した水田状態にする。
また、ウリカワの塊茎を２ケ／ポツト植付ける。さらに
２〜３葉期のイネ苗を移植し、２５〜３０℃のフアイロ
ンハウス内にて育成管理を行ない、田植後２日目に各々
乳剤に製剤された製剤品の所定量を水で希釈し、ポツト
当り１０ＣＣの割合で土壌処理した。その後フアイロン
ハウス内で管理し、薬剤処理後２５日目に各雑草に対す
る除草効果および水稲に対する薬害を観察判定した。そ
の結果を第２表に示す。イネ薬害 評価 無・・・・・・薬害が全くない。
２〜３葉期のイネ苗を移植し、２５〜３０℃のフアイロ
ンハウス内にて育成管理を行ない、田植後２日目に各々
乳剤に製剤された製剤品の所定量を水で希釈し、ポツト
当り１０ＣＣの割合で土壌処理した。その後フアイロン
ハウス内で管理し、薬剤処理後２５日目に各雑草に対す
る除草効果および水稲に対する薬害を観察判定した。そ
の結果を第２表に示す。イネ薬害 評価 無・・・・・・薬害が全くない。
微・・・・・・害微が現われるが生育に影響がない。
小・・・・・・生育に影響するが回復し、減収の影響が
ほとんどない。中・・・・・・生育、収量にやや影響が
ある。
ほとんどない。中・・・・・・生育、収量にやや影響が
ある。
大・・・・・・生育、収量に影響が大きい。実施例 １
２畑雑草、生育期茎葉スプレー処理 表面積７００ｃｄのポリエチレン製角バツトに畑土壌を
充填し、作物としてトウモロコシ、イネ、コムギを使用
、雑草としてシロザ、イチビ、マルバアサガオ、アオビ
ユ、ソバカズラ、イヌホウズキの種子を播種し、播種２
〜３週間後に乳剤形態の供試薬剤の所定量を水で希釈し
、１アールあたり５１の割合で茎葉スプレー処理した。
２畑雑草、生育期茎葉スプレー処理 表面積７００ｃｄのポリエチレン製角バツトに畑土壌を
充填し、作物としてトウモロコシ、イネ、コムギを使用
、雑草としてシロザ、イチビ、マルバアサガオ、アオビ
ユ、ソバカズラ、イヌホウズキの種子を播種し、播種２
〜３週間後に乳剤形態の供試薬剤の所定量を水で希釈し
、１アールあたり５１の割合で茎葉スプレー処理した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿１はハロゲン原子またはニトロ基を示し、
Ｒ＿２はハロゲン原子またはトリフルオロメチル基を示
し、Ｒ＿３は水素原子またはハロゲン原子を示し、Ｒ＿
４は水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子または低
級アルコキシル基を示し、Ｒ＿５は水素原子、低級アル
キル基、ハロゲン原子、低級アルコキシル基または一般
式−Ｏ−（Ａ）−ＣＯＯＲ＿７ （式中、Ａは低級アルキレン基を示し、Ｒ＿７は水素原
子または低級アルキル基を示す。 ）を示し、Ｒ＿６は水素原子、低級アルキル基、ハロゲ
ン原子または低級アルコキシル基を示す。 〕で表わされるジフェニルスルホン誘導体。２ Ｒ＿１
が塩素原子、Ｒ＿２がトリフルオロメチル基、Ｒ＿３が
水素原子、Ｒ＿４がエトキシル基、Ｒ＿５がメトキシル
基およびＲ＿６が水素原子である特許請求の範囲第１項
に記載のジフェニルスルホン誘導体。 ３ Ｒ＿１およびＲ＿５が塩素原子、Ｒ＿２がトリフル
オロメチル基、Ｒ＿３が水素原子、Ｒ＿４がエトキシル
基およびＲ＿６が水素原子である特許請求の範囲第１項
に記載のジフェニルスルホン誘導体。 ４ Ｒ＿１が塩素原子、Ｒ＿２がトリフルオロメチル基
、Ｒ＿３が水素原子、Ｒ＿４がエトキシル基、Ｒ＿６が
臭素原子およびＲ＿６が水素原子である特許請求の範囲
第１項に記載のジフェニルスルホン誘導体。 ５ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿１はハロゲン原子またはニトロ基を示し、
Ｒ＿２はハロゲン原子またはトリフルオロメチル基を示
し、Ｒ＿３は水素原子またはハロゲン原子を示し、Ｒ＿
８は水素原子、低級アルキル基またはハロゲン原子を示
す。 〕で表わされるフェノキシベンゼンスルホン酸クロリド
誘導体と一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿５は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキ
ル基、低級アルコキシル基または一般式−Ｏ−（Ａ）−
ＣＯＯＲ＿７（式中、Ａは低級アルキレン基を示し、Ｒ
＿７は低級アルキル基を示す。 ）を示し、Ｒ＿６は水素原子、低級アルキル基、ハロゲ
ン原子または低級アルコキシル基を示す。〕で表わされ
るベンゼン誘導体とをルイス酸触媒存在下に反応させる
ことを特徴とする一般式▲数式、化学式、表等がありま
す▼ 〔式中Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿５、Ｒ＿６および
Ｒ＿８は前述と同じ意味を有する。 〕で表わされるジフェニルスルホン誘導体の製造法。 ６ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿１はハロゲン原子またはニトロ基を示し、
Ｒ＿２はハロゲン原子またはトリフルオロメチル基を示
し、Ｒ＿３は水素原子またハロゲン原子を示し、Ｒ＿４
は水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子または低級
アルコキシル基を示す。 〕で表わされるジフェニルエーテル誘導体と一般式▲数
式、化学式、表等があります▼〔式中、Ｒ＿５は水素原
子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシル
基または一般式−Ｏ−（Ａ）−ＣＯＯＲ＿７（式中、Ａ
は低級アルキレン基を示し、Ｒ＿７は低級アルキル基を
示す。 ）を示し、Ｒ＿６は水素原子、低級アルキル基、ハロゲ
ン原子または低級アルコキシル基を示す。〕で表わされ
