JPS61280295A - 光学活性アゼチジノン誘導体の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光学不活性な３−（１−アシルオキシエチル）
−２−アゼチジノン誘導体（６１体）を微生物もしくは
酵素を利用して光学活性な３−（１−ヒドロキシエチル
）−２−アゼチジノン誘導体へ導く製法に関するもので
ある。

本発明によって得られる光学活性な３−（１−ヒドロキ
シエチル）−２−アゼチジノン誘導体は抗菌活性を有す
るカルバペネム及びペネム誘導体へ導く重要中間体であ
る。

光学活性な３−（１−ヒドロキシエチル）−２−アゼチ
ジノン誘導体の製法に関しては種々知られているが、い
ずれも工程数が多く反応操作が煩雑である。本発明者等
は、容易に得られるｄＡ’　−３−（１−アシルオキシ
エチル）−２−アゼチジノン（１）を微生物ないしは酵
素を利用して選択的に加水分解し光学活性な３−（１−
ヒドロキシエチル）−２−アゼチジノン（２）が効率よ
く得られることを見い出し本発明を完成した。

一般式 に於ける几１は置換基を有しても良いアシル基〔たとえ
ばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリルもしく
はベンゾイル基であって以下に示す同一もしくは異なる
置換基を１〜３個有してもよい。その置換基はアルキル
（メチル、エチル、プロピルなど）アルコキシ（メトキ
シ、エトキシなど）、ノ・ロゲン（塩素、臭素など）、
ニトロ基であり、Ｒ２ば、置換基を有してもよいアルキ
ル基〔たとえばメチル、エチル、プロピル、もしくはブ
チル基であって以下に示す同一もしくは異なる置換基を
１〜３個有してもよい。

その置換基は、アルキル基（たとえばメチル、エチル、
プロピル、ブチル、インプロピル、もしくはｔ−ブチル
などである。）、００２Ｒ’基（式中１は、水素原子、
アルキル基（たとえばメチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、インプロピル、もしくはｔ−ブチルなどである。）
。置換基を有してもよいフェニル基（その置換基は、メ
チル、エチル、プロピル、メトキシ、メチルメルカプト
、ニトロ、シアノ、アセトアミド、弗素、塩素もしくは
臭素などである。）、もしくは置換基を有してもよいベ
ンジル基（その置換基は、メトキシ、メチルメルカプト
、メチル、エチル、プロピル、ニトロ、シアノ、アセト
アミド、弗素、塩素もしくは臭素などである。）などで
ある。）、ハロゲン原子（たとえば、弗素、塩素、もし
くは臭素などである。）、−００ＳＲ５基（式中、Ｒ５
は、アルキル基（たとえばメチル、エチル、プロピルな
どである。）、置換基を有してもよいフェニル基（その
置換基は、先に述べたＲ４が置換基を有してもよいフェ
ニル基の置換基と同意義を示す。）、もしくは置換基を
有してもよいベンジル基（その置換基は、先に述べたＲ
４が置換基を有してもよいベンジル基の置換基と同意義
を示す。）などである。）、−８Ｒ’　（式中、Ｒ４は
前述したものと同意義を示す。）　、　−０ＯＮＲ６几
７（式中、Ｒ６およびＲ７は、同一もしくは異なる水素
原子、アルキル基（たとえばメチル、エチル、プロピル
、ブチル、もしくはｔ−ブチルなど）、シクロヘキシル
、もしくはベンジルなどである。）−ＯＲ８基（式中、
Ｒ８は、水素原子、アルキル基（たとえばメチル、エチ
ル、もしくはプロピルなど）もしくし１アシル基（たと
えばアセチル、プロピオニル、ブチリル、もしくはベン
ゾイルなど）などである）、もしくは−ＣＯ几９基（式
中、Ｒ９はメチル、エチル、もしくはフェニルなどであ
る）、などである〕、置換基を有してもよいアルケニル
基〔たとえばビニル、アリル、もしくはブテニルであっ
て以下に示す同一もしくは異なる置換基を１〜３個有し
てもよい。その置換基は、アルキル基（たとえばメチル
、エチル、プロピル、ブチル、インプロピル、もしくば
ｔ−ブチルなど）、−ｃｏ２ＴＬ’基（式中几４は前述
したものと同意義を示す）、−００ＳＲ”基（式中Ｒ５
は、前述したものと同意義を示す）、　ｓＢ４基（式中
ＰＬ４は、前述したものと同意義を示す。）、−０Ｒ８
基（式中Ｒ８は、前述したものと同意義を示す。）、も
しくは置換基を有してもよいフェニル基（その置換基は
、先に述べたＲ４が置換基を有してもよいフェニル基の
置換基と同意義を示す）などであるユ、置換基を有して
もよいアルキニル基〔たとえばエチニル、もしくはグロ
パルギル基であって以下に示す同一もしくは異なる置換
基を１〜３個有してもよい。その置換基はアルキル基（
たとえばメチル、エチル、プロピル、ブチル、インプロ
ピル、もしくはｔ−ブチルなど）、−００２Ｒ’基（式
中Ｒ４は、前述したＲ４と同意義を示す）、−００８Ｂ
５基（式中Ｒ５は、前述したＲ５と同意義を示す。）、
−８Ｒ’基（式中Ｂ４は、前述したＲ４と同意義を示す
。）−ＯＲ８基（式中Ｒ８は、前述したＲ８と同意義を
示す。）、もしくは置換基を有してもよいフェニル基（
その置換基は、先に述べた几４が置換基を有してもよい
フェニル基の置換基と同意義を示す）などである〕、置
換基を有してもよいフェニル基（以下に示す同一　もし
くは異なる置換基を１〜３個有してもよい。その置換基
は、アルキル基（たとえばメチル、エチル、プロピル、
もしくはイソプロピルなど）、アルコキシ基（たとえば
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、もしくは
ｔ−ブトキシなど）、ハロゲン（たとえば弗素、塩素、
もしくは臭素など）、ニトロ、シアノ、アセチル、アセ
トキシ、もしくは水酸基などである）、アルキルチオ基
−８几９（式中Ｒ９は、メチル、エチル、プロピル、ブ
チル、イソプロピル、もしくはｔ−ブチルナト）、アル
キルスルホニル基−ｆ９０２Ｒ９（式中Ｒ９は、前述し
たずと同意義を示す。）、置換基を有してもよいフェニ
ルチオ基（以下に示す同一もしくは異なる置換基を１〜
３個有してもよい。その置換基は、アルキル基（たとえ
ばメチル、エチル、プロピル、もしくはイソプロピルな
ど）、アルコキシ基（たとえばメトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、ブトキシ、もしくはｔ−ブトキシなど）、ハ
ロゲン（たとえば弗素、塩素、もしくは臭素など）、ニ
トロ、シアン、アセチル、アセトキシ、もしくは水酸基
などである。）、置換基を有してもよいフェニルスルホ
ニル基（その置換基は、上述した置換基を有してもよい
フェニルチオ基の置換基と同意義を示す。）、またはア
シルオキシ基、−０００Ｒ１０（式中ＢｆＯは、炭素数
１〜１ａ個の置換基を有してもよいアルキル基（たとえ
ばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキ
シル、ヘプチル、オクチル、ノニル、もしくはデシルな
ど）、その置換基は炭素数１〜５個のアルキル基（たと
えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、
イソプロピル、もしくはｔ−ブチルなど））、置換基を
有してもよいフェニル基（その置換基は、先に述べたＲ
４が置換基を有してもよいフェニル基の置換基と同意義
を示す。）、もしくは置換基を有してもよいベンジル基
（その置換基は、先に述べたＲ４が置換基を有してもよ
いベンジル基の置換基と同意義を示す。）などである。

）などである。

Ｒ３は、水素原子または窒素原子の保護基〔たとえばシ
リル基（たとえばトリメチルシリル、トリエチルシリル
、トリフェニルシリル、ｔ　−ブチルジメチルシリル、
もしくはｔ−ブトキシジフェニルシリルなど）、置換基
を有してもよいアルキル基（たとえばメチル、エチル、
プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、もしくはヘプ
チルなどであって、以下忙示す同一もしくは異なる置換
基を１〜３個有してもよい。その置換基は、アルキル基
（たとえば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ブチル、もしくはｔ−ブチルなど）、００２Ｒ’基（
式中凡４は、前述したものと同意義を示す）、−ｏＲ”
ｉ　（式中ＦＬ１＋は水素原子、アルキル基（たとえば
メチル、エチル、プロピル、もしくはブチルなど）、置
換基を有してもよいベンジル基（その置換基は、先に述
べた几４が置換基を有してもよいベンジル基の置換基と
同意義を示す。）などである。）、置換基を有してもよ
いフェニル基（その置換基は、先に述べたＲ４が置換基
を有してもよいフェニル基の置換基と同意義を示す。）
、もしくは置換基を有してもよいベンジル基（七の置換
基は、先に述べた几４が置換基を有してもよいベンジル
基の置換基と同意義を示す。））、置換基を有してもよ
いアルケニル基（（たとえば、ビニル、もしくはアリル
基であって、以下に示す同一もしくは異なる１〜３個の
置換基を有してもよい。その置換基は、アルキル基（た
とえば、メチル、エチル、プロピル、もしくはブチルな
ど）、置換基を有してもよいフェニル基（その置換基は
先に述べたＴＬ４が置換基を有してもよいフェニル基の
置換基と同意義を示す。）、もしくは−〇〇２几４基（
式中几４は、前述したものと同意義を示す。））、置換
基を有してもよい７エ二ル基、（その置換基は、先に述
べたＲ４が置換基を有していてもよいフェニル基の置換
基と同意義であって、同一もしくは異なる１〜３個のこ
れらの置換基を有してもよい。）、置換基を有してもよ
いベンジル基（その置換基は、先に述べたＲ４が置換基
を有してもよいベンジル基の置換基と同意義であって、
同一もしくは異なる１〜３個のこれらの置換基を有して
もよい。）、もしくは置換基を有してもよいシクロアル
キル基（たとえばシクロペンチル、もしくはシクロヘキ
シルなどであって、その置換基は先述したＲ、５が窒素
原子の保護基である場合の置換基を有してもよいアルキ
ル基の置換基と同意義を示す）などである〕などである
。

一般式（１）を有する化合物のうち好適化合物はＲ１が
置換基を有してもよいアシル基〔たとえばホルミル、ア
セチル、グロビオニル、ブチリルないしは、ベンゾイル
基であって以下に示す同一もしくは異なる置換基を１〜
３個有してもよい。その置換基はアルキル（メチル、エ
チル）、アルキルオキシ（メチルオキシ、エチルオキシ
）、ハロゲン原子（塩素、臭素）などである〕、であり
、ＦＬ２は置換基を有するアルキル基であってその置換
基は一００２Ｂ’基（式中、ＦＬ４は前述したものと同
意義を示す）もしくは−００ＳＲ５基（式中、Ｒ５は前
述したものと同意義を示す。）、置換基を有してもよし
・アルキニル基であって、その置換基は一３Ｒ４基（式
中、Ｒ４は前述したものと同意義を示す。）もしくは０
几８基（式中Ｒ８は、前述したものと同意義を示す。）
、アルキルスルホ＝　ル基＝ＳＯ２Ｒ９（式中、Ｒ９は
前述したものと同意義を示す）、置換基を有してもよい
フェニルスルホニル基、もしくはアシルオキシ基−００
０Ｒ１０（式中、ＢｉＯは前述したものと同意義を示す
。）などであり、Ｒ３が水素原子、置換基を有するアル
キル基であってその置換基が一〇〇２几４基（式中、Ｒ
４は前述したものと同意義を示す。）、アルキル基、も
しくは□ＦＬ１１基（式中、ＦＬｌｌは前述したものと
同意義を示す。）、置換基を有してもよいアルクニル基
であってその置換基はアルキル基、もしくは−Ｃ０２ｒ
Ｌ４基（式中ＦＬ４は前述したものと同意義を示す）、
置換基を有してもよいフェニル基、もしくは置換基を有
してもよいベンジル基などである。

