JPS5950421A - 非接触型レ−ザ彫刻の装置及び方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はレーザ装置、特ｔこ木、プラスチック、紙等の
イ〕機利料にレーザ彫刻による画像を現出せしめる非接
触型レーザ彫刻の装置及び方法に関する。

木、紙あるいは類似の利用から成る工作物に彫刻を施ず
ためにレーザ装（１コｉを利用することはよく知られて
いる。かかるレーザ装置は、通常レーザビームを３０　
０　０　０ワツｌ−　／　Ｇ　ｍ　　の出力密度にまで
焦点合せする手段を備えた炭酸ガスレーザ等であり、こ
の焦点合ぜされたビームは１作物の土を走査され、その
」二には一般に打抜かれたテンプレ−１・が配置される
。このテンプレートには」’ｌ抜かれた孔の形状として
画像が描かれる。レーザビームはテンプレ−１−の全領
域にわたって走査され、打抜孔の中を通ったレーザビー
ムは工作物に面突してその表面を蒸発せしめ、工作物上
にテンブレーｌ・の画像を再現イヒする。テンプレート
は銅又は真ちゅうのような好適な材料で作られる。かか
る金属のテンプレートにはある種の制限があり、１つの
制限として形成できる１リ１１像の詳細度に限界がある
。一般のテンプレートを作る場合の基本的手段である型
抜き方法では、完成した画像として細線が要求される場
合にテンプレートに金属の細いストラン１・゛を安定し
て取付けなければならないという困難さか限界の要因と
なる。加えて、テンプレート中に細線が存在する場合に
は、テンプレートの取扱中及び使用中に細線がねしれた
りゆかんたり曲げられたりすることが起る。さらに他の
制限として、テンフルートには通常金属が用（１られる
ので、レーザビームかテンプレ−１−　｝ｕを走査する
時には、−１作物の露出した部分が赤光していくにつれ
て１１１１！とノ寸に熱が発生ずるようになる。煙が発
生ずると’ＩＱ　＆ｆｉされたＩＩＩ’！が金属の表面
を暗黒にしテンブレー１−に吸収性をり−える。この結
果、レーザビームか衝突した部分は急速に加熱及び冷却
され、金属のかかる熱負荷が糸、！１局テンフレートを
ゆがめることになり、使用ノｆ命を制限することになる
。

レーザ彫刻として時おり用いられる他の方法は変調方式
を採用し、電子的に変調されたレーザビームで工作物を
走査し、ビームを点滅させることによつＣ−・点−へ点
を所要の画像に解像さぜるようになっている。この方式
は非常に高価て複雑な閲読装置を必要とするという経済
的な欠陥がある。

加えて、炭酸カスレーザと共に用いられる現在の変調方
式ては、刺紙工業のように急速に走行する物体を大Ｈ＜
生産するのに適した十分に高い変調周波数を実現するこ
とができない。

非接触型レーザ彫刻装置は、これまでのところ木て作ら
れた物体を彫刻するのに用いられてきた。

かかる装置の一例が米国特許第４１５６１２４号に「画
像移送レーザ彫刻」という名称で開示されている。この
特許の装置では、テンプレートと工作物が同期して動か
され、その間レーザビームと光学手段とはイ目互にＡ゛
目対的に静止したままである。

本発明の目的は、新規て改良されたレーザ装置を提供す
ることにある。

本発明の他の目的は、木や紙のような製品をレーザ彫刻
するための新規で改良された装置及び方法を提供するこ
とにある。

本発明のさらに他の目的は、打抜型を用いずに経済的で
解像力に優れたレーザ彫刻を達成するだめの新規で改良
されたレーザ装置及び方法を提供することにある。

本発明のさらに他の目的は、円筒形鏡のその上又はその
付近に散漫的に反射する図案画像か設けられている円筒
形鏡を用いたレーザ彫刻装置を提供することにある。

本発明の前述した目的及び他の目的は、レーザビームを
放出し、レーザビームをある線に沿って走査するために
捕捉する走査機構の形状をした走査手段をｔｌ“１１え
たレーザ装置によって達成される。