るベンゼンスルホニルクロリド誘導体とをルイス酸触媒
存在下に反応させることを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５およ
びＲ＿６は前述と同じ意味を有する。 〕で表わされるジフェニルスルホン誘導体の製造法。 ７ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿９はハロゲン原子を示し、Ｒ＿２はハロゲ
ン原子またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒ＿３は水
素原子またはハロゲン原子を示し、Ｒ＿１＿０は水素原
子または低級アルコキシル基を示し、Ｒ＿１＿１および
Ｒ＿６は同一または相異なり、水素原子、低級アルキル
基、ハロゲン原子または低級アルコキシル基を示す。 〕で表わされるフェノキシジフェニルスルフィド誘導体
と酸化剤とを反応させることを特徴とする一般式▲数式
、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿６、Ｒ＿９、Ｒ＿１＿０
およびＲ＿１＿１は前述と同じ意味を有する。 〕で表わされるジフェニルスルホン誘導体の製造法。 ８ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿１はハロゲン原子またはニトロ基を示し、
Ｒ＿２はハロゲン原子またはトリフルオロメチル基を示
し、Ｒ３は水素原子またはハロゲン原子を示し、Ｒ＿４
は水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子または低級
アルコキシル基を示し、Ｒ＿５は水素原子、低級アルキ
ル基、ハロゲン原子、低級アルコキシル基または一般式
−Ｏ−（Ａ）−ＣＯＯＲ＿７（式中、Ａは低級アルキレ
ン基を示し、Ｒ＿７は水素原子または低級アルキル基を
示す。 ）を示し、Ｒ＿６は水素原子、低級アルキル基、ハロゲ
ン原子または低級アルコキシル基を示す。〕で表わされ
るジフェニルスルホン誘導体を有効成分として含有する
ことを特徴とする除草剤。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55162319A JPS5936979B2 (ja) | 1980-11-17 | 1980-11-17 | ジフェニルスルホン誘導体、その製造法およびこれらを有効成分として含有する除草剤 |
| US06/318,999 US4374662A (en) | 1980-11-17 | 1981-11-06 | Diphenyl sulfone compounds, and their production and use |
| KR1019810004390A KR830007479A (ko) | 1980-11-17 | 1981-11-14 | 디페닐슬폰 화합물의 제조방법 |
| BR8107462A BR8107462A (pt) | 1980-11-17 | 1981-11-17 | Composto,processos para sua preparacao,composicao herbicida,processo para evitar ou exterminar ervas daninhas,bem como compostos intermediarios para o dito composto e processo para suas respectivas preparacoes |
| US06/430,510 US4486604A (en) | 1980-11-17 | 1982-09-30 | Diphenyl sulfone compounds |
| US06/442,375 US4486223A (en) | 1980-11-17 | 1982-11-17 | Diphenyl sulfone compounds, and use |
| US06/610,497 US4540824A (en) | 1980-11-17 | 1984-05-15 | Diphenyl sulfide compounds useful as intermediates in the production of diphenyl sulfone compounds |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55162319A JPS5936979B2 (ja) | 1980-11-17 | 1980-11-17 | ジフェニルスルホン誘導体、その製造法およびこれらを有効成分として含有する除草剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5785364A JPS5785364A (en) | 1982-05-28 |
| JPS5936979B2 true JPS5936979B2 (ja) | 1984-09-06 |
Family
ID=15752263
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55162319A Expired JPS5936979B2 (ja) | 1980-11-17 | 1980-11-17 | ジフェニルスルホン誘導体、その製造法およびこれらを有効成分として含有する除草剤 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (4) | US4374662A (ja) |
| JP (1) | JPS5936979B2 (ja) |
| KR (1) | KR830007479A (ja) |