本発明の不斉加水分解に供試される微生物ないし酵素は
、数多い底置と経験とにより選ぶことができる。

この目的達成のために有効な微生物は細菌から酵母、糸
状菌まで多岐にわたる。例えば、以下のごとくである。

〔細菌〕

Ａｒｔｈｒｏｂａｃｔｅｒ　ｓｉｍｐｌｅｘ　５ＡＮＫ
　７３５６０　（ＩＡＭ　１６６０）Ｂａｃｉｌｌｕｓ
　５ｕｂｔｉｌｉｓ　５ＡＮＫγ６７５９　（ＩＡＭ　
１０６９）Ｏｈｒｏｍｏ１０６９）Ｏｈｒｏ　ｖｉｏｌ
ａｃｅｕｍ　ＢＡＲＫ　７２７８３　（ＡＴＯＯ３１５
３２）Ｆｌａｖｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ　ｃａｐｓｕｌａ
ｔｕｍ　５ＡＮＫγ０９７９　（ＩＦＯ１２５３３）Ｆ
ｌａｖｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ　ｍｅｎｉｎｇｏｓｅｐｔ
ｉｃｕｍ　５ＡＮＫ　７０７７９　（ＩＦＯ１２５３５
）〔酵母〕 Ａｕｒｅｏｂａｃｉｄｉｕｍ　ｐｕｌｌｕｒａｎｓ　５
ＡＮＫ　１０８７７　（ＡＴＣＣ１５２３２）Ｏａｎｄ
ｉｄａ　ａｌｂｉｃａｎｓ　５ＡＮＫ　５０１６９　（
ＩＦＯ０６８３）Ｐｉｃｈｉａ　ｆａｒｉｎｏｓａ　５
ＡＮＫ　５８０６２　（ＩＡＭ　４３０３）Ｐｉｃｈｊ
ａ　ｔｅｒｒｉｃｏｌａ　５ＡＮＫ　５１６８４　（Ｆ
ＥＲＭ　８００１　）几ｈｏｄｏｔｏｒｕｌａ　ｍｊｎ
ｕｔａ　ＳλＮＫ　　５０８γ１　　（ＩＦＯ０９３２
）Ｓａｅｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ　　ｃｅｒｅｖｉｓｉａ
ｅ　５ＡＮＫ　　５０１６１　　（ＩＡＭ　　４５１２
）〔糸状菌〕 人ｓｐｅｒｇＨ１ｕｓ　ｎｉｇｅｒ　ＳλＮＫ　　１３
６５１１　（ＡＴＣ！０　９１４２）Ｇｌｉｏｃｌａｄ
ｉｕｍ　ｒｏｓｅｕｍ　５ＡＮＫ　１０５６０　（ＦＥ
ＦＬＭ　８２５９）Ｈｕｍｉｃｏｌａ　ａｓｔｅｒｏｉ
ｄｅａ　５ＡＮＫ　１４９８１　（ＦＥＲＭ　８２６０
）これらの微生物を供試する場合の実験方法は、次に示
すＡ法およびＢ法に大別できる。

Ａ法−供試微生物が良好な生育を示す任意の培地に当該
菌株を接種し、１〜２日間培養（通常は回転振とう培養
−往復振とう培養でも可−）の後、旺盛な発育のみられ
る時期に２０〜１５０り％の基質を添加（微細粉末とし
て直接培地に添加するか、水とよく混和する任意の有機
溶媒０．５〜２．０％の範囲に溶解させて添加する）し
、同一条件で培養を続けて加水分解を終了させる、いわ
ゆる生育菌体法である。

例えば、グルコース２％、ポリペプトン１％、酵母エキ
ス０．１％の各濃度で水道水１００　ｍｌに溶かし、５
００１１Ｌｌ三角フラスコに分注し、１２０℃、１５１
ｂｓ、にて２０分間高圧殺菌する。冷却後、菌を同一培
地で３日間培養した培養液を３ＩＩＬｌ接種し、２８℃
にて回転振と５する。１日後、旺盛な生育のみられる時
期に、基質を適当量、適当な水溶性溶媒に溶かした液を
加え、２日間培養を続ける。微生物反応終了時のｐＨは
細菌でｐＨ７，８〜８．９、酵母あるいは糸状菌でｐＨ
４，８〜５．１である。培養液を酢酸エチルで抽出し、
粗生成物が得られる。

Ｂ法−供試微生物が艮好な生育を示す任意の培地に当該
菌株を接種し、２〜４日間培養（通常回転振とう培養　
−往復振とう培養でも可−）し、菌体を遠心集菌後、生
理食塩水で２回洗浄する。こうして得た湿菌体１〜５Ｉ
を、１〜５％の水道水溶液に懸濁させ、０．５〜２時間
回転振と５機（あるし・は往復振とう機）にかけて馴化
させた後、Ａ法と同様にして基質を添加し、同一条件で
加水分解を終了させる、いわゆる菌体懸濁法である。こ
こでは水道水のかわりに、蒸留水やｐＨ５，０〜７．０
の緩衝液、例えば燐酸緩衝液を用いても同様の結果が得
られる。

なお、Ａ法における接種菌体、Ｂ法における湿菌体のか
わりに容易に入手可能な生菌体、例えば市販されている
製パン用イーストなどは、目的達成のために手軽に供試
しつるものである。

Ｂ法は微生物加水分解終了後の抽出操作において、菌体
懸濁液から来る夾雑物がＡ法に比べて少なく、従って目
的物質の単離、精製が容易であり、かつ収率が艮い。さ
らに、Ａ法の生育菌体法では目的とする一次（加水分解
）反応に次いで二次反応が起こりやすく、Ｂ法の菌体懸
濁法では微生物反応が単純化され、目的物質のみを効率
よく得ることができる。

例えば、市販のパン用イースト２Ｎ（湿菌体）を３．！
ｉ＋シヨ糖を含む２（ｌｄの水道水に懸濁し、０，５〜
２時間、２８℃で回転振と５培養する。ついで適量の基
質をメタノールなどの水溶性溶媒に溶かして添加し、加
水分解反応を行う。反応開始後１〜２日間、反応の経時
変化をＴＬＯで確認し、基質残存の認められる場合には
蔗糖１ｇを追加し、加水分解反応を終了させる。反応液
を酢酸エチルで抽出し、粗生成物が得られる。

なお、Ａ法およびＢ法において微生物の培養に供しつる
培地は、微生物の旺盛な生育が見られるものであれば全
て本目的を達しつる。これらの培地には天然培地、半合
成培地、合成培地などがあるが、加水分解活性の高い菌
体を得るためには、天然培地を用いるのが望ましい。天
然培地の一例として、グルコース１〜５％、ペプトン１
〜３％、酵母エキス０，０５〜０．５％ｐＨ６，５の組
成の培地などがある。この場合、微生物種によってはグ
ルコースを蔗糖または麦芽糖、液糖など他の糖源に、ペ
プトン、酵母エキスも同様に、大豆粉、ファーマメデア
など他の窒素源にかえることもできる。さらに炭素源、
窒素源以外に無機塩（例えばＦｅＳＯ４・７Ｈ２０、Ｍ
ｇＳＯ４・γＨ２０。

ＺｎＳＯ４’　７Ｈ２０など）を０．００１〜０．０１
％添加することで、菌体の加水分解活性が高まることが
ある。

−万、微生物菌体ではなく、酵素のみを用いても、目的
を達成することができる有効な酵素は、微生物ないしは
動物細胞由来のもので、リパーゼを始めとするエステラ
ーゼやアミノアシラーゼなどであり、これらによる反応
では、加水分解が立体選択的に進行するものが多い。例
えば、エステラーゼ（Ｃ！ａｒｂｏｘｙｌｉｃ　−ｅｓ
ｔｅｒ　ｈｙｄｒｏｒａｓｅ　。

ＢＯ３，１，１，１、例えばブタ肝臓由来の市販品、ｐ
ｒ、ｇ　）リパーゼ（Ｔｒｉａｃｙｌｇｌｙｃｅｒｏｌ
、　ａｃｙｌｋｙｄｒｏｌａｓｅ　、　ＥＣ３，１，１
，３゜例えばＡｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ　ｏｒｙｚａｅま
たはＡｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ　ｎｉｇｅｒ由来の市販品
） アミノアシラーゼ（Ｎ−八ｍ１ｎｏ−ａｃｉｄ　ａｍｉ
ｎｏｈｙｄｒｏ　１ａｓｅ　。

ＢＯ３，５，１，１４、例えばＡｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ
属の糸状菌より調製された市販品） などの酵素である。また、精製されたこれら標品のかわ
りに、市販品として安価に入手可能な粗精製品を用いる
ことでも目的を達しつる。例えばタカジアスターゼＣは
Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ　ｏｒｙｚａｅ由来の粗酵素標
品で、リパーゼを含んでいるので精製標品のリパーゼの
かわりに用いることができる。

酵素を用いる方法は、微生物菌体による方法に比べて培
養のための装置や操作が不要であり、反応時に一次（加
水分解）反応以外の反応がほとんど起こらず、微生物菌
体由来の夾雑物もないため目的物質の抽出精製が容易で
ある点などの利点がある。

例えば、ブタ肝臓エステラーゼ（ＰＬＥ）５００単位を
ｐＨ８，０の緩衝液（例えば燐酸緩衝液）５０ｍｌに溶
かし、水とよく混和する溶媒（例えばアルコール、ジメ
チルホルムアミドなど）少量に溶かした適量の基質を添
加し、攪拌しながら３５℃にて２〜２４時間反応させる
。反応の経時変化をＴＬＯで確認し、反応終了後、反応
液を酢酸エチルなどの溶媒で抽出し、粗生物が得られる
。

基質は溶媒に溶かして添加するほか、直接投入する方法
もある。いずれにおいても、必要に応じて０．０１〜０
．１％の界面活性剤（例えばＴｒｉｔｏｎＸ−１００、
５ｐａｎ８０など）や水を混和する有機溶媒（例えばジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトン
など）を適量添加することにより酵素反応をより効率的
に行うことができる。

一般式（２）（式中、Ｒ２およびＲ５は前述したものと
同意義を示す）を有する化合物は、以下のようにして得
られる一般式（１）を有する化合物をアルコール、アセ
トンもしくはジメチルホルムアミドに溶かすか、または
直接微生物の培地または酵素液に添加して、微生物反応
においてはＡ法屯しくは方法により１〜４日間、酵素法
においては２〜２４時間反応させる。この間、ＴＬＣな
どにより化合物（］）の化合物（２）への変換を確認す
る。適当時間後、適当な溶媒、例えば酢酸エチル、エー
テルなどの溶媒で抽出し、抽出物なカラムクロマトグラ
フィー、ＴＬＯ、または再結晶法などにより、目的とす
る光学活性なアゼチジノン誘導体（２）を分離精製する
。

本発明の出発物質である化合物（１１は特願昭５９−２
６５９６２号に開示された方法により得られる。

すなわち８ｃｂｅｍｅ　１に従って化合物（３）から４
工程で（１１が得られる Ｍｇ５Ｏ４Ｎ＼Ｒ５ ！３ｃｈａｍｅ　１ 式中ＦＬ１、Ｒ２およびＲ３は前述したものと同意義を
示し、Ｘはハロゲン原子などを示す。

化合物（３）を脱水剤の存在下アミンと反応させること
によりシックの塩基（４）ができる。これとジケテンの
反応により化合物（５）が得られる。これを還元し化合
物（６）としてこれをアシル化することにより化合物（
１）が得られる。

本発明によって得られる化合物はＳ　ｃｈｓｍａ　２に
従ってカルバペネムへ導くことができる。

ｆ７１　　　　　　　　　　　　　　　（８１Ｓｃｈｅ
ｍｅ　　２ すなわち化合物（７）の水酸基を保護しついてアセチレ
ンのチオフェニル化をすると化合物（８）　カｍられる
。化合物（８）の窒素原子の保護基をＴＦｕｋｕｙａｍ
ａ等（Ｊ、　Ａｍ、　Ｏｈｅｍ、Ｓｏｃ、　１０２２１
２２　（１９８０）　）の方法に従って除去しついで特
開昭６０−１９７６３号の方法により化合物（９）が得
られる。化合物（９）からカルバペネム（１１へ導く方
法は特開昭５９−４６２６５　号及び特開昭５９−５１
２８６号に示されている。