走ｆ、１：されたビームは円筒形反剖面を有する鏡へと
指向され、この円１：：１形反射而にはその表面又はそ
の口近に散漫的に反射する図案画像が設けられ、反則さ
れたビームはそれから工作物の表面に焦点合ぜされた点
を供給するだめの他の光学装置を通過する。画像に対し
て工作物を走査線に直角な方向に動かして画像を工作物
−にに４１３現化するために並進運動機構が設けられる
。本発明の効果を達成するために３つの実施例の装置が
後述される。

本発明の他の目的、特徴及び利点は、添イτｊ図面の実
施例を参照した以下の記載によって明らかとなろう。添
伺図において同種の符−号は同種の要素を表わしている
。

第１図、第２図は円筒形鏡を用いた第１の実施例、第３
図はその変形例である第２実施例、第４図は最初の光学
要素の位置に鏡を用いた第３の実施例である。

第１図、第２図の装置において、レーザ源］０はレーザ
ビーム１２’Ｌ、を出し、レーザビーム１２は集束レン
ズ１４て捕捉され、走査機構１８によって駆動される走
査鏡（ミラー）］６へと指向される。鏡Ｊ６は図面の平
面に７１し概ね垂直／よ線に沿い前後方向へと走査（ス
ギャン）を行なう。集束された走査ビームはそれから円
筒形鏡２０に衝突する。Ｐ−］　ｉ＞’ｙｉ形鏡２０の
上面又はその口近にはやや減少した鏡面の度合を有する
図案画像が後に詳述する方法で形成されている。

鏡２０の鏡面及び図案は共に第１１スでばＩ・向きにな
っている。実際、円筒形鏡２０の軸線はレーザビームの
走査方向と直交している。並進運動機構２２か鏡２０に
連結され、鏡２０は鏡の軸線に概ね平行な方向、すなわ
ち走査線と直交する方向に動かずことかできる。レンズ
１４と鏡２０の位置は、レーザ光か工作物をきれいに蒸
発させるに十分な高い出力密度にまで集中できるように
設定されている。これは一般にレーザビームか鏡２０の
表面で焦点合ぜされることを必要とする。走査されたレ
ーザビームは鏡２０から集束レンズ２４を通って工作物
２（５の表面−１−の地点へと指向される。−」作物２
６は通光な並進運動機構により鏡２０の運動−ｂ 運動は鏡２０の運動と関連して、例えば所定の比・ネく
になるように制御される。鏡２０の曲率半径と角度力面
は、走査鏡１６から反射された光がほとんとあるいは全
く及位することなくレンズ２４の＋＋Ｘ　、！ν１１心
を通過するように選ばれる。第１図の装置てば、１作′
向２６ば１幾構２８により円ＩＳ）形鏡２０の運動力向
と反対方向に動かされ、鏡２ｏ１−の光学的画像を追閾
・するような速度で動かされる。

次に第２図を参照しながら円筒形鏡と図案画像について
詳述する。第２図においては第１図で１へ向きとなって
いる鏡面部分を示すためにいくらか図を回転させている
。第２図のこの鏡面には工作物２　Ｇ−、ｌ：に出現化
すべき所定の画像３ｏが含まれている。鏡は金属製でそ
の凹み部分は高い反射率の鏡面であることが望ましい。

一方、図案画像３０は、散漫的に反射するかあるいは吸
収性のある画像バクーンを供給するように公知の各種の
技巧を用いて作られる。最も単純な方法として、画像３
０は、鏡２０の鏡面に塗料をイ；１与することにより周
囲の鏡面の度合よりも低品位の鏡面を有する画像領域を
作ることによって形成てぎる。

例えば黒の塗料を用いて画像３０の図案を作った場合に
は、図案に衝突する走査ビームからの光は黒の塗料によ
り吸収されて熱に変る。この％ｙは鏡の構ｊ告によって
消散されなければならない。鏡２０のｅｌか（ｔ　着し
ていない他のセクションに衝突する走査ビームは、鏡面
反射されてレンズ２４の中・Ｕへと通過する。レンズ２
４はこの光学的システムにおいて走査による変位か除去
された位［１つ゛にある。黒のｌｌｌ０代りに白の塗料
が用いられた時は異なる原理が働くことになる。選定さ
れた白の塗料は用いられるレーザの波長で１１女漫的に
反坏１する。この場合は、白の塗料で描かれたｊ＋ｊす
像３０に衝突する際に走査ビームは吸収されずその代り
に散漫的に反射され、一方鏡２０の塗料なし部分に衝突
する光は鏡面反°射されるようになる。

