JPS5936980A - セラミック配線基板とその製造方法 - Google Patents

セラミック配線基板とその製造方法

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JPS5936980A
JPS5936980A JP58120362A JP12036283A JPS5936980A JP S5936980 A JPS5936980 A JP S5936980A JP 58120362 A JP58120362 A JP 58120362A JP 12036283 A JP12036283 A JP 12036283A JP S5936980 A JPS5936980 A JP S5936980A
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JP
Japan
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ceramic
light emitting
wiring
film
light
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Pending
Application number
JP58120362A
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English (en)
Inventor
Takahiko Anchi
庵地隆彦
Eiji Yamamoto
山本英治
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0306Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
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    • HELECTRICITY
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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は発光表示装置等に用いられる、セラミック基板
−ヒに配線層を形成したセラミック配線基板1%に黒色
セラミック層を有するセラミック配線基板に関する。
この数年間固体発光表示装置が真空管よりなる表示管に
代わって使用される傾向にあり、その需要嵐は年々窄加
している。またその種類も多いがその一つとしてセラミ
ック基板上に配線層を形成したセラミック配線基板に発
光素子を接続してその各市1@Aと配線層とを金線等で
接続したものが矧られている。この柚の発光表示装置は
ガリウム・ヒ素の金員間化合物よりなる発光ダイオード
を8の字形に組合わせ複数組として使用すれば勧めて小
型に製造でき、多層配線を利用することで複雑な内部配
線を形成することができる。
しかしながら従来このようなセラミック配線基板を用い
た表示装置において基板となるセラミックは普通白色で
あるために、発光時に素子とのコントラストが弱くなり
、また発光部以外に金メッキされた配線膜が見えるため
に表示がはっきりしない欠点があった。
発光表示装置は一般に明るい場所で使用するものであり
1点滅だけが表示の目的ではなく例えば数字をはっきり
読み取り得るように表示することも必要であり、それに
対して現在用いられている発光素子は充分に強い光を有
しないので上記欠点が大きな問題となっていた。そこで
1発光素子部分のツノ打ち抜かれた枠体を設ける試みが
なされているが、at!!浩工程が増加し材料の使用ば
か多くなる欠点がル)ったっまた、表示部分に発光色に
あわせた着色フィルターを設け1発光I−ないときは表
示部と下地のセラミックとの区別をつかないような構造
のものが提案されているが、この構造のものは発光時に
フィルターにより光が吸収され1発光部と下地とのコン
トラストが小さくて見えにくい等の問題がル)った。
本発明は上記問題を解消するためなされたもので、その
一つの目的は表示部において下地を黒色となして表示効
果のすぐれたセラミック配線基板を8A供することにあ
り、他の目的は上記セラεツク配線基板の製造方法を提
供することにある。
以下本発明を実施例により詳細に説明する。
第1図は本発明に従った一層配線のセラミック配線基板
を用いた発光表示装置を示す斜視図、第2図はその断面
図である。
■は発光表示装置の支持基板となるセラミック基板(厚
さ0.5〜1.5關)で、焼結された状態では白色が普
通である。2は配線金属膜(膜厚10〜20μ)で上記
セラミック基板1上に形成されている。この配線金W&
膜2は一部においてその上に取付けられた発光素子基板
およびその電極に接続し1発光素子間相互を配線し、ま
たその外端部2bは露出し゛C外部接続端子となるもの
で、これらはタングステン、モリブデン、タンタル等の
高融点金属焼結体よりなり表面は錆、接着性の改善等の
ため金メッキされている、3は黒色アルミナ絶縁物で、
配線金属膜2を保護すると同時に発光部分とのコントラ
ストを強くし得るように黒色を有する。この黒色アルミ
ナ絶縁物3はセラミック材料であるアルミナ(A−gt
Os )を主体とし、これにシリカ(SiO□ )、−
酸化マグネシウム(MgO)及び黒色化材として、二酸
化チタン(T r 02)を添加したものを印燭的手段
