JPS5950433B2 - 薄板の溶接方法 - Google Patents

薄板の溶接方法

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JPS5950433B2
JPS5950433B2 JP55174699A JP17469980A JPS5950433B2 JP S5950433 B2 JPS5950433 B2 JP S5950433B2 JP 55174699 A JP55174699 A JP 55174699A JP 17469980 A JP17469980 A JP 17469980A JP S5950433 B2 JPS5950433 B2 JP S5950433B2
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JP
Japan
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welding
thin plate
substrate
plate
thin plates
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Application number
JP55174699A
Other languages
English (en)
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JPS57100888A (en
Inventor
多喜夫 中村
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Expired legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01HELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
    • H01H11/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of electric switches
    • H01H2011/0087Welding switch parts by use of a laser beam

Landscapes

  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Manufacture Of Switches (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はばね性のある薄板を基板上に溶接する方法の改
良に関するものである。
リレースイッチの接点部を製造する場合、厚さ約0.5
〜0.7mm程度の矩形体基板上に接点ばねとなる厚さ
0.1mm程度の薄板を基板の一側縁に沿つて溶接して
いる。
この場合、従来は電気抵抗溶接法によりばね板を基板上
に圧接しているが電極棒をばね板の一側縁に沿つて押圧
して溶接するため溶接後ばね板の自由端部が浮き上り所
望の密着状態が得られず、また薄板および基板の場所的
な表面状態(酸化膜の形成あるいは不純物の付着等)の
差により接触抵抗が異なり溶接状態が変化して均一な溶
接が達成されない場合があつた。本発明は上記の点に鑑
みなされたものであつて、薄板の一端縁を別の基板に溶
接する場合に溶接していない薄板の自由端部と基板との
密着性を良好にし均一な溶接状態が得られる薄板の溶接
方法の提供を目的とする。
このため本発明においては、薄板を湾曲させ又は基板の
ほぼ上面全体にわたる凹所を形成して該薄板および基板
間に隙間を設け、該隙間を挾んで溶接点近傍およびその
反対側端縁近傍に沿つて上記薄板を基板上に押圧しつつ
溶接点に熱源としてレーザ光を照射して溶接を行うこと
を特徴としている。第1図は本発明の実施状態の溶接機
械の断面図である。
基台1の予め定めた位置に設けた所定形状の受け溝2内
に溶接すべき一方の基板3が嵌合する。この基板3上に
溶接すべき他の一方のばね性を有する薄板4が搭載され
る。薄板4の孔5に基台1に設けたピン6を嵌入させる
ことにより薄板4の位置合せが行なわれる。この薄板4
は上に凸状に湾曲させておく。薄板4の上に配置した押
圧ブロック8によりこの薄板4を基板3上に押圧する。
この押圧ブロック8はその下部両側に押圧部Ba、8b
を有し薄板4の溶接点Aの近傍およびその反対側の自由
端部近傍を押圧固定する。この押圧ブロック8の押圧力
Fはばね板9により与えられる。ばね板9の作用部9a
は押圧ブロック8の押圧部Ba、8b間のほぼ中央に位
置し両方に対しほぼ均一な力を加える。11はレーザ光
照射装置であり、溶接部Aを照射し薄板4と基板3とを
加熱して溶接する。
以上のような溶接方法においては、薄板と基板間に隙間
が形成されるため表面状態の影響が抑制され、また押圧
ブロックにより均一な力で薄板両側縁部が押圧され、ま
た溶接熱源としてレーザ光を用いるため抵抗分布のバラ
つきに左右されず安定して均一でしかも密着性が良く溶
接後自由端部が浮き上がらない良好な溶接状態が得られ
る。
なお、薄板と基板との間に隙間を設けるために第2図に
図すように基板3の上面全体にわたる凹所10を形成し
てもよい。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法を実施するための装置の断面図、第
2図は本発明に係る基板の別の例の断面図である。 3・・・・・・基板、4・・・・・・薄板、8・・・・
・・押圧プロツク、10・・・・・・凹所、11・・・
・・ルーザ光照射装置。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 矩形体基板上をほぼ覆うばね性のある薄板を該基板
    の一側縁に沿つて溶接する方法において、上記薄板を湾
    曲させ又は上記基板のほぼ上面全体にわたる凹所を形成
    して該薄板および基板間に隙間を設け、該隙間を挾んで
    溶接点近傍およびその反対側端縁近傍に沿つて上記薄板
    を基板上に押圧しつつ溶接点にレーザ光を照射して溶接
    を行なうことを特徴とした薄板の溶接方法。
JP55174699A 1980-12-12 1980-12-12 薄板の溶接方法 Expired JPS5950433B2 (ja)

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