レンズ２４を通過する光だけが工作物上に集中されて画
像化されるのて、レンズ２４はこの光学システムにおけ
る限定孔となる。この設計配置の主眼点は、彫刻に必要
な光はレンズ２４を通過ぜしめるが他の光は排除するこ
とにある。この凹面鏡で鏡面反射された全ての光はレン
ズ２／Ｉを通過し、−・方ハク漫的に反則された光はま
ぎ散らされほんのわずかの量しかレンズ２４を通過しな
い。これにより所望のコントラスト 上の画像領域３０　−Ｑ　ｉＢ４漫的に反射された光は
、工作物２６上にほとんとあるいは全く蒸発を起させな
い。

しかじな、がら、図案画像３０を作るための媒体とし一
Ｃの塗料には一定の限界がある。通常これまで述べてき
た型式の彫刻−装置では１００ワット以−にの出力を有
する炭酸ガスレーザが用いられる結果、＃：Ｊ６１それ
自身が鏡２ｏ上に焦点合せびれるレーザビームによって
蒸発さぜられることである。

かかる条件下においては画像３ｏの媒体として塗料を用
いることは最適ではない。好適には、鏡２０は鏡面を呈
するようにｉｆｆ　１ｍされたアルミニウム等の金属で
作り、炭酸ガスレーザの１０．６　　ミクロン波長を吸
収する層として鏡面１−に陽極酸化層を設けることが望
ましい。陽極酸化による画像３０は化学的及び写真用技
ｆＩＩＦｉを用いる陽極酸化７０七スにより容易に形成
することかでき、拐抜かれたテンプレートでは容易に得
られない微細部分や解像度を得ることができる。

他の方法として、画像３ｏは鏡２ｏの鏡面を選択的に粗
面とすることにより形成できる。例えば、１ン１案の形
状を残したマスクをかぶぜた上がら鏡２（１’ｌ鏡而十
にサンドブラストをかければ、マスクからの画像３０か
金属上に所望の粗面を生しさぜることになる。加えて、
従来技ｆｌＩｆである化学的エツチング法を用いて金属
の表面に散漫的反則面を作ることも可能である。図案画
像３゛０は円ｔ；）形鏡２０の凹面に直接付与すること
が望ましいか、実際には、レーザビームが画像の周囲の
領域を通過しなければならなし・という光学的要件を考
慮しながら、他の材料を鏡に接近させて保持又は固定し
てもよい。鏡２０の表面上又はそのイ：ｊ近に画像を形
成するにはさらに多くの方法がある。

第１ｊソ１のにうに鏡２０十又はその（１近にｐｌ＋ｉ
　ｆ象；３（）を形成するためには、部品の間に−・定
の関係か成立する。まずパラメータを次のように定義す
る。

１３−走査鏡１６と円１０形鏡２０との間の光学的経路
長 Ｃ−鏡２（）とレンズ２４との間の光学的経路長１）−
レンズ２４と工作物２６との間の光学的経路長 Ｚ−レンズ２４の焦点距１４１１ ［（・二円ル１）形’、５；ｌ　２Ｑの曲率半径Ｖ−ｊ
ｊ’、’、’・、２０の並進運動速度Ｗ−−、１作′ｉ
す２６の並進使動速曳（］＝鏡２０の位置てのレーザビ
ームの面積Ｊ’　＝レーザ出力 Ｍ　＝工作物２Ｇをぎれいに蒸発又は〃ｆ通に加工する
のに必要な臨界レーザ出力密没 ここてレーザビーム１２が平行であると仮定すると、次
のＪ：うな数学的関係が近似的に成立する。

〜７　Ｘ　Ｊ）ニーＷｘに の光学的配置の望ましい例としては次のような関係かあ
げられる。

Ｉ３二ｃ　＝　、１）−Ｒ２２Ｚ ■ニーＷ Ｙ−レンズ１４と反射鏡２０との間の光学的経路長 本発明によるこの設計の複層１慴を図解するために、各
要素の物理的寸法を数値例で表わせば次のようになる。