により形成し1M元雰囲気中で焼結して黒色に変化させ
たものである。
TlO2を還元した場合還元が不完全なためチタンがイ
オン化して格子欠陥により光の吸収が起って黒色に見え
るのであると考えられる。セラミック成分に対してT 
i O2を増加させるほど黒色化するが、ある稈度以上
になると黒さはほぼ一定となる。
4は金属配線の露出部−「なわちボンディング部にメッ
キにより形成された金薄膜、5は発yC素子瓜 で−J’−V族金属間化合物を主体とする発光ダイオー
ドからなり1発光時の色は赤色または緑色である。6は
コネクタ線で1発光素子5の電険と金属配線膜2とを)
F続するためのものである。
この発光表示装置は、発光素子5苓・8の字型に若干の
FJ記的部分を加えた形に配置し、外部接続端子からの
入力信号により任意の数字が表示されるようになってい
る。
この実施例においては配線層2を単層とした場合につい
て説明したが、数字桁が多い発光表示装置の場合−′P
複雑な文字を表示する表示装置に適用する場合において
は、内部配線が働めて複雑となるために多層配線として
組立てられる。□第3図は本発明の他の実施例に従った
多層配線のセラミック配線基板を用いた発光表示装置に
適用した場合を示し、その場合下層、中層の絶縁層は黒
色成分を含まないセラミック材によって形成される。
つぎに単層の配線を有するセラミック配線基板を製造す
る場合の態様を第4図について工程順に説明する。
tal  グリーン・シート状の生セラミツク基板1(
厚さ0.5〜12酊)上に、タングステン、モリブデン
、タンタル等の高融点金員ペーストを印刷して配線金属
膜2を形成し、約80C内外の温度で配線金属膜2を乾
燥させる。
tbl  次にTiO2を数重撤%程度含有するアルミ
ナペーストを印刷して、800程度の温度で乾燥するこ
とにより絶縁層3を形成する。上記絶縁層3が形成され
る部分は1発光素子と配線金属膜2におけるボンディン
グ部、外部接続端子部とを除くすべての部分の表面であ
る。
なお、多層配線の場合は配線金属膜2と絶縁層3の形成
を交互に繰返丁が、その場合下層の絶縁ノ鹸はi” i
 0.等の黒色化成分を@寸ない普通のセラミック材料
を使用する。
配線金属膜2、絶縁層3の形成後、チッ素ガス。
或いは゛水素ガス等の還元雰囲気中で、温度1600C
以上にて焼結処理する。この処理によってセラミック、
金属は一体に焼結されるがTiO□を台む絶縁j−3に
おいて′r10□が還元され、イオン化して黒色化する
(cl  配線金縞膜2の露出部分に防錆およびポンデ
ィング性向」二のために金メッキ4を施工っ+(11配
線金属膜2上の所定の部分に発光素子5を接続する。
tel  M後に発光素子5の電@8をコネクタ線6を
介して対応する配線金蝙膜2のボンディング笥Sに接続
して装置は完成する。
なお、配線金PA膜上のボンディング部分は黒色化され
ないが、それは陰めて微小な部分であり表示の際問題と
ならない。
以上説明したごとく本発明のセラミック配線基板を用い
れば1発yt動作時に表示部において黒いバックに対し
発光部分のコントラストが大で有効な表示のでさる発光
表示装置が得られる。また黒色の度合は、絶縁ペースト
に混入するT i O2の割合により任意に側副でき、
混入の割合が多いほど黒色度が強くなる。
【図面の簡単な説明】
図面はすべ°C本発明の実施例を示し、第1図は本発明
のセラミック配線基板を用いた発光表示装置の斜視図、
第2図は一層配線を有するセラミソのセラミック配線基
板の製造工程を工程順に示す断面図である。 1・・・セラミック基板、2・・・配線金II4膜、3
・・・絶縁層(黒色アルミナ)、4・・・金#膜、5・
・・発光素子、6・・・コネクタ線。 第  1  図 ? 第  2  図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 白色セラミック基板の一生面上に選択的に形成され
    た導体層と、上記導体層の少なくとも一部を露出するよ
    うに、上記白色セラミック基板の一主面を置っ−C形゛
    成された黒色セラミック層とからなることを特徴とする
    セラミック配線基板。 2 基板上にグリーンセラミックを印A6す的手段によ
    り塗布して金属配#j!膜および絶縁層を交互に形成し
    、次にり2なくとも配線層が形成された基板表面上に酸
    化し易い金属の酸化物を含むセラミック材料よりなる絶
    縁層を印刷的手段により部分的に形成し、その後還元零
    12H気中にて焼結処理することを特徴とするセラミッ
    ク配線基板の製造方法。
JP58120362A 1983-07-04 1983-07-04 セラミック配線基板とその製造方法 Pending JPS5936980A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014072520A (ja) * 2012-09-28 2014-04-21 Lg Innotek Co Ltd 発光装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014072520A (ja) * 2012-09-28 2014-04-21 Lg Innotek Co Ltd 発光装置

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