つぎに実施例および参考例をあげて本発明を説明する。

実施例１ ｄＪ−３，４−）ランス−１−（４−メトキシフェニル
）−３α−（（ＩＲ＊）−１−アセトキシエチル〕−４
−エチニル−２−アゼチジノン（６０ｍｇ）をＰｉｃｈ
ｉａ　ｆａｒｉｎｏｓａ　５ＡＮＫ　５８０６２　（Ｉ
ＡＭ　４３０３）と伴にＢ法により３０℃で２４時間振
とう培養する。培養液を酢酸エチルで抽出して得られる
粗生繊体（７６■）をシリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー（シクロヘキサン／酢酸エチル＝１／１．ＬＪ、Ｖラ
ンプ検出、Ｒｆ：０．３２）により精製すると目的化合
物２１〜が得られた。

〔α〕２４°　−１３５°（ａ＝　１．０ＨｃＡ’５　
）ＮＭ　几　（ＣＤＣｌ２　）　　、　　δｐｐｍ　　
二　　１．２７　（３Ｈ、ｄ　、　Ｊ＝６Ｆｌｚ）　　
。

２．５５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ）、３．３８（１Ｈ，
ｄｄ、Ｊ＝２及び４Ｈｚ）、　　３．７５（３Ｈ，ｓ）
、　　４．１〜４．５（ＩＨ，ｍ）、　　４．６０（Ｉ
Ｈ。

ｔ、Ｊ＝２Ｈｚ）、　　ｓ、ｙｓ−ｙ、ａｏ（４Ｈ，Ａ
２ｎ２型）実施例２ ｄｌ−３，４−）ランス−１−（４−メトキシフェニル
）−３α−（（Ｉｓ＊）　−１−アセトキシエチルツー
４−エチニル−２−アゼチジノン（６０■）全実施例１
と同様に反応、処理すると目的化合物１３〜が得られた
。

Ｒｆ＝０．３２　（シクロヘキサン／酢酸エチル：１／
１）〔α〕＋７７°（０＝　１　、０Ｈｃ１５　）ｍｐ
　９６〜１０５゜ ＮＭＲ（０ＤｃＡ！３　）　　δｐｐｍ　　：　　１．
３７　（３Ｈ，ｄ　、Ｊ＝６Ｈｚ）。

２．５５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２Ｒｚ）、　　３．４０（Ｉ
Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝２．４Ｈｚ）。

３．７５（３Ｈ，ｓ）、　　３．９〜４．４（ＩＨ，ｍ
）、　　４．４５（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝２Ｈｚ）、　　６．
７５〜７．６（４Ｈ，Ａ２Ｂ２）実施例３ ｄＩ！−３，４−トランス−１−（４−メトキシフェニ
ル）−３α−〔（１Ｒ＊）−１−ベンゾイルオキシエチ
ルツー４−エチニル−２−アゼチジノン（５００）■）
を　Ｂａｃｉｌｌｕｓ　　５ｕｂｔｉｌｉｓ　　５ＡＮ
Ｋ　　７６７５９　　（ＩＡＭ１０６９）と伴にＡ法に
より２８℃で２４時間振と５培養する。培養液を酢酸エ
チルで抽出して得られる粗生繊体（ｒｌｓｍｇ）をシリ
カゲル薄層クロマトグラフィー（シクロヘキサン／酢酸
エチル＝１／１）により精製すると目的化合物１４８■
が得られた。このものをエーテルから再結晶を行った。

〔α〕Ｄ−２００°（０＝　１　、　ＣＨＣｌ５　）ｍ
ｐ　　１３３゜ ＮＭＲは実施例１で得られた化合物のそれと一致した。

実施例４ ｄ７−３．４−トランス−１−（４−メトキシフェニル
）−３α−（（ＩＲ”）　−１−ベンゾイルオキシエチ
ルツー４−エチニル−２−アゼチジノン（１２０ｍｇ）
をＡｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ　ｎｉｇｅｒ　８ＡＮＫ　１
３６５８　（ＡＴＯＯ９１４２）と伴ＫＡ法により２８
℃で４８時間振とう培養する。培養液を酢酸エチル抽出
して得られる粗生繊体（１０８■）をシリカゲル薄層ク
ロマトグラフィー（シクロヘキサン／酢酸エチル：１／
１）により精製すると目的化合物２１■が得られた。

〔α、２４’−８７°（Ｃ＝１１ＣＨＣ１３）ＮＭＲは
実施例１で得られた化合物のそれと一致した。

実施例５ テニル−２−アゼチジノン ｄｉ　−３，４−トランス−１−（４−メトキシフェニ
ル）−３α−［（１８＊）−１’−ベンゾイルオキシエ
チルツー４−エチニル−２−アゼチジン７（１２８１１
ｇ）をＢａｃｉｌｌｕｓ　５ｕｂｔｉｌｉｓ　５ＡＮＫ
　７６５６９（ＩＡＭ　１０６９　）と伴にＡ法により
２８℃で３６　　時間振と５培養する。培養液を酢酸エ
チル抽出して得られる粗生検体（２１９１１ｇ）をシリ
カゲル薄層クロマトクラフィー（シクロヘキサン／酢酸
エチル＝１７１）により精製すると目的物１１１１１９
が得られた。このものをエーテルにより再結晶を行った
。

〔α片　＋　１７Ｑ°（Ｃ＝１．０）ＩＯＪ３　）ｍｐ
　　　　　１２８゜ 実施例６゜ ｄｉ　−３，４−トランス−１−（４−メトキシベンジ
ル）−３α−［（ＩＲ）−１−ベンゾイルオキシエチル
ツー４−エチニル−２−アゼチジンｙ（８Ｇｅｙ）をＢ
ａｃｉｌｌｕｓ　５ｕｂｔｉｌｉｓ　８ＡＮＫ　７６７
５９と伴にλ法により２８″Ｃで４８時間振と５培養す
る。培養液を酢酸エチルで抽出して得られる粗生検体（
１６４りをシリカゲル薄層クロマトグラフィー（シクロ
ヘキサン／酢酸エチル：１／１゜ＵＶランプ検出、　　
Ｊ＝０．２２　）により精製すると目的化合物ｔＯＭｇ
が得られた。

〔α片　−１９，５°（０：１．　ｏｉ（ｏＪ１３　）
ＮＭＲ（ａＤａ１５　）　　３９２ｍ　：　　１．２４
　（３Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝＝６Ｈｚ　）。

２．３９　　（ｆＨ，ｄ、　　Ｊ＝２Ｈｚ　　）　、　
　３．２２　　（ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ＝２．５Ｈ２’）　、　　３．７０　　（３Ｈ，Ｓ　
　）、　　３．９〜４．４（ＩＨ，ｍ　Ｌ　　３．９５
　　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝１５Ｈｚ　）。

４５９　　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝１５Ｈｚ　　）、　　６．
７０〜７．２５　（４Ｈ。

Ａ２Ｂ２型） 実施例Ｔ。

ｄｉ　−３，４−トランス−１−（４−メトキシベンジ
ル）−３α−〔（１Ｈ勺−１−ホルミルオキシエチル〕
−４−エチニル−２−アゼチジノン（１６８Ｎ）をＰｉ
ｃｈｉａ　ｆａｒｉｎｏｓａ　５ＡＮＫ　５８０６２（
ＬＡＮ　ａ３ａ３）と伴にＢ法により２８℃で４８　　
時間振とう培養する。培養液を酢酸エチルで抽出して得
られる粗生検体（１７９Ｍｇ）をシリカゲル薄層クロマ
トクラフィー（シクロヘキサン／酢酸エチル＝　１７１
　）により精製すると　目的化合物１３１ｍｇが得られ
た。

〔α〕２４０−８°　（Ｑ＝１．０ＨＯＪ　）ＮＭＲは
実施例６で得られた化合物のそれと一致した。

実施例８゜ ｄｌ　−３，４−）ランス−１−（４−メトキシフェニ
ル）−３α−（（ＩＲ”　）　−１−ホルミルオキシエ
チル〕−４−エチニル−２−アセチジノン（３ａｓｙ）
をＰｉｃｈｉａ　ｆａｒｉｕｏｓａ　５ＡＮＫ　５８０
６２　（ＩＡＭ４３０３　）と伴にＢ法により２８℃で
４８時間振とう培養する。培養液を実施例１と同様に処
理すると目的化合物５ｍｇが得られた。

〔α席　−１２０°（ｃ＝ｏ、ｓ、　０ＨｏＪ３　）Ｎ
ＭＲは実施例１で得られた化合物のそれと一致した。

実施例９゜ ｄＪ　−３，４−トランス−１−（４−メトキシベンジ
ル）−３α−（（１Ｒ＊）１−アセトキシエチルツー４
−エチニル−２−アゼチジノン（３１１１ｇ）をＰｉｃ
ｈｉａ　ｆａｒｉｎｏｓａ　８ＡＮＫ　５８０６２　（
ＩＡＭ　４３０３　）と伴にＡ法により２８℃で４日時
間培養する。培養液を実施例６と同様に処理すると目的
化合物４Ｑが得られた。

（α〕ｌｊ４’　　、６°（０＝ｒＪ、４．０ＨＯ１５
）ＮＭＲは実施例６で得られた化合物のそれと一致した
。

実施例１０゜ ｄｉ　−３，４−）ランス−１−（４−メトキシフェニ
ル）−３α−Ｃ（ＩＲ＊）　−１−ベンゾイルオキシエ
チル〕−４−フェニルチオエチニル−２−アゼチジンｙ
（１１０りをＢａｃｉｌｌｕｓ　５ｕｂｔｉｌｉｓＳＡ
ＮＫ　７６７５９　（ＩＡＭ　ｔｏｓｓ　）と伴にＡ法
により２８℃で３日間培養する。培養液を酢酸エチルで
抽出して得られる粗生繊体（１３Ｂ　！　）をシリカゲ
ル薄層クロマトグラフィー（シクロヘキサン／酢酸エチ
ル＝１７１．Ｒｆ中０，５）により精製すると目的化合
物２２■が得られた。

〔α刊　−１２３°（ｃ＝１．　ｃＨｃ１５　）ＮＭＲ
（ｏＤａ１５　）　　δ　　　：　　１．３５　　（３
Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）。

９２ｍ 〜２．２５　　（ＩＨ，Ｓ　　）、　　３．４１　　（
ＩＨ，ｄｄ、　　Ｊ＝６゜１５Ｈｚ　　）ｔ　　３．７
１　　（３Ｈ，ｓ　　）ｔ　　４．２Ｂ　　（ＩＨ，ｑ
。

Ｊ＝６Ｈｚ　）　、　　４．７５　　（ＩＨ，ｄ、　　
Ｊ＝２．５Ｈ２）　。

６．６〜７．６　　（９Ｈ，ｍ　） 実施例１１゜ 一フェニルチオエチニルー２−アゼチジノンｄＪ　−３
，４−トランス−１−（４−メトキシベンジル）−３α
−［（ＩＢ＊）−１−ベンゾイルオキシエチル〕−４−
フェニルチオエチニル−２−アゼチジノン（１６１９）
をＢａｃｉｌｌｕｓＳｕｂｔｉｌｉｓ　５ＡＮＫ　７６
７５９　（ＩＡＭ　１０６９　）と伴に１日おきに１％
のプルコースを添加しながらＡ法により２８′ｃで４日
間培養する。培養液を酢酸エチルで抽出して得られる粗
生検体（９ｚＭｇ）をシリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー（シクロヘキサン／酢酸エチル＝１／１．Ｕｖランプ
検出。