まず仮定として、 Ｊ３　＝　Ｃ＝　Ｉ）　＝几二　２２　＝　５０　ｃ　
ｍレーザビーム１２の直径＝　２ｃ　ｍ レンズ２４の直径”　５　ｃ　ｍ レーザ出力＝１０．６　　ミクロン波長で　１０００ワ
ツト 臨界レーザ出力密度＝３００００ワット／　Ｏｍ２鏡２
０の位置に焦点今ぜされたレーザビームの面積”’　（
１，ｉ、　８　ｃｍ　　　　とする。

もしも図案画像３０が幅１０　（ｊ　Ｉｌｌであれば、
画像３０の幅］　□　ＣＩｌｌを完全にカバーするため
にはこの鏡で反則された光がプラス又はマイナス方向に
５．７°の角度で走査される必要があり、鏡２゜はプラ
ス又はマイナス方向に２．８５°の角度で走査しなけれ
ばならない。この数値例では走査鏡Ｊ６は円（：１１形
ｔＱ　２　（ｌの軸線」二に位置しているので、円筒形
鏡２０で鏡面反射された光は、１１Ｊ　ｆ’、’：１形
／Ｑ：、：２０の軸線−１の１点に戻った１時にはその
走査移動運動が失われている。第」図示のようにこれは
レンズ２４の中心点で起ることになる。この点において
レーザビームは、直ｔＶ　５　Ｇ川のレンズ２４のイ＼
ｌ　ｉｉ′ｉｌてＪすび＋Ｂｊ、’　ｉ’Ｆ、　２　Ｇ
川の原直径にまで拡大する。

しかしながら、画像３０を形成する図案の端縁は幾何学
的円すいの外側に出る角度で光を回折し、この回折され
た光の大部分は工作物２６内に彫刻ずへき画像に刀し良
好な解像度を与えるように捕捉されねばならないことに
注意されたい。この例で得られる解像度は、レーザリス
ボントザイズよりも１．５００倍以上も小さな面積のス
ポットサイズてあり、この光学システムに発生する情報
は平行に伝達されるように図示されていることを強調し
なければならない。

前述の数値例において、レンズ２４は１１′値１０で光
の円すいを捕捉する。図案画像３０が散漫的に反射すれ
ば、この図案を形成する光のいくらかは１、ンズ２４に
よって捕捉される。しかしなから、ｌｊ漫的反射の場合
にはＦＩＯレンズは鏡面反則によってレンズ２４を通過
して送られる場合の光のうち約１．／３００　　だけを
捕捉するにすぎない。従ｐて、図案画像３０が散漫的反
則を行なっても、ニし作物２Ｇ＋へと通過する光の中に
きわめて大ぎな差異を現出できることは明らかである。

第１図の数値例にさらに関連して、工１′＋：物２６が
くるみイ」て所望の切断深さがｌ　、　５　　Ｉｌ目１
１であれば、鏡２０と工作物２６が反対方向に動く並進
連動の速度は２　ｍ　ｒｎ　／秒になる。もしも工作物
２６か厚さ約０．０１ｃ　ｍの紙であれば、紙を貝通切
ｔｌ′Ｊｉするための運動速度は２．５ＣＩ１１／秒に
なる。

−１ノホの例において、レーザビーム力叶月ン０形鏡２
０の表面て直径１．５　　ｍ田のスポットサイズにまで
焦点合ぜされると、くるみ刊の工作物２６のための所望
最小走査時間は３サイクル／秒になり、紙の」７作物の
場合は約４０サイクル／秒になる。実際−１，はより早
い走査率の方が望ましい。これらの走査率の値は、走査
を行なう場合レーザビームの直径の少なくとも半分がオ
ーバーラツプするようなルア１か望ましいという要件に
よって定められる。