| BR (1) | BR8107462A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5936979B2 (ja) * | 1980-11-17 | 1984-09-06 | 住友化学工業株式会社 | ジフェニルスルホン誘導体、その製造法およびこれらを有効成分として含有する除草剤 |
| US4545812A (en) * | 1982-05-14 | 1985-10-08 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Diphenyl sulfone compounds, and their production and use |
| US4906658A (en) * | 1987-04-21 | 1990-03-06 | Merck Frosst Canada, Inc. | Fluoro-sulfones |
| US4800118A (en) * | 1987-11-04 | 1989-01-24 | West Point Pepperell | Compositions and methods for imparting stain resistance to textile articles |
| US5480568A (en) * | 1994-07-22 | 1996-01-02 | The Dow Chemical Company | Alkyl aryl sulfones and their use as lubricants in high temperature and magnetic recording media applications |
| EP1940767A2 (en) * | 2005-09-07 | 2008-07-09 | Plexxikon, Inc. | Pparactive compounds |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2998453A (en) * | 1960-06-22 | 1961-08-29 | Du Pont | Phenoxy diphenyl sulfones and their preparation |
| US3426075A (en) * | 1964-07-01 | 1969-02-04 | Monsanto Co | Mixed polyphenyl ethers-thioethers |
| US3402204A (en) * | 1964-12-02 | 1968-09-17 | United Shoe Machinery Corp | Process for the production of diaryl sulfones |
| US3579590A (en) * | 1967-12-12 | 1971-05-18 | Witco Chemical Corp | Method of preparing diaryl sulfones |
| EG11593A (en) * | 1973-07-03 | 1980-07-31 | Bayer Ag | Halogenated 4-trifluiromethyl-4-cyano-diphenyl-ethers process for their preparation and their use as herbicides |
| US4335249A (en) * | 1975-09-03 | 1982-06-15 | Rohm And Haas Company | Herbicidal diphenyl ethers, sulfides, sulfoxides and sulfones |
| JPS5936979B2 (ja) * | 1980-11-17 | 1984-09-06 | 住友化学工業株式会社 | ジフェニルスルホン誘導体、その製造法およびこれらを有効成分として含有する除草剤 |
-
1980
- 1980-11-17 JP JP55162319A patent/JPS5936979B2/ja not_active Expired
-
1981
- 1981-11-06 US US06/318,999 patent/US4374662A/en not_active Expired - Fee Related
- 1981-11-14 KR KR1019810004390A patent/KR830007479A/ko not_active Withdrawn
- 1981-11-17 BR BR8107462A patent/BR8107462A/pt unknown
-
1982
- 1982-09-30 US US06/430,510 patent/US4486604A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-11-17 US US06/442,375 patent/US4486223A/en not_active Expired - Fee Related
-
1984
- 1984-05-15 US US06/610,497 patent/US4540824A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4540824A (en) | 1985-09-10 |
| US4486604A (en) | 1984-12-04 |
| US4486223A (en) | 1984-12-04 |
| BR8107462A (pt) | 1982-08-10 |
| JPS5785364A (en) | 1982-05-28 |
| KR830007479A (ko) | 1983-10-21 |
| US4374662A (en) | 1983-02-22 |
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