Ｒｆ中０．４）により精製すると目的化合物１３ｊ１９
が得られた。

〔α］”’　−５４’　（０＝１．０ＨＯＩ３）Ｄ。

ＮＭＲ（ｏＤｏＪ３）δ　　：　１．２Ｂ　（３Ｈ，ｄ
、　Ｊ＝５．５ｐｍ Ｈｚ）、　〜２．４　（ＩＨ，ｓ）、　　３．７１　（
３Ｈ，Ｓ）。

３．３０　（１Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝４．２Ｈｚ　）　、　
　４．０１（１Ｈ１ｄ、　Ｊ＝１５Ｈｚ　）　、　　４
．６０　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１５Ｈｚ　）。

４．０〜４．３　（ＩＨ，ｍ　）、　　４．２８　（Ｉ
Ｈ，ｄ。

Ｊ＝２Ｈｚ　　）、　　６．７　〜７．５　　（９Ｈ，
ｍ　　）実施例１２゜ ｄｉ　−３，４−トランス−１−アリル−３α−［（Ｉ
Ｂ＊）　−１−ベンゾイルオキシエチル）−４−フェニ
ルチオエチニル−２−アゼチジノン（５２０■）をＢａ
ｃｉｌｌｕｓ　５ｕｂｔｉｌｉｓ　５ＡＮＫ　７６７５
９（ＩＡＭ　１０６９　）と伴にＡ法により２８℃で３
日間培養する。培養液を酢酸エチルで抽出して得られる
粗生験体（２５０１１１９）をシリカゲル薄層クロマト
グラフィー（シクロヘキサン／酢酸エチル＝　１／１　
、　町中０．４）により精製すると目的化合物４３ＭＩ
ｇが得られた。

２４゜ 〔α〕Ｄ−３°　（Ｑ＝ｌ、　０ＨＯＪ５　）ＮＭＲ（
ｏｎｏｊ５）δｐｐｍ　：　１．２９　（３Ｈ，ｄ、　
Ｊ＝６Ｈｚ　）ｔ３．３１　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝２．
５．５Ｈｚ　）　、　　３．４〜４．４（２Ｈ，ｍ　）
　、　　４．４７　（ＩＨ，ａ、　Ｊ＝２．５Ｈｚ　）
　。

４９〜６．０　（４Ｈ，ｍ　）　、　　７．１〜７．５
　（５Ｈ，ｍ　）実施例１３゜ ｈ ｄｉ　−３，４−トランス−１−ベンツヒドリル−３α
−（（ＩＲ”）　−ベンゾイルオキシエチルツー４−エ
チニル−２−アゼチジノン（９０１９）をＢａｃｉｌｌ
ｕｓ　５ｕｂｔｉｌｉｓ　８ＡＮＫ　７６７５９　（Ｉ
ＡＭ　１０６９　）と伴にＡ法により２８℃で３日間培
養する。培養液を酢酸エチルで抽出して得られる粗生験
体（１１０■）をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（
シクロヘキサン／酢酸エチル＝　１／１　、　ＦＬ（キ
０．３５　）により精製すると目的化合物９．４ｑが得
られた。

〔α’ｌ、　　＋２．８°　（０＝０．９４．０ＨＯＩ
Ｓ　）ＮＭＲは参考例６で得られた化合物のそれと一致
した。

実施例１４ −２−アゼチジノン ｎ ｄａ−３，４−）ランス−１−ベンツヒドリル−３α−
［（ＩＢ＊）　−１−ベンゾイルオキシエチルツー４−
エチニルアゼチジノン（４０η）を　Ｂａｃｉｌｌｕｓ
　　５ｕｂｔｉｌｉｓ　　５ＡＮＫ　　７６７５９　　
（ＩＡＭ　　１０６９　　）と伴に２８℃で３日間培養
する。培養液を実施例１３と同様に処理すると目的化合
物１０１１ｇが得られた。

〔α瑠０−５２°（ｏ＝１．０ＨＯｊ５　）ＮＭＲは参
考例６で得られたＳ＊化合物のそれと一致した。

実施例１５゜ ｈ ｄｌ　−３，４−トランス−１−ベンツヒドリル−３α
−［（ＩＲ＊）　−１−ベンゾイルオキシエチル〕−４
−フーエニルチオエチニル−２−アゼチジノン（１６０
１１ｇ）を実施例１３と同様に培養、処理すると目的化
合物５ｓｓ９が得られた。

〔α］Ｄ−１３°　（０＝０．６５．０ＨＯＪ３　）Ｎ
ＭＦし　（ｏ　Ｄｏｔ５）　　δ　　　　　二　１．２
Ｂ　　（３Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝６Ｈｚ　　）ｔｐｍ 〜２．８　（ＩＨ，８）　、　　３．３５　（１）Ｌ、
　ｄｄ、　Ｊ＝３゜５Ｈｚ）、　　４．２　（ＩＨ，ｍ
）、　　４．３４　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝３Ｈ２）、　　６．０４　（１）（、Ｓ　）、　　
７．２〜７．４（１５Ｈ，ｍ　） 実施例１６゜ カルボキシメチル−２−アゼチジノン ｄｊ　−３，４−トランス−１−（４−メトキシフｘ　
＝　／ｌ／　）　−３α−（１−ベンゾイルオキシエチ
ル）−４−カルボキシメチル−２−アゼチジノン５０■
をＢａｃｉｌｌｕｓ　５ｕｂｔｉｌｉｓ　５ＡＮＫ　７
６７５９　（Ｉ人Ｍ１０６９　）と伴にＡ法により３６
時間振と５培養する。培養液を酢酸エチルで抽出して得
られる粗生原体（５０η）を　シリカゲル薄層クロマト
グラフィー（シクロヘキサン／酢酸エチル＝１１５゜Ｒ
ｆ中０．１．ＵＶラン１検出）により精製すると光学活
性な目的化合物５Ｗｇが得られた。

実施例１７゜ ジノン ｄｌ　−３，４＝　）ランス−１−（４−メトキシフェ
ニル）−３α−（１−ベンゾイルオキシエチル）−４−
カルボキシメチル−２−アゼチジノン８０ηをＮ、Ｎ−
ジメチルホルムアミド中、炭酸水素ナトリウムの存在下
ベンジルブロマイドと常法に従って反応、処理するとベ
ンジルエステル体９０ηが得られる。この化合物９０η
をＢａｃｉｌｌｕｓ　５ｕｂｔｉｌｉｓ　８ＡＮＫ　７
６７５９と伴にＡ法により培養する。培養液を酢酸エチ
ル抽出して得られる粗生核体（９８１１ｖ）を　シリカ
ゲル薄層クロマトグラフィー（シクロヘキサン／酢酸エ
チル”　１／　１　、　ＦＬ（中０．５　、　　ＵＶ　
ラップ検出）により精製すると光学活性な目的化合物２
０■が得られた。

実施例１８゜ フェニルチオカルボニルメチル−２−アゼチジノン ｄｉ　−３，４−）ランス−１−（４−メトキシフェニ
ル）−３α−（１−ベンゾイルオキシエチル）−４−フ
ェニルチオカルボニルメチル−２−アゼチジノン２０ｗ
１ｇをＢａｃｉｌｌｕｓ　５ｕｂｔｉｌｉｓＳＡＮＫ　
７６７５９と伴にλ法により３６時間培養する。

培養液を酢酸エチル抽出して得られる粗生核体２５Ｗｇ
をシリカゲル薄層クロマトグラフィー（シクロヘキサン
／酢酸エチル＝　１７１　、　Ｒｆ中０．４．ＵＶラン
プ検出）により精製すると光学活性な目的化合物５ηが
得られた。

実施例１９゜ ４−エチニル−２−アゼチジノン アミノアシラーゼ（Ｎ　−Ａｃｙｌａｍｉｎｏａｃｉｄ
ａｍｉｎｏｈｙｄｒｏｌａｓｅ　ＥＯ＆５．１．１４　
）　５００単位を５　ｔｔｃ４／ｍｌの塩化コバルトを
含む蒸留水またはリン酸緩衝液（ＰＨ７，０）　５Ｇ−
に溶かす。これにｄｌ　−３，４−トランス−１−（４
−メトキシフェニル）−３α−Ｃ（ＩＲ”　）−アセト
キシエチル〕−４−エチニル−２−アゼチジノン４９■
を０．０５％のＴｒｉｔｏｎ　１００と〜もに加える。

この溶液を３０”Ｃで２日間攪拌する。反応液を酢酸エ
チルで抽出して得られる粗生核体を実施例１と同様に処
理すると目的化合物１０■が得られた。

ｔａｌｙ’　　−４０’　（０＝１．０ＨＯ１５）ＮＭ
Ｒは実施例１で得られた化合物のそれと一致した。

実施例２０゜ ４−エチニル−２−アゼチジノン ブタ肝臓由来のユステラーゼ（０ａｒｂｏｘｙｌｉｃ　
−ｅｓｔｅｒ　ｈｙｄｒｏｌａｓｅ　ＥＣ３，１，１，
１）　５００単位を０．１Ｍリン酸緩伽沿（ＰＨ７，０
）に溶かし、これにｄｉ　−３、４−）ランス−１−（
４−メトキシフェニル）−３α−〔（１Ｒ＊）−１−ア
セトキシエチル〕−４−エチニル−２−アゼチジノン６
０■を加え、ついでアセトンを加えアセトンの５％水溶
液とする。この溶液を３５℃で１日間攪拌する。

反応液を実施例１と同様に処理すると目的化合物１２■
が得られた。

〔α）Ｗ　’　　ａ　ｓｏ　（０＝１．０ＨＯＪ　５　
）ＮＭＲは実施例１で得られた化合物のそれと一致した
。

参考例１ プロパルギル　アルデヒド１ｙを塩化メチレン２０１１
に溶解し、０．８７ｖｔｌのアリルアミン及び無水硫酸
マグネシウム４ｙを加え、２０℃、２０分間攪拌。ろ過
後、ろ液にイミダゾール１．５６ノを加えて、窒素雰囲
気下−２０℃とし、ついでジケテン１．７６ｍ１を同温
にて加える。

約１．５時間かけて反応温度を２０″Ｃにする。反応液
を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥。

溶媒留去後、残渣をシリカゲルラビット・クロマトグラ
フィー（塩化メチ、レン）に付し、Ｒｆ二〇。４辺の目
的化合物６９１■を得た。

Ｂ、　　９５〜１０５°１０．０３　ａ　Ｈｇ　（油浴
温度）ＮＭＲ（ｏＤｏＪ５）δ：　２．２Ｂ　（３Ｈ，
ｓ　）　、　　２．５６（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝２Ｈ１）　
、　　２．３〜４゜３（２Ｈ）。

４．２４　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝＝２Ｈｚ　　）、　　４
．５４　　（ＩＨ，ｔ。

Ｊ＝２Ｈ２）　、　　４．９５〜６．ｔ５　　（３Ｈ，
ｍ　）ＩＲ（Ｌｉｑ、）　ｔｙｔｔ’　　：　　１７６
ｒＪ、　　１７１２．　２１１０参考例１ ｎ プロパルギルアルデヒド１ｙを無水ベンゼン２０−に溶
解し、２８２ｇのベンツヒドリルアミン及び無水４Ａｅ
マグ坏シウム２ｇを加え２０分間攪拌。ろ過後、溶媒を
留去し、残渣を無水塩化メチレン３０ｍ１に溶解し、１
．５７　ｆ　のイミダゾールを加え窒素雰囲気下−２０
℃に冷却する。

ついで１．７６ｍ１のジケテンを一２０°〜−１０℃で
ガロえ、ゆっくりと反応温度を１５℃とする（約１．５
時間）。２０ｇＺの塩化メチレンを加え、反応液を水洗
し、抽出液を無水硫酸マグネシウムにて乾燥。廖媒留去
後、残渣をシリカゲル　ラビットクロマトグラフィー（
シクロヘキサン：酢酸エチル＝＝３二ｉ）により精製す
ると目的化合物３．２ｇが得られた。

Ｊ＝０．３５　（シクロヘキサン：酢酸エチル＝２；１
） ＮＭＩヨし　（−ｏｐｏＪ３）　　δ　二　二！、２１
　　　（３Ｈ，ｓ　　）　　、　　　２．３２（ＩＨ，
ｄ、　Ｊ＝２Ｈ２）　、　　４．２２　（ＩＨ，Ｊ＝２
Ｈｚ　）　。