この例では走ｆｉ：揮動は両刃向に直線的であると仮定
した。これまでは円筒形の鏡を参［４１Ｌで説明してき
／こが、ｆ−１’面を胛ｊ（＜カツトシた鏡であっても
その鏡の大川部分が円１：；）形と見なぜる限りにおい
て利用することができる。もつともこの例では、所四の
数学的関係をン＋ｋｕ足するような鏡の有効面積を考慮
すると共に、球面鏡の直径をも考慮に入れなげればなら
ない。

第３図、第４図は本発明の範囲内におけるレーザ装置の
他の実施例を表わしている。第３図のレーザ装置ては鏡
２０と工作物２６とが組立体として数例けられており、
１つの並進運動（幾（イ４により両方の部品が同一方向
に同時移動し、これにより装置か単純化されている。こ
の図では第１図と７・１応する部品には同一のｒｌ−号
か１１されている。レーザ源１０は集束レンズ］４に向
けてレーザビーム１２を放出し、レンズ１４はビームを
走査機構１８によって駆動される走査鏡］６へと指向さ
せ、走査鏡１Ｇはレーザビームを円筒形鏡２０の位１；
′ｔて直線的に走査する。鏡２０と工作物２６は、工作
物２６上に鏡２０上の画像３０を再現化するためにＡ目
方に好適な配列となるようにチーフル２５に好適に数例
げられている。ビームは鏡２０の表面で一部が鏡面反射
され、一部は散漫的に反則され、折りたたみ鏡３２によ
って反射された後レンズ３４を通り、他方の折りたたみ
鏡３６て反射されて工作物２６に向う。折りたたみ鏡３
２．３６は少なくともその反射面ば平坦な形状をしてい
る平面鏡である。鏡３２．３６はレーザビームな再指向
させることに加えて投射された画像を反転する役割を果
し、−土イ′ｊ物２（５と円１：：）形ｆ１．１２ｏと
を同一’ｌ’而内面内置することを””Ｉ　（指にする
と同時に、両者が１１″ｌ（、ＩげられているフレーＩ
・又はテーブル２５に連結された並進運動機構３８によ
って両者が同一方向に動かされることを目Ｊ能にしてい
る。

機能的に見れば、図面の平面に垂直な平面内で走査が行
なわれているから、鏡３２．３６は、走査運動の端部で
もビームを捕捉するように、この方向に十分な幅がなけ
ればならない。第１図と第３図とをＩｔ　ｌＩＦ＆する
と、両者が類似していることに気（：Ｉ　＜であろう。

例えば、レンズ１４、走査機構］８、走査鏡」６、円筒
形鏡２ｏは両図において同じである。レンズ３４は、１
つの並進運動機構２２が除去され２つの折りたたみ鏡３
２．３６が追加された点を除けばレンズ２４に刀応しＣ
いる。

しかしながら、機構２２を除去しかつ折りたたみ鏡３２
、；３６によって幾何学的画像の反転を行なわせ、鏡２
０と工作物２６の両方を同時に並進運動させることによ
る画像追従の方式は、レーザ彫刻における主要な問題で
ある追従性の点を解決したのである。並進運動は図面の
平面ｔこ垂直な方向に沿う走査線に直交する方向、すな
わち第３図ｔこおいて右から左又は左から右へと行なわ
れる。

第１図と第３図との１つのＡ１異点は、第３図では共通
の並進運動機構のため部品２０と２６とては画像のサイ
ズが１対１に対応しなければならないことである。この
ことは部品２０から３４までの光学的経路長が部品３４
から２６まての光学的経路長に等しいことを必要とする
。またこれらの光学的経路長全体はレンズ３４の焦点距
聞（の２倍に等しくなければならない。

レーザ彫刻装置においてレンズは、その出力保持能力に
限界があることや破損しやすい性質のために、しばしば
望ましくないものとされる。（ｉ（１って一般には反射
要素だけを用いることが望ましＵｈ。

かかる観点に基づく本発明の装置の例か第７１図に示さ
れており、この装置は第１図の装置の本質的特徴を備え
ている。第４図においても（ｔ４」告的及び機能的に同
一の要素には第１図と同し符−υか月されている。レー
ザ源］、０から放出されたビーム１２は鏡４０へと指向
される。鏡１０は、図面の平面に垂直な方向に線走査を
行なう走査機構４２によって駆動される凹形の球面走査
鏡である。鏡４０はまた木質的に第１図のレンズ１４と
走査鏡１６にとって代る焦点合ぜ用光学装置でもある。