４．４５　（ＩＨ，ｔ、　Ｊ＝２Ｈｚ　）　、　　５．
８６　（ＩＨ，ｓ　）　。

７．２８　（１０Ｈ，ｓ　） ＩＲ（Ｌｉｑ、　　）　　ｔｙｙ　　’　　　：　　：
Ｈ２Ｏ，１７６０，１７２０参考例ふ ｄｌ　−１−アリル−３−アセチル−４−エチニル−２
・＝アゼチジノン４００ｔｆｌをメタノール５ｄに溶解
し、氷冷下８６屑９のＮａＢＨ４をゆつ（り加え、同温
にて２０分間攪拌後酢酸エチルを加え希塩酸水を加え、
有機層を水洗３回、無水ＭｇＳＯ４にて乾燥後溶媒留去
。得られる残渣をシリカゲルラビッドクロマトグラフィ
ー（シクａヘキサン：酢酸エチル＝　１　：　１　、　
Ｒｆ＝０．３近辺）により目的化合物３００　Ｋｇが得
られた。

ＮＭＲ（ａＤａｔ　５　）δ：　１．２５　（１，２５
Ｈ，ｄ、　Ｊ＝５．５　）　。

１．２９　（１，７５Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．５Ｈｚ　）　
、　　２．４５　（ＩＨ。

ｍ　）、　　３．０〜３．８　（４Ｈ，ｍ　）、　　３
．８〜４．３（３Ｈ＋　ｍ　Ｌ　　６．１　（３Ｈ，ｍ
　）。

ＮＭＲの１．２５と１．２９のシグナルの比からＲ＊／
８＊：　１／１．４であることが明らかとなった。

なお本反応なＮａＢＨ４の代りにに一セレクトライドを
用いても同様な結果が得られた。

参考例４゜ 参考例３により得た３＊　：Ｂ＊キ１．４　：　１　　
の混合物のアルコール体８００■を２０ｙｘｌの無水テ
トラヒドロフランに溶解し、トリフェニルホスフィン２
．３４１及び安息香酸１ｆを加える。この溶液に室温に
てアノジカルボン酸ジエチル９３３■を加え、そのま〜
３０分間攪拌。酢酸エチルを加え水洗２回、ＭｇＳＯ４
にて乾燥。浴媒留去後シリカゲル　ラビットクロマトグ
ラフィー（シクロヘキサン：酢酸エチル＝５　：　１　
）により精製すると目的化合物９１７■が得られた。

ＮＭＲ（ｏｎｏｚ３）δ：　１．５０　（１，２５Ｈ，
ｄ、　Ｊ＝６．５Ｈｚ　）。

１．５４　（１，７５Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．５Ｈｚ　）　
、　　２．５４　（ＩＨ）　。

３．３〜３．８　（３Ｈ，ｍ　Ｌ　　３．９〜４．４　
（３Ｈ，ｍ）。

４．９〜６．１　（３Ｈ，ｍ　）、　　７．２〜７．６
　（３Ｈ，ｍ）。

７．８〜＆１　（２Ｈ，ｍ　） ＮＭＲの１．５０と１．５４のシグナルの比からＲ＊／
Ｓ＊＝１／１．４であることが明らかとなった。

参考例５゜ ｄｉ−３，４−）ランス−１−アリル−３α−エールチ
オエチニル−２−アゼチジノンおよびｄｉ　−３，４−
１−ランス−１−アリル−３α−〔（ＩＳ＊）−ベンゾ
イルオキシエチル〕−４−フェニルチオエチニル−２−
アゼチジノンヘキサメチルジシラザン６２６即をテトラ
ヒドロフラン１０耐に溶解し、水冷下ｎ−ブチルリチウ
ムへキサン液（１，６２ｍモル／　ｍｌ　）　２．４　
ｍｌを加える。そのま〜３０分間攪拌攪拌後８℃に冷却
する。この溶液に参考例４で合成したベンゾイル体（几
”、Ｓ＊のまざり）９１７■の１０肩ｌテトラヒドロフ
ラン爵液を加え、更に−ｒａ’ｃにて一時間攪拌する。

ついで１．ｒ、　ｕｎ、　ｃｈｅｍ、　ｓｏｃ、、　９
９　。

４４０５　（１９７７）の方法で合成したフェニルベン
ゼンチオスルホ洋−ト（φ５ＳＯ２φ）９１２■の１０
ヨｔテトラヒドロフラン溶液を加える。−７８℃にて一
時間攪拌。酢酸エチルを加えついて塩化アンモニウム水
を加える。酢酸エチルにて抽出後、抽出液を飽和食塩水
にて水洗。ＭｇＳＯ４にて乾燥、溶媒留去後シリカゲル
ラピッドクロマトグラフィ、−（シクロヘキサン：酢酸
エチル＝１０　：　１　）により精製し目的のＦＬ＊体
５２Ｇ　１１！７およびＳ＊体２００■が得られた。

１体：油状物質、　Ｉ（（＝　０．２３　（塩化メチレ
ン）ＮＭＲ（ｏｐＯＪ３）δ：　１．５２　（ＯＨ５，
ｄ、　Ｊ＝６．５Ｈｚ　）　。

３．５４　（ＩＨ，ｄ、　ｄ、　Ｊ：６．５．２．５Ｈ
ｚ　）　、　　３．６〜４．４　（２Ｈ，ｍ　）　、　
　４．５１　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝２．５Ｈｚ　）　。

５．０〜６．０　（４Ｈ，ｍ　）　、　　７．１〜１．
６　（８Ｈ，ｍ）。

７．９〜８．２　（２Ｈ，ｍ　） ＩＲ（Ｌｉｑｕｉｄ）　ｃｍ　”　：　１７６０．１７
２０Ｓ＊体：ｍｐＴＯ〜１℃　　Ｒ１＝　０．３１　（
塩化メチレン） ＮＭ几　（ａｐａｒｔ）　　δ　：　　１．５５　　（
ＯＨ５、ｄ、　　Ｊ＝６．５Ｈｚ　　）、　　　　　　
　’−”３．３〜４．１　（３Ｈ，ｍ）、　　４．２９
　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝２．５Ｈｚ　）、　　４．９〜６
．１　　（４Ｈ，ｍ）、　　７．１　〜７．６（８Ｈ，
ｍ）、　　７．９〜８．２　　（２Ｈ，ｍ）ＩＲ（Ｎｕ
ｊｏｌ）　ｃｙｎ　’　　：　　１７６０．　１７２０
参考例６゜ ｈ 参考例２　ノｄｔ　−１−ベンツヒドリル−３−アセチ
ル−４−エチニル−２−アゼチジノン１．８ｙを３０厘
ｌのメタノールに溶解し、−２０℃にてＮａＢＨ４２５
０■を加え同温にて５分間攪拌。

希塩酸水及び酢酸エチルを加え、生成物を酢酸エチル抽
出。水洗後、Ｍｇ５ｏ４にて乾燥。溶媒留去後、シリカ
ゲルラビッドクロマトグラフィー（シクロヘキサン／酢
酸エチル＝ｌ／１）により精製すると目的化合物１．７
ｆが得られた。

これをジエチルエーテルから再結晶すると目的化合物ｓ
ｏｏ　ｔｒｇが結晶として得られた。

ｍｐ　　１０５゜ ＮＭＲ（ＯＤＯ１５）δ：　１．２９　（３Ｈ，ｄ、　
Ｊ＝６Ｈｚ　）　。

２．３２　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝４５Ｈｚ　）　、　　３
．２６　（ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ＝５．２．５Ｈｚ　）　、　　３．８９　（ＩＨ，ｔ
、　Ｊ＝２．５Ｈｚ　）　。

３゜８〜４．２　（ＩＨ，ｍ）、　　５．９３　（ＩＨ
，ｓ　）。

７．１〜７．４　（１０Ｈ，ｍ　） 参考例７゜ ｄＪ　−３，４−）ランス−１−ベンツヒドリルルー２
−アゼチジノン 参考例６で得たＲ＊及び８＊のまざりのアルコール体１
ｆをピリジン５Ｗｌ及び無水酢酸５　ｚｌに溶解し１５
時間放置。酢酸エチルエステルを加え、希塩酸水、及び
飽和食塩水にて洗滌後、溶媒留去。残渣をシリカゲルラ
ビットクロマトグラフィー（塩化メチレン：酢酸エチル
＝４０：１）により精製すると目的の８＊体４００〜お
よび１体２５０■が得られた。

Ｓ＊体：ｍｐ１２３°。

町：０．６４（塩化メチレン：酢酸エチル＝２０＝１） ＮＭＲＣ０ＤＯ１５）δ：　１．３５　（３Ｈ，ｄ、　
Ｊ＝６Ｈｚ　）　。

１．８８　（ＯＨ３，Ｓ　）　、　　２．４０　（ＩＨ
，ｄ、　Ｊ＝２Ｈｚ　）　。

３．４０　（ＩＨ，ｔ、　Ｊ＝２．５Ｈｚ　）　、　　
３．７４　（ＩＨ，ｔ。

Ｊ＝２．５Ｈｚ　）　、　　５．１３　（ＩＨ，ｃｔｑ
、　Ｊ＝（ｉ、５．３Ｈｚ　）　。

５．９２　（ＩＨ，Ｓ　）　、　　７．２８　（１０Ｈ
，Ｓ　）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ　）　ｃｍ−’　：　１７７
０．１７３５．１６００Ｒ＊体：油状物 町＝０．４５　（塩化メチレン：酢酸エチル＝　２０　
：　１　）ＮＭＲ（ｏｎｏＪ５）δ：　１．３Ｇ　（３
Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ　）　。

１．９２　　（３Ｈ，ｓ　　）、　　２．３８　　（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ　　）。

３．３６　　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝２．５，５．５Ｈｚ　
　）、　　４．０１　　（ＩＨ。

ｔ、Ｊ＝２Ｈ２）、　　５．１４　　（ＩＨ，ｑ、Ｊ＝
５．５Ｈｚ　　）。

５．９２　　（ＩＨ，Ｓ　　）　、　　７．２８　　（
１０Ｈ，Ｓ　　）１　　（Ｌｉｑ、）備−’　　：　　
１７７０．１７４０参考例８゜ チル〕−４−エチニルー２−アセチジノンおよびｄｉ−
３，４−）ランス−１−ベンツヒドリル−３α−〔（１
Ｓ＊）−１−ベンゾイルオキシエチル〕−４−エチニル
−２−アゼチジノン参考例６で得た５９２１１ｇのアル
コール体（Ｒ＊及びＳ＊のまざり）を、１０ｇＪのテト
ラヒドロフランに溶解し、１．０５Ｆのトリフェニルホ
スフイン及び４４０■の安息香酸を加える。

この溶液に水冷下アゾジカルボン酸ジエチル４１７■を
加え、水冷剤をとりのぞきそのま〜１０分間攪拌。酢酸
エチルを加え、水洗３回。

Ｍｇ５Ｏｄにて乾燥後溶媒留去し、残渣をシリカゲルラ
ビッドクロマトグラフィー（シクロヘキサン：酢酸エチ
ル＝＝１０：１）　　により精製すると目的の２体３４
８■およびＳ＊体１１７■が得られた。

Ｒ体：ｍｐｌｌｌ。

ＮＭＲ（ｏｎｏｔ５）　　δ　：　　１．４５　　（３
Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝８Ｈｚ　　ン　。

２．４０　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝２Ｈ２）　、　　３．５
５　（ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ　＝　２．５及び６Ｈｚ）、４．１５　（ＩＨ，ｔ、
　Ｊ＝２Ｈｚ）。

５．４１　（ＩＨ，ｑ、　Ｊ＝６Ｈｚ　）　、　　５．
９４　（ＩＨ，ｓ　）　。

７．１〜７．５　（１３Ｈ−ｒｎ　）　ｅ　　Ｔ−７〜
？−９５（２Ｈ。

ｍ） ８＊体：油秋物 Ｎｙｎ　（ＯＤＯＪ５）δ：　１．５０　（３Ｈ，ｄ、
　Ｊ＝８Ｈ２）　。

２．３８　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝２Ｈ２）　、　　１５５
　（ＩＨ，ｔ。

Ｊ＝２．５Ｈｚ　）　、　　１８６　（ＩＨ，ｔ、　Ｊ
＝＝２．５Ｈｚ　）　。

５．４４　　（ＩＨ，ｄｑ、Ｊ＝６．２．５Ｈｚ　　）
、　　５．９０　　（ＩＨ。

Ｓ　　）、　　７．１　〜７．５　　（１３Ｈ，ｍ　　
）ｔ　　Ｔ、Ｔ　〜７．９６（２Ｈ，ｍ　　） 参考例９゜ ドリル〜３α−（（１Ｂ＊）　−１−ベンゾイルオーア
ゼチジノン ヘキサメチルジシラザンＯ，’２２　ｍｌを無水テトラ
ヒドロフラン１ＤｚｌＩＣ溶解し、Ｑ、５６ｚｌのｎ−
ブチルリチウムヘキサン液（１，６２ｍモル／ｇ／）を
加え、３０分間水冷下攪拌する。−７８℃に冷却し、参
考例８で合成したＣのベンゾイル体３４８　ｍｙのテト
ラヒドロフラン溶液を加える。１時間−７８℃テ攪拌後
２７０■のフェニルベンゼンチオスルホネートを加え、
−７８℃にて３０分攪拌後、酢酸エチルついで塩化アン
モニウム水溶液を加える。有機層を水洗後Ｍｇ８０４に
て乾燥。溶媒留去後、残渣をシリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー（シクロヘキサン：酢酸エチル＝５　：　１　
）＆Ｃより精製すると目的のＣ体３７０■が得られた。

ＮＭＩＩＬ　（ｏＤａｌｘ、）δ：　１．４６　（３Ｈ
，ｄ、　Ｊ＝６Ｈ２）　。

３．６１　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝２．５．６Ｈｚ　）　
、　　４．４２　（ＩＨ。

ｄ、　Ｊ＝２．５Ｈｚ　）　、　　ｓ、ｓｏ　（ＩＨ，
（１，Ｊ＝６Ｈ２）　。

６．０６　　（ＩＨ，ｓ　　）　、　　乙１５〜７．７
　　（１３Ｈ，ｍ　　）。

Ｔ、８〜８．０　（２Ｈ，ｍ　） ｔＲ（Ｌｉｑｕｉｄ）　ｃｙｒ　’　：　１７６０．１
７２０．１６００．１５８０参考例８で得られたＳ＊ベ
ンゾイル体８６ｗｇを用いてＲベンゾイル体の場合と同
様に反応、処理すると目的のＳ＊体５ＯＪｌｆが得られ
た。

ＮＭＲ（ＯＤＯＪ３）δ：　１．５３　（３Ｈ，ｄ、　
Ｊ＝６Ｈｚ　）　。

３．６０　　（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝＝２．５Ｈ２）、　　４
Ｎ　　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝２．５Ｈｚ　）　、　　５．５４　（ＩＨ，ｄｑ、
　Ｊ＝６．５．　２．５Ｈｚ）。

６．０３　（ＩＨ，ｓ　）、　　７．１〜７．６　　（
１８Ｈ，ｍ　）ｔ７．８〜８．１　　（２Ｈ，ｍ　） 参考例１Ｇ。

ｄｊ　−３，４−）ランス−１−ペンツヒドリル−びｄ
ｌ　−３，４−トランス−１−ベンツヒドリル参考例Ｔ
で得られた８体Ｂ２１１９を用いて参考例９と同様に反
・応、処理すると目的の２体９５岬が得られた。

ｍｐ　１２０゜ ”ｆ＝０．４１　（塩化メチレン：酢酸Ｚｆｋ＝　２０
　：　１　）ＮＭＲ（ＣＤＯＪ３　　）　　δ　二　１
．３０　　（３Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝６Ｈｚ　　）　　。

１．９３　　（３Ｈ，Ｓ　　）、　　３．３９　　（Ｉ
Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝２．５゜６Ｈｚ　　）、　　４．２０　
　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２．５Ｈｚ　　）。

５．１６　　（ＩＨ，ｑ、Ｊ＝６Ｈｚ　　）、　　５．
９７　　（ＩＨ，ｍ　）。

１．０〜７．４　　（１５Ｈ，ｍ　） 参考例７で得られたＳ　体１４０■を用いて参考例９と
同様に反応、処理すると目的の８＊体１１０■が得られ
た。

Ｊ＝０．４８　（塩化メチレン：酢酸エチル＝　２０　
：　１　）ＮＭ几（ａＤａ１５”）δ：　１．３８　（
３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝＝６Ｈｚ　）　。

１．９２　（３Ｈ，ｓ　）　、　　３．４５　（１Ｈ，
ｔ、　Ｊ＝２．５Ｈｚ）。

３、．９９　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝２．５Ｈｚ　）　、　
　５．１５　（ＩＨ，ｄ、ｑＪ＝ｌｉ、　３Ｈｚ　）　
、　　５．９９　（ＩＨ，Ｓ　）　、　　７．１〜７．
５（ＩＳＨ，ｍ　） 参考例１１゜ ｄｉ　−３，４−、）ランス−１−（４−メトキシおよ
びｄｌ−３，４−トランス−１−（４−メトキシフェニ
ル）−３α−［（ＩＲ＊）　−１−アセトキシエチルク
ー４−エチニル−２−アゼチジノン 参考例１および２の方法に準じて得られるｄｊ−３，４
・−）ランス−１−（４−メトキシフェニル）−３α−
（１−ヒドロキシエチル）−４−エチニル−２−アゼチ
ジノン（特願昭５９−２６５９６２の参考例１２に記載
）　２７０　ｔｙ　（ｎ”とＳ＊の混合物）をピリジン
３００１１％Ｆ及び無水酢ｌＲ３００■に溶解し１５時
間室温に放置。氷水にあけ、酢酸エチルにて抽出。希塩
酸水及び水洗後ＭｇＳＯ４にて乾燥。溶媒留去後残渣を
シリカゲルラビッドクロマトグラフィー（塩化メチレン
）により精製すると目的のＳ＊体８５■および１体１８
０１１ｇ　が得られた。

Ｓ＊体：　Ｒｆ：０．３４　（塩化メチレン）ＮＭＲ（
ａＤｃｔ５）　　δ　：　　１．４２　　（３Ｈ，ｄ、
Ｊ＝６．５Ｈｚ　）。

２．０　　（ＯＨ５，Ｓ　）　、　　’２１５　　（Ｉ
Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝２Ｈｚ　）ｔ３．５７　　（ＩＨ，ｄ
ｄ、　　Ｊ＝５．　２．５Ｈｚ　　）　、　　３．７６
　　（３Ｈ。

ｓ　　）　、　　４．３１　　（ＩＨ，ｔ、　　Ｊ＝２
．５Ｈｚ　　）　、　　５．３０（ＩＨ，ｄｑ、Ｊ：６
．５，５Ｈ２）、　　６．７−７．６　　（４Ｈ。

Ａ２Ｂ２型） ２体：　Ｒ（＝０．２’６　（塩化メチレン）ＮＭＲ（
ｃＤａ１３）δ：　１．４０　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．
５Ｈｚ　）　。

２．０　（３Ｈ，Ｓ　）　、　　２．５５　（ＩＨ，ｄ
、　Ｊ＝２Ｈｚ　）　。

３．４５　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝６．５．２Ｈｚ　）　
、　　３．７６　（３Ｈ。

ｓ　）、　　４．５０　（ＩＨ，ｔ、　Ｊ＝２Ｈｚ　）
　、　　５．２７　（ＩＨ。

ｑ、　Ｊ＝６．５Ｈｚ　）　、　６．７〜７．６　（４
Ｈ，Ａ２Ｂ２型）参考例１２゜ フェニル）−３α−［（１８）−ベンソイルオキシエチ
ルツー４−エチニル−２−アゼチジノンおよびａｎ−３
，４−）ランス−１−（４−メトキシフェニル）−３α
−［（１［）−１−ペンソイルオキシエチル〕−４−エ
チニル−２−アゼチジノン 参考例１および２の方法に準じて得られるｄｌ−＆４−
トランスー１−（４−メトキシフェニル）−３α−（１
−ヒドロキシエチル）−４−エチニル−２−アゼチジノ
ン（％願昭５９−２６５９６２号の参考例１２に記載）
を分別再結晶法および母液のクロマトグラフィーにより
精製すると１８＊−ヒドロキシエチル体（再結晶法）お
よびＩＲ＊−ヒドロキシエチル体（クロマト法）が得ら
れた。

こへに得られた１８＊−ヒドロキシエチル体５７０■を
無水テトラヒドロフラン２０＋＋＋１ＫｉＪ解。

更にトリフェニルホスフィン１．１ｇ及び安息香酸５０
０■を加え、氷冷下７００　ｊｌｌｉのアゾジカルボン
酸ジエチルを加える。寒剤をのぞき、室温にて３時間攪
拌。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルラビッドク
ロマトグラフィー（シクロヘキサン：酢酸エチル＝５　
二１　）により精製すると目的の２体５００■が得られ
た。

ｍｐ　１０１°　（エーテルから再結晶）ａ（＝ａ、５
　（塩化メチレノ） ＮＭＲ（０ＤＯｊｔ５　）δ：　１．５５　（３Ｈ，ｄ
、　Ｊ＝６．５Ｈｚ　）ｓ２．５５　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ
＝２．５Ｈｚ　）　、　　３．６　（ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ＝５．５．２．５Ｈｚ　）　、　　３．７０　（３Ｈ
，ｓ　）　、　　４．６（１１（、ｔ、　Ｊ＝２．５Ｈ
２）　、　　５．４６　（ＩＨ，ｑ、　Ｊ＝６．５Ｈｚ
　）、　　ｅ、ｙ　〜７．６　（７Ｈ，ｍ　）、　　７
．８〜８．０　（２Ｈ，ｍ　） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）　ａｘ−’　：　３２８０．２１４
０．　ｆγ４５．１７２０゜１６０８、　１５９０ １８＊−とドロキレエチル体５００ｗｇを無水塩化メチ
レン中２．５当量のトリエチルアミン及び触媒量のジメ
チルアミノピリジンの存在下２．５　　当量の安息香酸
クロリドと１０時間〜１５時間反応させる。反応液に水
を加え、有機層を分離する。

有機層を希塩酸水にて二度洗滌後、水洗。ＭｇＳＯ４に
て乾燥後溶媒留去すると目的の８８体５００ηが得られ
た。

Ｒ，ｆ＝０．６１　（塩化ノナ１／ン）ＮＭＲ（ＯＤ０
７．、）　　δ　：　　１．５９　　（３Ｈ，ｄ、　　
Ｊ＝６．５１（ｚ　）。

２．５５　　（ＩＨ，ｄ、　　Ｊ：２．５Ｈｚ　　）、
　　〜３．７　　（ＩＨ，８）。

３．７０　　（３Ｈ，Ｓ　　）　、　　４．３８　　（
ＩＨ，ｔ、　　Ｊ＝２．５Ｈ１）。

５．５３　　（ＩＨ，ｄ、ｑ、Ｊ＝＝６．５．３Ｈｚ　
　）参考例１３゜ 参考例１２に示した方法で得られるｄｌ　−３，４−ト
ランス−１−（４−メトキシフェニル）−３α−［（１
ｓ＊）’−１−ヒトａキシエチル〕−４−エチニル−２
−アゼチジノンｉＱＱ　ＩＱをテトラヒドロフラン３ｍ
１ＶＣ溶解し、ぎ酸ｒｏｑ及びトリフェニルホスフィン
２３０ηを加エル。ついで水冷下１５０ｗＩｇのアゾジ
カルボン酸ジエチル１５０■を加える。反応液を室温に
て５時間攪拌後、溶媒留去し残渣をシリカゲル薄層クロ
マトグラフィー（シクａヘキサン：酢酸エチル＝２　：
　１　、　ｎ（＝ｏ、４）により精製すると目的化合物
５０■が得られた。