鏡４０から出たビームは、平坦な折りたたみ鏡４４によ
り画像３０かその上に設けられている円筒形鏡２０の表
面へと＋１１指向され、鏡２ｏの表面−１−の点で焦点
合ぜされかつ図面の平面に垂直な方向に走査される。鏡
２０から出たビームは別の拓りたたみ鏡４６へと町指向
され、それから凹形の球面集束鏡５０へと向い、鏡５０
はビームをさらに第３の折りたたみ鏡４８へと指向させ
、鏡４８から出たビームは工作物２Ｇへと丙指向される
。

工作物２６は、第１図と同様に鏡２ｏの並進運動平面と
Ｉ′−行な平面内？並進連動させられるが、注１−１ず
べぎ相異点がある。すなわち、工作物２６と鏡２０は折
りたたみｇ／１６．４８により達成される幾何学的反転
に基づき同一方向に並進運動させられることである。工
作物２６は、第１図、第３図の装置と同様に円筒形鏡２
０上の図案画像が１１丁環化される平面内にある。

第４図の装置においては、円筒形鏡２０と鏡５０との間
の光学的経路長は工作物２６と鏡５０との間の光学的経
路長に竹しいことが望ましい。

さらにこれらの距離は共に鏡５０及び円筒形鏡２００両
方の曲率半径に等しくなければならない。

これらの拘束に基づき、さらに鏡５０上でのビームの入
射光と反射光との間の角度ができるだけ小さく保たれる
限り、鏡５０に起因する球面収差はきわめて小さくなる
。これは球面の中・しにあるもの自身の」二に点を投影
する際には、球面反射器か理壮的な光学面となるからで
ある。第４図の装置；ｊ、１における投影では、画像及
び対馳物体を共にてきるだけ鏡５０の球面の中心近くに
保つことを試みている。

第１図に関連して述べた数学的関係が第３図、第４図に
対しても同様に適用できることは当業者等には明らかて
あろう。これらの関係が前Ｊホしたような１対１の比率
から逸脱する時には、球面反、！４．Ｉ藷又は鏡５０を
適当な形状の楕円反射器に変形する必・汝が’ｌし、る
てあろう。

本発明に１；（い数種の実施例について図示し説明して
きたように、本発明によればエイヤ物がら聞［れた点に
配置した図案画像を何する非接触ムリレーザｌｒ’、ｌ
；　刻装置カＪ７＋ｌ供され、月抜かれたテンフレ−ト
ヲ利用−イーる場合の欠点のいくっがを除去することが
てきる。加えて、本発明によれば、高解像）身の化学的
及び写真用技術を用いて図案の細部にわたる画像形成が
可能となり、彫刻された工作物に優れた解像度の画像を
り４えることがてきる。

本発明を好適な実施例について図示し説明してきたが、
本発明の精神及び範囲がら男ＩＬれることなく各種の修
止を施ずことがてきることを理解されたい。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係るレーザ彫刻装置の第１実施例の側
面図、第２図は円筒鏡上の図案を表わす斜視図、第３図
は第２実施例の斜視図、第４図は第３実施例の側面図で
ある。 １０・・・レーザ源　　１２・・・レーザビーム１４．
２４．３４・・・レンズ １６・・・走査鏡　　　１８・・・走査機構２０・・・
円筒鏡　　　２６・・・工作物２２．２８．３８・・・
運動機構 特許出願人　　ジョン・アラン・マツケン代理人　　弁
理士　　二　宮　止　孝

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 】、　レーザビームを放出する手段と、前記レーザビー
   ムを走査する手段と、 鏡のような反射面を備えた屈曲した反射手段であって・
   走査されたレーザビームが該屈曲反射手段に衝突しかつ
   走査されたレーザビームの並進運動が除去された空間内
   の領域へと該レーザビームが反Ｍ、Ｉするような曲率、
   方向及び位置を而している屈曲反射手段と、 前記屈曲反射手段の反射面と少なくとも近似して。いる
   かやや減少した鏡面反射層を有する図案画像手段と、 工作物と、 前記図案画像手段と工作物との間に配置され該図案画像
   を工作物の表面に画像化させる第１の焦点合せ手段とを
   備え、ＯｉＪ記焦点焦点手段は走査されたレーザビーム
   の並進運動が除去された空間内の領域又はそのイτ１近
   に位置しており、前記の１１）＜焦点合ぜされたレーザ
   ビームは前記工作物に所要の物理的変化を起させるに十
   分な出力を有しているレーザ彫刻装置。 ２　前記レーザ放出手段と前記屈曲反射手段との間に配
   置されレーザビームを該屈曲反射手段の表面」二に集中
   させる第２の焦点合せ手段を有する特許請求の範囲第１
   項記載の装置。 ３　前記反射手段は概ね円筒形の鏡であり、前記図案画
   像手段は該鏡の凹形反射面上に形成さ−れている特許請
   求の範囲第１項記載の装置。 ４、前記走査手段は前記レーザビームを所定の線に沿っ
   て走査し、該レーザ彫刻装置はさらに前記反射手段と前
   記工作物の少なくとも一方を前記走査線に概ね垂直な方
   向へと相対的に並進運動させる手段を有している特許請
   求の範囲第２項記載の装置。 ５、前記反射手段は概ね円筒形の鏡である特許請求の範
   囲第４項記載の装置。 ６、前記円筒形鏡及び前記工作物は概ね平行な平面内に
   位置している特許請求の範囲第５　Ｑ−ｉ記載の装置。 ７、　　＋ｉｉＪ記円筒形鏡及び前記−１作物はテーブ
   ル手段上の共通平面内に位置し、走査されたレーザビー
   ムと４１１力的に同時移動させられる特許請求の範囲第
   ５項記載の装置。 ８　前記第１及び第２の焦点合せ手段の少なくとも一力
   は画像を反転させる光学手段を而しており、前記−１４
   作物及び１）ＩＩ記反射手段は同一方向に移動させられ
   る特許請求の範囲第６項記載の装置。 ｇ、　　＋ｉｉＪ記反則手段は円筒形鏡てあり、前記第
   １及び第２の焦点合ぜ手段は少なくとも１つの鏡又はレ
   ンズを而している特許請求の範囲第２ダ４記・戊の装置
   ｉ＜ｔ。 １０　レーザビームを用いて］−作物に画像を彫刻する
   方法てあって、 し・−ザヒーム源を供給する段階と、 レーザビームを所定の線に沿い第１の方向へと走査する
   段階と、 走査されたレーザビームを第１の平面内の一点へと焦点
   合せする段階と、 円筒形鏡手段であって該円筒形鏡手段の反則面に対し少
   なくとも近似した関係て図案１１す１像手段が設けられ
   ている円筒形鏡手段を前記第１の平面内に配置する段階
   と、 前記円筒形鏡手段から反射されたレーザビームを工作物
   の表面がある平面内の一点へと焦点合せする段階と、 前記円筒形鏡手段と前記工作物の少なくとも一方をレー
   ザビームの走査線に対し直角方向にイ目対並進運動させ
   る段階とを包含するレーザによる画像彫刻方法。 １　］、　　１ｊｉｌ記工作物は前記第１の平面に対し
   概ね平行な平面内に位置している特許請求の範囲第１０
   項記載の方法。 １２、前記工作物及び前記円筒形鏡手段は（１４℃ね同
   一平面内に位置している特許請求の範囲第１０　Ｊｓｉ
   記載の方法。 １３、前記焦点合せする段階の少なくとも１つは前記図
   案画像手段からの画像を反転させる工程を含んでいる特
   Ｗ’ｌ’　ｊｊｌ’］求の範囲第１２項記載の方法。 １４、　　＋ｉｉｌ記４１記動１１対並進運動わせる段
   階には前記円筒形鏡手段をｒｉｉＪ記上作物上作物方向
   と反対方向に動かず」−４程を含んでいる特許請求の範
   囲１１項記載の方法。 １５　前記和剤並進運動を行なわせる段階には前記円筒
   形鏡手段を前記工作物の運動方向と同一方向に動かず工
   ４！，３を含んでいる特許請求の範囲第１』拝ｆ記載の
   方法。