ｍｐ７９’Ｃ（ジエチルエーテルから再結晶）ＮＭＲ（
ＯＤＯｊ３）δ：　１．４６　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．
５Ｈｚ）。

２．５４　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝２．５Ｈｚ　）　、　　
３．４９　（ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ＝５．５．２．５Ｈｚ　）　、　　３．７４　（３Ｈ
，ｓ　）　、　　４．４８（ＩＨ，ｔ、　Ｊ＝２．５Ｈ
ｚ　）　、　　５．３８　（ＩＨ，ｑ、　Ｊ＝６．５Ｈ
ｚ　）　、　　６．７５〜７．５５　（４Ｈ，Ａ２Ｂ２
型）。

７．９８　（ＩＨ，ｓ　） 参考例１４゜ 参考例１および２の方法に準じて合成されるｄＪ　−３
，４−）ランス−１−（４−メトキシベンジル）−３−
アセチル−４−エチニル−２−アゼチジノン（特願昭５
９−２８５９６２の参考例４に記載）４６０１１９をテ
トラヒドロフラン６　ｍｌ及びメタノール３Ｗｌの混合
液に溶解し、０でにてＮａＢＨ４６，０■を加える。１
０分後酢酸エチルを加え、さらに希塩酸水を加える。有
機層を分離し、水洗後、Ｍｇ８０４にて乾燥。溶媒留去
後残渣をシリカゲルラビッドクロマトグラフィー（シク
ロヘキサン：酢酸エチル＝１：１．Ｒｆ中０．３）によ
り精製すると目的化合物４６０■が得られた。

ＮＭＲ（ａｎｏ１５　）δ：　１．２４　（ＩＨ，ｄ、
　Ｊ＝６．０ｆ（ｚ　）　。

１．２８（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．５Ｈ２）　、　　２．
３９　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝２Ｈｚ　）ｖ　　３．７Ｇ　（３Ｈ，ｓ　）、　　
３．２〜３．４（ＩＨ，ｍ　）ｓ　　Ｌ７〜４．２　（
２Ｈ，ｍ　）、　　４．５９（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１５Ｈ
ｚ　）　、　　６．７０〜７．２５　（４Ｈ。

Ａ２Ｂ　２型） １．２４と１．２８のシグナルの比からＲ＊／８＊：１
／２であることが明らかとなった。

参考例１５゜ ジノン 参考例１４で得られた化合物（Ｒ＊とＳ＊の混合物）３
ｆを８０ｇ／の無水テトラヒドロフランに？ｌｊ’ｉｎ
、６Ｆのトリフェニルホスフィン及ヒｚａｆの安息香酸
を加える、水冷下２．４１１のアゾジカルボン酸ジエチ
ルを加え、５分間攪拌する。

反応液に酢酸エチルを加え有機１１！を水洗、ＭｇＳＯ
４で乾燥後、溶媒留去して得られる残渣をシリカゲルラ
ビットクロマトグラフィ−（シクロヘキサン：酢酸エチ
ル＝−４：　１　）により精製するとＣと８＊の混合物
２．３５１が得られた。

当該生成物は更にシリカゲル分取用薄層りａマドグラフ
ィーにより、塩化メチレンな展開溶媒として用（・る事
によりＣを分離することが出来る。

１体； ＮＭＲ（ｃＤｏｚ５）δ：　１．４３　（ＯＨＭ、　ｄ
、　Ｊ＝６Ｈｚ　）　。

２．５１　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ：２Ｈ２）　、　　３．４
９　（ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ＝６．２Ｈ２）　、　１７３　（３Ｈ，Ｓ　）　、　
　３．８〜４．３（２Ｈ，ｍ　）　、　　４．７０　（
ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１５Ｈｚ　）　。

５．４０　（ＩＨ，ｑ、　Ｊ＝５Ｈ２）　、　　６．６
〜７．６　（７Ｈ。

ｍ）、１．８〜７．９　（２Ｈ，ｍ　）参考例１６゜ ０．７１ｍ１のへキサメチルジシラザンをテトラヒドロ
フラン１０ｇ／ｌｃ溶解し、水冷下ｎ−ブチルリチウム
ヘキサンｉＺ、１ｓ＋ｔ（１゜６２　ｍモル／ｍｌ　）
　ヲ加え３０分間攪拌後、−７８’ＣＩ／Ｃ冷却する。

この溶液に参考例１５にて合成したベンゾイル体（Ｒ九
　Ｓ＊のまざり）１１１の１０　ｍｌ　ＴＨＦ溶液を加
え、同温にて１時間攪拌する。ついでフェニルベンゼン
チオスルホネート７６７　ａｌｌの１０ｍ１’ｒＨＦ溶
液を加え更に１時間攪拌する。酢酸エチルついで塩化ア
ンモニウム水溶液を加え、有機層を分離する。水洗後　
Ｍｇ５ｏ４にて乾燥。

溶媒留去後残渣をシリカゲルラビットクロマトグラフィ
ー（シクロヘキサン：酢酸エチル＝１０　：　１　）に
より１体及びＳ＊体を分離精製すると８体、５ＴＯ■が
得られた油状物質 ｎ（＝　０．４６　（塩化メチレン：酢酸エチル：＝２
０　：　１　）ＮＭＲ（ｏｎｏ１３）δ：　１．４５　
（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ　）　。

３．５４　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝６．２．５Ｈｚ　）　
、　　１７２　（３Ｈ。

ｓ　）　、　　４．０５　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１５Ｈｚ
　）　、　　４．６６　（ＩＨｄ、　、ｒ＝１５Ｈｚ　
）　、　　４．３７　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝２Ｈｚ　）　
。

５ｊ８　（Ｈ（、Ｑ、　Ｊ＝６）ｔＺ　）　、　　６．
６〜７．８　（１２Ｈ。

ｍ　）　、　　７．７５〜８．０５　（２Ｈ，ｍ　）Ｓ
＊体：１８ＯＮが得られた。ｍｐ８５で　（ジエチルエ
ーテルから再結晶） ＮＭＲ（ａＤａｌ、　）δ：　１．５４　（ＩＨ，ｄ、
　Ｊ＝６Ｈｚ　）　。

３．５〜３−８　（ＩＨｌｍ）　−：ｉ−７４（３Ｈ１
ｓ　）　ｖ４、Ｏ−（ＩＨｌｄ、Ｊ＝＝１５Ｈｚ　）　
、　　４−７２　（ＩＨ，ａ。

Ｊ：１５Ｈ２）　、　　４．１２　（、ＩＨ，ｄ、　Ｊ
＝２．５Ｈｚ　）　。

５．５０　（ＩＨ，ｑｄ、　Ｊ＝６．３Ｈｚ　）　、　
　６．５〜７．７（１２Ｈ，ｍ）、　　７．７５〜８．
０５　（２Ｈ，ｍ）ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）　ａｍ−１：　
１７５５．１７３２参考例１７゜ ヘキサメチルジシラザン０．４ｍｌを無水テトラヒトミ
フラン１ｒＪｘｌに溶解し、水冷下１．１８ｇ／のｎ−
ブチルリチウムヘキサン液（１，６２ｍ−Ｅニル／ｍｌ
　）を加える。３０分間室温にて攪拌後−７８を忙冷却
し、参考例１２で得られたＳ＊ベンゾイルオキシ体ｓｓ
ｏ　１＋５１の無水テトラヒドロフラン溶液を加え、−
ＴＰｉ”Ｃで１時間攪拌する。ついでフェニルベンゼン
チオスルホネート４３０■の５ｄテトラヒトａフラン溶
液を加え、−７８℃にて２．５時間攪拌。　酢酸エチル
ついで飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、有機層を分
離する。水洗後Ｍｇ８０４にて乾燥。溶媒留去後、生成
物をシリカゲルクロマドグラフイー（シクロヘキサンニ
ー″ｉ：！１１！エチル＝：　５　：　１　、　Ｒｆ＝
０．３　）　　により精製すると目的のＳ＊体６３０■
が得られた。

Ｊ＝０．４（塩化メチレン） ＮＭＲ（ｏＤａＪ３）　　δ：　　１．５９　（３Ｈ，
ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ　）　。

３．７０　　（３Ｈ，ｓ　　）　、　　〜３．７　　（
ＩＨ）　、　　４．６２（ＩＨ，ｄ、　　Ｊ＝２．５Ｈ
ｚ　）　、　　５．５５　（ＩＨ，ｄｑ。

Ｊ＝５．　３．５Ｈ２）ｓ　　６．７〜ｙ、ｓ　　（１
２１（、ｍ　）　。

７．８〜８．０　　（２Ｈ，ｍ） 参考例１２で得られたいベンゾイルオキシ体をＳ　ベン
ゾイルオキシ体と同様に反応、処理すると目的の２体が
得られた。

Ｒ（＝　０．２８　（塩化メチレン） ＮＭＲ（ｏＤｏｊ３）δ：　１．５６　（３Ｈ，ｄ、　
Ｊ＝６Ｈｚ　）　。

３．６４　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝８．２．５Ｈｚ　）　
、　　３．７２　（３Ｈ。

８　）、　４．８１　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１５Ｈｚ　）
、　５．５１　（ＩＨ。

ｑ、　Ｊ：６Ｈ１）、　６．Ｔ　〜７．６　（１２Ｈ，
ｍ　）、　７．８〜ａ、Ｏ（２Ｈ，ｍ　） ＩＲ（Ｌｉｑ、）　ｃｍ−’　：　１１５０．１７１２
．１６００．１５８０参考例１８゜ 参考例１４で得られた化合物（Ｒ，＊とＳ＊　のまざり
）４４０ｗｇを無水テトラヒドロフランに溶解シトリフ
ェニルホスフィン８５１０　ｑ及ヒｒ酸ｏ、２ｑを加え
る。水冷下３５４ηのアゾジカルボン酸ジエチルを加え
、１０時間室温にて攪拌。酢酸エチルを加え、有機層を
水洗。Ｍｇ８０４にて乾燥後、溶媒留去。残渣をシリカ
ゲル２ピツドクロマトグラフイー（シクロヘキサン：酢
酸エチル＝１＝１）により精製すると目的化合物１６８
■が得られた。

町：（１，３３（塩化多チレン：酢酸エチル＝　４０　
：　１　）ＮＭＲ（ＯｐＯｊ３）δ：　１．３５　（３
Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ　）。

２．４８　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ：２Ｈ２）、　３．３３　
（ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ：５６．２Ｈｚ　）、　３．７４　（３Ｈ，ｓ　）、
　３．９０　（ＩＨ。

ｔ、　Ｊ＝２Ｈｚ　）、　３．９５　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ
＝１５Ｈ１）。

４．６２　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝＝１５Ｈｚ　）、　５．
２１　（ＩＨ，ｑ。

Ｊ＝６Ｈｚ　）、　６．６〜７．３　（４Ｈ，Ａ２Ｂ２
ｆｉｎ　）。

７．１１９　　（ＩＨ，Ｓ　　） 参考例１９゜ 参考例１４で得られた化合物（Ｒ＊とＳ＊の　まざり）
２００ｑを用いて参考例Ｔと同様に反応、処理しシリカ
ゲルラビッドクロマトグラフィー（シクロヘキサン：酢
酸エチル＝１：１）ＫよりＮ製すると目的化合物２００
　＃ｊＴが得られた。

ＴＬ（＝　０．５６　（シクロヘキサン：酢酸エチル＝
１：１）ＮＭＲ（ＯＤＯｊ３）δ：　１．３２　（３Ｈ
，ｄ、　Ｊ＝６Ｈ１）。

１．９５　（３Ｈ，Ｓ　）、　２．４５　（１Ｈ，ｄ、
　Ｊ：Ｚ５Ｈ２）。

３．３２　（１Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝ｌｉ、　２．５Ｈｚ　
）、　３．７５　（３Ｈｊｓ　）、　３．９２　（ＩＨ
，ｄ、　Ｊ＝１５Ｈｚ　）、　４．７０　（ＩＨ。

ｄ、　Ｊ＝１５Ｈｚ　）、　３．９２　（ＩＨ，ｔ、　
Ｊ＝２．５Ｈ２）。

５．２０　　（ＩＨ，ｑ、Ｊ＝６Ｈｚ　　）、６．７〜
７．３　　（４Ｈ。

Ａ２Ｂ２型） 参考例２０゜ ジエトキシブａビルアルデヒド２ｇをベンゼン３０ｙＫ
溶解し１６８ｇのｐ−アニシジン及び５ｇの無水硫酸マ
グネシウムを加える。室温にて２０分攪拌。ろ過後二減
圧下溶媒留去する。

残渣を塩化メチレン２０ｍ１に溶解し、これにイミダゾ
ール１．１２ｆを加える。全系を一３０°　とし１．２
５ｚｌのジケテンを加え、２時間かかり反応温度を一３
０°から１０℃とする。

塩化メチレンを加え、水洗後Ｍｇ８０４　Ｋて乾燥。

粗生成物をシリカゲルのラビットクロマトグラフィー（
シクロ−キサン：酢酸エチル＝３　：　１）により精製
すると目的化合物９３０■が得られた。

ＦＬ（〜０．４５　（シクロヘキサン：酢酸エチル＝１
：１）ＮＭＲ（ｏｐｏＪ５）δ：　１．１５　（３）（
、ｔ、　Ｊ＝６．５Ｈｚ　）。

１．２１　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝＝６．５）（Ｚ　）、　
１．５〜２．２　（ＩＨ。

ｍ　）、　２．３５　（０ＯＯＨ３，Ｓ　）、　３．４
〜３．９　（５Ｈ。

ｍ　）、　４．２１　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝ｌＳ）（ｚ　
）、　４．４〜４．８５（２Ｈ，ｍ　）、　６．８〜？
。５　（ＡＨ，Ａ２Ｂ２型）参考例２１゜ ジノン Ｈ 参考例２０で得られた化合物６００１１１１７をテトラ
ヒドロフラン：メタノール＝１０：１の混合浴媒１５ｓ
＋ｌＫ溶解し、−２０℃にて１５０■のＮ　ａＢＨ４を
加え、同温にて５分間攪拌する。酢酸エチルついで希塩
酸を加え、有機層を分離する。Ｍｇ８０４にて乾燥後減
圧下溶媒留去。残渣をりａマドグラフィー（酢酸エチル
：シクロヘキサン＝２：１）により精製すると目的化合
物ａ６３ｑが得られた。

ＮＭＲ（ｏｎｏｊ！５）δｐｐｍ　：　１．０２〜１．
ｏ４　（９Ｈ，ｍ　）。

１．５５〜２．６０　（２Ｈ，ｍ　）、　３．１３　（
ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ＝２．．５．６Ｈｚ　）、　３．２７−３ＪＴ　（５
Ｈ，ｍ　）。

３．８２〜４．３２　（２Ｈ，ｍ　）、　４．８０　（
ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝５．５Ｈｚ　）、３．７２　（３Ｈ，
Ｓ　）ｅ　６，７〜７．３　（４Ｈ１人２Ｂ２　型） 参考例２２゜ 参考例２１で得られた化合物２３０■を　１　ｘｒｌの
無水塩化メチレンに溶解し、ピリジン０．２　ｍｌつい
で安息香酸りｏ　ＩＪド１５０ηを加え２０時間室温に
て攪拌。反応液を常法に従って処理し得られる残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィー（シクロヘキサン：酢酸エ
チル＝２：１）ＩＣより精製すると目的物２６０ηが得
られた。

ＮＭＲ（ｏｎａｊ３）δ：　１．８０　（２，２５Ｈ，
ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ　）。

１．５５　（０，７５Ｈ，ｄ、　Ｊ＝＝８Ｈ２）、　３
．７０　（３Ｈ，Ｓ　）。

５．２５〜５．７５　（ＩＨ，ｍ　）、　６．７〜７．
７　（７Ｈ，ｍ　）。

４．６９　（ＩＨ，ｔ、　Ｊ＝５．５Ｈｚ　）、　７．
８５〜８．２５　（２Ｈ。

ｍ） 参考例２３゜ 参考例２２で得られた化合物２６０　Ｑをテトラヒドロ
フラン８１１１と水２ノの混合溶媒に溶かし、水冷下１
　ｇ／の濃塩酸を加える。２時間攪拌後、酢酸エチルを
加え、水洗。乾燥溶媒を留去して得られる残渣をシリカ
ゲル薄層クロマトグラフィー（シクロヘキサン：酢酸エ
チル＝１：ｔ）により精製すると目的化合物１４１３ｇ
９が得られた。

几ｆ＝０．３（酢酸エチル：シクＯヘキサｙ＝１：１）
ＮＭＲ（ｏＤｏｔ５）δ：　１５６　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ
＝６Ｈｚ　）。

１５４　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ　）、　２．５〜３
．５　（３Ｈ。

ｍ　）、　３．７２　（３Ｈ，ｓ　）、　４．１０〜４
．５５　（２Ｈ。

ｒｒｘ　）　ｅ　５−４〜５Ｊ　（ＩＨｌｍ）　＊　＆
７〜７−５　（７Ｈｔｍ）、７．γ〜８．０　（２Ｈ，
ｍ　）、　９．７４　（ＩＨ，ｂｒ。

Ｓ） 参考例２４゜ ノン 参考例２３で得られた化合物１４０■を、アセトン２　
ｍｌ　Ｋ　俗解し、ジョーンズ試薬（１００ＷＩｇ）Ｉ
ｃより室温で３分間酸化する。反応液を酢酸エチルで抽
出し、水洗、Ｍｇ８０４で乾燥する。溶媒を留去して得
られる残渣をシクロヘキサン：酢酸エチル＝１＝１の系
にて分取用シリカゲルＴＬＯに付しＲｆ＝０．１近辺よ
り目的化合物９１■が得られた。

ＮＭＲ（ｏｎｏｚ３）δ：　１．５１　（ＩＨ，ｄ、　
Ｊ＝６Ｈｚ　）。

１．５４　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ　）、　２．３〜
３．５　（３Ｈ。

ｍ　）、　１７Ｇ　（３Ｈ，ｓ　）、　４．０〜４．４
　（２Ｈ，ｍ　）。

５．３〜５．７　（ＩＨ，ｍ　）、　６．７〜７．５　
（７Ｈ，ｍ　）。

７．７〜８．０　（２Ｈ，ｍ　）、　８．９６　（ＩＨ
，ｂｒ、　Ｓ　）参考例２５゜ フェニル）−３α−（１−ペンソイルオキシエ参考例２
４で得られた化合物９０ＩＩｇをジメチルホルムアミド
ニア七トニトリル＝１：１の混合溶媒に溶解し、カルボ
ニルジイミダゾライド６０■を加え室温で３０分間攪拌
する。反応液に６０■のチオフェノールを加え２時間攪
拌する。

反応液に酢酸エチルを加え、希水酸化ナトリウム水、水
の順で洗う。乾燥後溶媒を留去して得られる残渣をシリ
カゲル薄層クロマトグラフィー（シクロヘキサン：酢酸
エチル＝２：ＩＲｆ中０．３）により精製すると目的物
ＴＯηが得られた。

参考例２６゜ ノン 実施例３により得たＢ配位のノ１イドロキシエチル体９
０■をＤＭＦ　３　ｇ／に浴解し、　ｔ−ブチルジメチ
ルシリルクロリド１６０ｓｙ及びイミダゾール３６ηを
加え１０時間放置。酢酸エチルを加え。

水洗。Ｍｇ５ｏ４にて乾燥後、溶媒留去。　シクロヘキ
サン：酢酸ｘｆｔｖ＝２　：　Ｉ　ＫてＲｆ＝０．６５
の部分をクロマトグラフィーにより分離する。目的化合
物１００ηが得られた。

ｔａｇ’；ｏ−１１２°（ｃ＝ｘ、　０ＨｏＪ３　）Ｎ
ＭＲ（ＯＤＯｊ５）　Ｊ　：　Ｑ、Ｑ６　（６Ｈ，Ｓ　
）、　０．７８　（９Ｈ。

Ｓ　）、　１．２６　（３）１．　ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ　
）、　２．４７　（ＩＨ。

ｄ、Ｊ＝＝２．５Ｈｚ　）１３−２９　（ＩＨ９ｄｄ、
Ｊ＝３−２−５Ｈｚ　）。

３．７５　（３Ｈ，Ｓ　）、　４．２７　（ＩＨ，ｄｑ
、　Ｊ＝５．３Ｈｚ）。

４．５２　　（ＩＨ，ｔ、Ｊ：２．５Ｈ２）、６．７５
〜７．５５　（４Ｈ。

人２Ｂ２　型） 参考例２７゜ −３−（（ＩＢ）−ｔ−ブチルジメチルシリル２−アゼ
チジノン 参考例２６により得たシリル体ｓｏＭｇを無水テトラヒ
ドロフラン２耐に溶解し、−７８℃にてブチルリチウム
液０．２５　ｄ　（１ｍｌ中１．６ミリモルブチルリチ
ウム手を含むヘキサン液）を−７８℃に−て加え３０分
攪拌。ジフェニルジスルイドＴ５ｑの１　ｍｌテトラヒ
ドロフラン液を加え、−７８°〜４０°に２時間半攪拌
。酢酸エチルを加え、有機層を水洗３回。ＭｇＳＯ４に
て乾燥後シクａヘキサン：酢酸エチル５：１の系にてシ
リカゲル薄層りａマドグラフィーに付し几ｆ＝０．５５
の目的化合物３８ηが得られた。

ＮＭ几　（ＯＤＯ１３）　δ　：　　０．０８　　（６
Ｈ，Ｓ　　）、　　０．７６　　（９Ｈ。

ｓ　）、　１．３０　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ　）、
　３．３７　（１Ｈ。

ｔ、　Ｊ＝３Ｈｚ　）、　３．７４　（３Ｈ，Ｓ　）、
　４．３　（ＩＨ。

ｄｑ、　Ｊ＝６．３Ｈｚ　）、　４．７７　（ＩＨ，ｄ
、　Ｊ＝２Ｈｚ　）。

６．７〜７．５　（９Ｈ，ｍ　） 〔α２４０　．６°（ｃ＝１．　ａＨｏｔ、　）参考例
２８゜ 参考例２７で得たチオフェニル化体６０Ｗｇを２■ｔの
アセトニトリルに溶解し、水冷下２４０１ｍ９のセリツ
クアンモニウムナイトライドの２ｄ水溶液をゆっくり加
える。１０分間攪拌。酢酸エチルを加え、水洗。常法通
り後処理し、シクロへキサン：酢酸エチル＝２：１の系
で　Ｒｆ＝０．５４の部分を単離精製する。目的化合物
３０ηが得られた。

ｍｐ７６゜ ２４゜ 〔α〕＋４６°　（ｃ＝１．０ＨＯＪｘ　）ＮＭＲ（ｃ
Ｄａ１５　）δ：　０．０Ｂ　（６１（、Ｓ　）、　０
．８９　（９Ｈ。

ｓ　）、　　１．２６　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ　）
、　　３．４０　（ＩＨ。

ｂｒ、ｔ、　Ｊ＝３Ｈｚ　）、　４．３１　　（ＩＨ，
ｄｑ、　Ｊ＝６．４Ｈｚ　Ｌ４．５９　（ＩＨ，ｄ、　
Ｊ＝２．５Ｈｚ　）＊　　６．２　（ＩＨ，ｓ　）。

７．３２　（５Ｈ，ｍ　）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（１） 〔式中、Ｒ＾１は置換基を有してもよいアシル基、を示
   し、Ｒ＾２は置換基を有してもよいアルキル基、アルケ
   ニル基、アルキニル基、アリール基、アルキルチオ基、
   アルキルスルホニル基、アリールチオ基、もしくはアリ
   ールスルホニル基、またはアシルオキシ基を、Ｒ＾３は
   水素原子または窒素原子の保護基を示す。〕を有する化
   合物（ｄｌ体）を微生物又は酵素を利用して選択的に加
   水分解し一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（２） 〔式中、Ｒ＾２およびＲ＾３は前述したものと同意義を
   示す。〕を有する光学活性な化合物へ導くことを特徴と
   するβ−ラクタム化合物の製法。